技术特征：
技术总结
本发明公开了一种内腔调控钠流法材料生长反应釜，包括釜体和设在釜体内的坩埚，所述坩埚的底面和侧壁分别设有加热器，坩埚中设有内腔体，内腔体中设有晶种，釜体上设有进气口和出气口，坩埚内设有位于内腔体一侧的阀门和阀门驱动装置，阀门与阀门驱动装置连接。本发明通过阀门驱动装置驱动阀门转动、平动或者摇摆运动，使晶种表面的液体镓源发生可控流动，进一步促进反应前的过饱和溶液与反应过后的残余溶液交替运动，提高材料生长速率和质量。
技术研发人员：胡西多
受保护的技术使用者：东莞理工学院
技术研发日：2018.01.11
技术公布日：2018.07.20