具有高稳定性的上蜡装置及打磨系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种具有高稳定性的上蜡装置及打磨系统。
【背景技术】
[0002]具有腔体的金属容器，在生产出来后，为了提高其腔内的表面质量，往往需要用磨头对它们的容腔壁进行打磨。为了提高打磨质量，往往需要在磨头上加蜡，现有的的人工上蜡的方式非常耗时，会有上蜡不均匀、漏上蜡的问题，很多的设备厂家也尝试研制过自动上蜡机，但由于其结构设置不合理，上蜡过程中，蜡块容易出现抖动、进给量不稳定等原因，导致很容易出现上蜡过量，导致容腔壁残留了大量的蜡导致打磨质量不好也影响外观，同时造成蜡的大量浪费。
【发明内容】
[0003]本发明要解决的技术问题是:提供一种具有高稳定性的能有效防止蜡块抖动的上蜡装置及打磨系统。
[0004]本发明解决其技术问题的解决方案是:
具有高稳定性的上蜡装置，所述进给机构包括设有第一运动部的一级进给机构、设有第二运动部的二级进给机构；
所述第一运动部与二级进给机构的整体连接；
所述第一运动部可在其活动区间内往复运动/步进运动，所述第二运动部对应地可在其活动区间内步进运动/往复运动；
第二运动部的活动区间的旁侧设有自动进錯口，所述自动进錯口与第二运动部的活动区间连通；
第二运动部的活动区间末端设有出蜡口；在自动进蜡口的下方和/或在出蜡口的旁侧设有可将蜡块压住的弹性压蜡组件。
[0005]作为上述方案的进一步改进，第二运动部包括安装座，安装座上设有用于送蜡的推送部件，推送部件与安装座活动连接，推送部件与安装座之间设有弹性部件。
[0006]作为上述方案的进一步改进，第二运动部的活动区间内设有障碍物感应部件。
[0007]作为上述方案的进一步改进，一级进给机构和二级进给机构的其中之一包括步进电机，另外之一包括直线电机或液压缸或气压缸;步进电机的转轴与螺杆连接，所述螺杆与第一运动部或第二运动部连接，使得第一运动部或第二运动部进行步进运动。
[0008]作为上述方案的进一步改进，所述自动进蜡口设在第二运动部的活动区间的上方。
[0009]作为上述方案的进一步改进，在自动进蜡口的下方设有托蜡板，所述托蜡板与第二运动部连接。
[0010]—种使用上述上蜡装置的打磨系统，包括设置在出蜡口旁侧的磨轮。
[0011]作为上述方案的进一步改进，所述磨轮与调速机构连接。
[0012]本发明的有益效果是:具有高稳定性的上蜡装置，使用时，在第二运动部的活动区间内放入蜡块，第一运动或第二运动部的往复运动可让蜡块在磨头需要上蜡时接近磨头并给磨头上蜡，而在不需要上蜡时远离磨头，以留出磨头加工金属容器的工作空间。第一运动或第二运动部的步进运动可定量地对损坏的蜡块进行位置补偿，节省蜡的同时实现磨头的均匀、适量的上蜡。而且由于弹性压蜡组件的存在，可以防止蜡块的抖动，以实现均匀上蜡。本发明还公开了一种使用上述装置的打磨系统。本发明用于金属容器腔体的打磨。
【附图说明】
[0013]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单说明。显然，所描述的附图只是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他设计方案和附图。
[0014]图1是本发明实施例的结构示意图。
【具体实施方式】
[0015]以下将结合实施例和附图对本发明的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本发明的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本发明的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本发明保护的范围。另外，文中所提到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本发明创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
[0016]参照图1，这是本发明的一个实施例，具体地:
具有高稳定性的上蜡装置，包括进给机构，所述进给机构包括设有第一运动部11的一级进给机构、设有第二运动部12的二级进给机构;所述第一运动部11与二级进给机构的整体连接;所述第一运动部11可在其活动区间内往复运动，所述第二运动部12对应地可在其活动区间内步进运动;第二运动部12的活动区间的旁侧设有自动进錯口；第二运动部12的活动区间末端设有出蜡口。为了防止在上蜡的过程中，蜡块会发生剧烈的抖动而影响上蜡的效果，使本发明能均匀地上蜡，在出蜡口的旁侧设有弹性压蜡组件5。本实施例的弹性压蜡组件5设置在出蜡口的旁侧，便于安装，且实际使用效果较好。
[0017]使用时，在第二运动部12的活动区间内放入蜡块，第一运动部11的往复运动可让蜡块在磨头需要上蜡时接近磨头并给磨头上蜡，而在不需要上蜡时远离磨头，以留出磨头加工金属容器的工作空间。第二运动部12的步进运动可定量地给磨头上蜡，节省蜡的同时实现磨头的均匀、适量的上蜡。而且由于弹性压蜡组件的存在，可以防止蜡块的抖动，以实现均匀上蜡。
[0018]为了防止上蜡块的进给量过大，蜡块出现断裂，也为了更均匀地对磨头进行上蜡，让第二运动部12包括安装座122，安装座122上设有用于送蜡的推送部件121，推送部件121与安装座122活动连接，推送部件121与安装座122之间设有弹性部件123。
[0019]为了防止缺蜡，让人们及时补充蜡块，第二运动部12的活动区间内设有障碍物感应部件3，一旦障碍物感应部件3没有感应到它的工作区域内没有物体，那么就会给外设的警报装置，提醒人们补充蜡。
[0020]为了减少构件以降低成本，所述自动进蜡口设在第二运动部12的活动区间的上方，让蜡块可以在自身的重力作用下，通过自动进蜡口进入第二运动部12的活动区间内。
[0021]通常，在自动进蜡口的上方往往会放有多个长度较长的蜡块，为了防止蜡块掉落在第二运动部12的后端，在自动进錯口的下方设有托錯板4，所述托錯板4与第二运动部12连接。
[0022]考虑到成本和制造难度的因素，一级进给机构包括气压缸，一级进给机构包括步进电机;步进电机的转轴与螺杆124连接，所述第一运动部与螺杆124连接。而螺杆124与安装座122连接，故螺杆124的设置能精确地对损耗蜡块进行位置补偿。
[0023]—种使用上述具有高稳定性的上蜡装置的打磨系统，包括设置在出蜡口旁侧的磨头，由于使用了本发明的具有高稳定性的上蜡装置，故本系统可实现磨头的均匀、适量的上蜡。
[0024]进一步地，因为打磨时需要磨头高速旋转，而在上蜡时最好是磨头处于低速旋转状态，故让磨头与调速机构连接。
[0025]以上对本发明的较佳实施方式进行了具体说明，但本发明创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本发明精神的前提下还可作出种种的等同变型或替换，这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
【主权项】
1.具有高稳定性的上蜡装置，包括进给机构，其特征在于:所述进给机构包括设有第一运动部(11)的一级进给机构、设有第二运动部(12)的二级进给机构； 所述第一运动部(11)与二级进给机构的整体连接； 所述第一运动部(11)可在其活动区间内往复运动/步进运动，所述第二运动部(12)对应地可在其活动区间内步进运动/往复运动； 第二运动部(12 )的活动区间的旁侧设有自动进錯口 ； 第二运动部(12)的活动区间末端设有出蜡口 ； 在自动进蜡口的下方和/或在出蜡口的旁侧设有可将蜡块压住的弹性压蜡组件(5)。2.根据权利要求1所述的具有高稳定性的上蜡装置，其特征在于:第二运动部(12)包括安装座(122)，安装座(122)上设有用于送蜡的推送部件(121)，推送部件(121)与安装座(122)活动连接，推送部件(121)与安装座(122)之间设有弹性部件(123)。3.根据权利要求2所述的具有高稳定性的上蜡装置，其特征在于:第二运动部(12)的活动区间内设有障碍物感应部件(3 )。4.根据权利要求1至3中任意一项所述的具有高稳定性的上蜡装置，其特征在于:一级进给机构和二级进给机构的其中之一包括步进电机，另外之一包括直线电机或液压缸或气压缸;步进电机的转轴与螺杆(124)连接，所述螺杆(124)与第一运动部(11)或第二运动部(12)连接，使得第一运动部(11)或第二运动部(12)进行步进运动。5.根据权利要求1至3中任意一项所述的具有高稳定性的上蜡装置，其特征在于:所述自动进蜡口设在第二运动部(12)的活动区间的上方。6.根据权利要求5所述的具有高稳定性的上蜡装置，其特征在于:在自动进蜡口的下方设有托錯板(4)，所述托錯板(4)与第二运动部(12 )连接。7.—种设有如权利要求1至6中任意一项所述的具有高稳定性的上蜡装置的打磨系统，包括磨轮，其特征在于:磨轮设在所述出蜡口的旁侧。8.根据权利要求7所述的打磨系统，其特征在于，所述磨轮与调速机构连接。
【专利摘要】本发明公开了一种具有高稳定性的上蜡装置及打磨系统，所述进给机构包括设有第一运动部的一级进给机构、设有第二运动部的二级进给机构；使用时，在第二运动部的活动区间内放入蜡块，第一运动或第二运动部的往复运动可让蜡块在磨头需要上蜡时接近磨头并给磨头上蜡，而在不需要上蜡时远离磨头，以留出磨头加工金属容器的工作空间。第一运动或第二运动部的步进运动可定量地对损坏的蜡块进行位置补偿，节省蜡的同时实现磨头的均匀、适量的上蜡。而且由于弹性压蜡组件的存在，可以防止蜡块的抖动，以实现均匀上蜡。本发明公开一种使用上述装置的打磨系统。本发明用于金属容器腔体的打磨。
【IPC分类】B24B41/00, B24B29/02
【公开号】CN105563297
【申请号】CN201610109107
【发明人】刘达, 高伟强, 戴太清, 刘汝发
【申请人】佛山市科莱机器人有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2016年2月26日