能在所述薄膜层之间利用机械力混合被涂层材料，因此，能够提供以解决以上蒸汽分子的相互污染问题或其他问题的状态制造的薄膜群。
[0089]该工序只能在所述薄膜层中的至少一层薄膜形成在被涂层材料表面后实施，此时才能与所述至少一层薄膜层完成混合，而且在原位状态下完成才能保持高的生产性。
[0090]所述薄膜层中的至少一层为所述被涂层材料在原位状态下进一步形成在至少一层薄膜层上后形成在所述被涂层材料表面，才能大量生产薄膜，此时也应由物理蒸镀方法形成才能满足以上本发明的目的。
[0091]所述被涂层材料不使用通过加热进行蒸发的工序，但优选在真空装置内的常温状态下其饱和蒸汽压低。在真空装置内的常温状态下，饱和蒸汽压为100托以下的物质中，饱和蒸汽压越低越好。当将超过100托的物质作为被涂层材料来使用时，虽然因物理蒸镀装置的结构和特性而有差异，但因被涂层材料的蒸汽阻碍或污染薄膜层的形成而引起严重问题。
[0092]所述被涂层材料需要在原位状态下至少指定期间内通过施加物理力量进行移动的工序，因此需要使用流动性物质或可塑性物质，所述被涂层材料被软化为可移动状态的软化点越低越好。
[0093]但是，为了加宽被涂层材料物质的选择范围，所述软化点优选为650°C以下。当使用软化点高于该温度的被涂层材料时，为了将温度提高到所述软化点需要消耗很多能量，而且物理蒸镀装置也为了处理高温的被涂层材料而其结构变复杂，因此严选构造和材料。
[0094]所述薄膜层涂抹时点的所述被涂层材料形成为厚度比所述薄膜层厚。被涂层材料的厚度形成为比所述薄膜层的厚度薄时，需要使用物理蒸镀方法，使用该物理蒸镀方法形成被涂层材料其是脱离本发明范畴的方法，而且为了实施该方法其物理蒸镀装置的结构非常复杂，而且需要的工序也严格。
[0095]在原位状态下，所述混合的被涂层材料不包含溶剂。大部分的溶剂其蒸汽压非常高而成为污染真空装置内的真空氛围的原因，而且还能影响真空栗等很多零件。因此，所述被涂层材料以没有溶剂的状态引起变位，并与所述薄膜层进行混合。
[0096]最终，所述薄膜群的薄膜层中至少部分被粉碎为蒸镀工序时的大小的1/100以下，如上粉碎过程的一部分可以在原位过程中实施，但是可根据需要而卸载到真空容器外部后利用粉碎及选别专用装置进行。
[0097]当所述被涂层材料的粘度为1cps以下时，所述薄膜层在蒸镀状态下难以保持指定条件的薄膜形态，而且其厚度也要属于规定范围内。
[0098]当薄膜层厚度为0.1纳米以下时，难以保持薄膜层形态，当高于50微米时，所述薄膜层难以粉碎成细微薄膜，而且浪费材料，薄膜蒸镀费用也增加。利用以上条件获取的薄膜群在原位状态下或卸载到真空容器外部的状态下，能够生产相较于蒸镀的时点的面积被粉碎为1/100以下大小的薄膜粒子。
[0099]工业利用可能性
[0100]根据本发明的薄膜群、薄膜以及制造方法，作为用于制造导电性糊剂的材料使用由银(Ag)或铜(Cu)或银铜复合层构成的微粒，而且还使用于制造在绿色产品LED芯片的水泥浆、油漆和油墨中混合的颜料、化妆品原料、防晒霜粒子、色素粒子、烧结粒子、电池活性物质、太阳能电池、热电元件、绝缘元件、催化剂微粒、纳米复合物质等的重要材料和技术中。
【主权项】
1.一种薄膜群，其包括在原位状态下通过混合的被涂层材料而以分离状态存在的至少两层薄膜层和在所述至少两层薄膜层之间混有的一层以上被涂层材料，所述薄膜层在蒸镀状态下其最大长度为薄膜层厚度的100倍以上，与所述被涂层材料混合的薄膜层其长度和厚度之比为2倍以上，其特征在于， 所述薄膜层是通过物理蒸镀方法形成的薄膜层，蒸镀时所述薄膜层的至少一部分形成在所述被涂层材料的表面上，所述薄膜层中的至少一层是所述被涂层材料在原位状态下进一步形成在至少其他一层薄膜层上后，通过物理蒸镀方法形成在所述进一步形成的被涂层材料的一部分以上，所述进一步形成的被涂层材料中的至少一部分是通过不经过以蒸汽状态蒸镀的过程而在原位状态下以具有保持所述被涂层材料的流动性的指定范围粘度的状态向所述被涂层材料施加物理力量来引起变位而形成，所述薄膜层的厚度为0.1纳米以上50微米以下，所述被涂层材料为流动性物质或是可塑性物质，所述被涂层材料的至少一个表面物质在25°C下饱和蒸汽压为100托以下，同时软化点为650°C以下， 所述薄膜层涂层时点的所述被涂层材料其厚度比所述薄膜层的厚度厚，粘度为1cps以上，混合在所述薄膜层之间的被涂层材料中至少一部分也不经过以蒸汽状态蒸镀的过程而以保持被涂层材料的流动性的状态引起变位，在原位状态下进行混合，混合在所述至少两层薄膜层之间的被涂层材料的混合工序是在所述薄膜层中的至少一层薄膜层形成在所述被涂层材料的表面后，在原位状态完成，在所述原位状态下混合的被涂层材料不采用在溶剂内溶解被涂层材料的方式，无需溶剂而通过至少向所述被涂层材料施加物理力量进行混合，最终所述薄膜群的薄膜层中的至少一部分被粉碎为薄膜蒸镀工序中大小的1/100以下来使用。2.一种薄膜群，其包括在原位状态下通过混合的被涂层材料而以分离状态存在的至少两层薄膜层和在所述至少两层薄膜层之间混有的一层以上被涂层材料，所述薄膜层在蒸镀状态下其最大长度为薄膜层厚度的100倍以上，与所述被涂层材料混合的薄膜层其长度和厚度之比为2倍以上，其特征在于， 所述薄膜层是通过物理蒸镀方法形成的薄膜层，蒸镀时所述薄膜层的至少一部分形成在所述被涂层材料的表面上，所述薄膜层中的至少一层是在原位状态下通过物理蒸镀方法形成在其他一层以上薄膜层与被涂层材料的一部分一起从所述被涂层材料(或载体)分离而露出的所述被涂层材料的残留部分(或载体)的一部分以上或向所述被涂层材料的残留部分(或载体)进一步供应的被涂层材料的一部分以上的薄膜层，所述进一步供应的被涂层材料中的至少一部分是通过不经过以蒸汽状态蒸镀的过程而在原位状态下以具有保持所述被涂层材料的流动性的指定范围粘度的状态向所述被涂层材料施加物理力量来引起变位而供应，所述薄膜层的厚度为0.1纳米以上50微米以下，所述被涂层材料为流动性物质或是可塑性物质，所述被涂层材料的至少一个表面物质在25°C下饱和蒸汽压为100托以下，同时软化点为650°C以下，所述薄膜层涂层时点的所述被涂层材料其厚度比所述薄膜层的厚度厚，粘度为1cps以上，混合在所述薄膜层之间的被涂层材料中至少一部分也不经过以蒸汽状态蒸镀的过程而经过被涂层材料与所述一层以上薄膜层一起从所述被涂层材料的其他一部分(或载体)分离及收集的过程，并与所述薄膜层一起在原位状态下进行混合，混合在所述至少两层薄膜层之间的被涂层材料的混合工序是在所述薄膜层中的至少一层薄膜层形成在所述被涂层材料的表面后，在原位状态完成，在所述原位状态下混合的被涂层材料不采用在溶剂内溶解被涂层材料的方式，无需溶剂而通过向所述被涂层材料和所述薄膜层施加物理力量，而将所述薄膜层至少粉碎一次以上进行混合，最终所述薄膜群的薄膜层中的至少一部分被粉碎为薄膜蒸镀工序中大小的1/100以下来使用。3.一种薄膜群，其包括在原位状态下通过混合的分离材料而以分离状态存在的至少两层薄膜层和在所述至少两层薄膜层之间混有的一层以上分离材料，所述薄膜层在蒸镀状态下其最大长度为薄膜层厚度的100倍以上，与所述分离材料混合的薄膜层其长度和厚度之比为2倍以上，其特征在于， 所述薄膜层是通过物理蒸镀方法形成(涂层)的薄膜层，蒸镀时所述薄膜层的至少一部分形成在所述被涂层基材(7)表面的一部分上，形成在所述被涂层基材表面的一部分上后，在原位状态下与所述分离材料(9)接合后，与所述分离材料一起从所述被涂层基材分离，所述薄膜层中的至少一层是首先形成在所述被涂层基材上的一层以上薄膜层与所述分离材料接合后，与所述分离材料一起从所述被涂层基材分离后，在原位状态下重新形成在所述被涂层基材上并进行分离，所述薄膜层中的至少两层其分别形成在所述被涂层基材并从所述被涂层基材分离的时点不同，所述被涂层基材中的至少一部分表面是至少反复两次在相同场所形成所述一层以上薄膜层后分离的过程的面，所述分离材料是不经过以蒸汽状态蒸镀的过程而在原位状态下通过物理力量而不是蒸镀工序进行移动而与所述薄膜层接合，还通过物理力量与所述薄膜层一起从所述被涂层基材分离，具有指定范围粘度以在与所述薄膜层接合的时点和指定期间具有流动性的物质，所述薄膜层和所述被涂层基材的粘接力比所述薄膜层和所述分离材料的粘接力弱，所述薄膜层的厚度为0.1纳米以上50微米以下，所述分离材料为流动性物质或是可塑性物质，同时至少一个表面物质在25°C下饱和蒸汽压为100托以下，软化点为650°C以下，与所述薄膜层接合的过程和混合的过程中的至少一部分使用物理力量而不是蒸镀工序，所述薄膜群的薄膜层中的至少一部分被粉碎为薄膜蒸镀工序中大小的1/100以下来使用。4.一种薄膜群制造方法，其包括在原位状态下通过混合的被涂层材料而以分离状态存在的至少两层薄膜层和在所述至少两层薄膜层之间混有的一层以上被涂层材料，所述薄膜层在蒸镀状态下其最大长度为薄膜层厚度的100倍以上，与所述被涂层材料混合的薄膜层其长度和厚度之比为2倍以上，其特征在于， 所述制造方法包括:准备一种以上被涂层材料(复数)的步骤；准备一种以上涂层材料(复数)的步骤；将所述被涂层材料和涂层材料载入(load)到真空容器内的步骤；在所述被涂层材料的至少一部分涂抹由所述涂层材料而成并通过物理蒸镀方法形成的一层以上薄膜层的步骤(a);在所述步骤(a)中涂层的一层以上的薄膜层中至少一部分的上面进一步形成(或移动)被涂层材料的步骤(b);在所述步骤(b)或步骤(b2)中进一步形成的被涂层材料的至少一部分进一步