专利名称：基料组合物的制作方法
基料组合物本申请是基于申请号为200680003108. X，名称为“基料组合物”的原始中国专利申
请的分案申请。本发明涉及基料组合物，尤其涉及用于漆或浸渍剂中的水性基料组合物。漆可以宽泛地认为包括三种成分基料，溶剂和颜料。基料总体上讲是成膜用组分，它与溶剂一起形成了用于将颜料分配到所选择的基材上的媒介物。在本领域中普遍地接受的是，在漆中基料的选择能够决定漆的许多性能。装饰性漆可以是溶剂型或水性的；在后一种情况下，水性硅烷乳液用于保护户外表面如混凝土或建筑物正面免受雨水和大气损害。用于此目的的漆包括持久的拒水漆、防污漆、抗刻划漆等等。防腐漆用于各种应用中保护基材免遭腐蚀。一种此类的漆是所谓的车间预涂底漆。车间预涂底漆或预构造底漆通常作为保护涂料的薄涂层施涂到基材上。例如，重型钢结构工业(如造船工业)的热轧钢一般在线使用自动化程序进行喷砂处理，然后立即涂覆车间预涂底漆的薄层。有效的车间预涂底漆应该具有下面的质量-具有足够的储存期限和贮存期；-容易喷雾，特别以薄层形式；-合理快速地干燥；-为基材提供良好的腐蚀保护作用；-提供良好的耐机械性能；-不干涉基材所可能进行的焊接和切削操作；-承受基材所可能进行的焊接和切削操作的热和应力；-在焊接操作中不引入危害健康的物质，如有毒烟气等的释放；-为将要施涂到其表面上的其它涂层提供相容性，称为“罩涂性”。本领域已知的一种类型的基料是硅酸盐型基料。例如，EP-A-346385公开了包括硅酸盐型基料的漆组合物，但需要使用挥发性溶剂。一般，从环境考虑，挥发性溶剂在漆组合物中的使用应该避免。US 6，468，336，WO 02/22745和WO 03/02四40公开了用于钢的底涂料，以水基的
可溶性碱金属硅酸盐为基础。EP-A-1191075公开了具有基料的水溶性车间预涂底漆组合物，该基料包括至少一种ω -氨烷基三烷氧基硅烷，至少一种强酸和至少一种具有三烷氧基或烷基二烷氧基硅烷和环氧基作为端基的化合物的反应产物。这一基料用于双组分体系的第一组分中，第二组分包括细分散的锌。虽然这些已知的基料的使用允许组合物是水溶性的并因此避免了挥发性溶剂的使用，但是已经发现，此类底漆具有差的长期性能并且在该车间预涂底漆罩涂了适合于浸渍作业的漆体系并浸泡在水中之后容易起泡。这是造船工业的重要问题。本发明的实施方案的一个目的是解决上述问题并提供基料组合物，该组合物很少含或不含挥发性溶剂并减少了当罩涂和浸泡在水中时的起泡。根据本发明的第一方面，提供了在所附权利要求中要求的水性基料组合物。根据本发明的附加方面，提供了根据在所附权利要求中要求的制备低聚物或聚合物，漆组合物， 双组分漆组合物，硅氧烷聚合物组合物和包括硅氧烷聚合物的基料组合物的方法。下面公开了本发明的各个方面的进一步优选的特征。优选，基料组合物是防腐漆基料组合物，更具体地说防腐底漆基料组合物。优选， 基料组合物是水性漆基料组合物。优选，基料组合物是装饰性的漆基料组合物。优选，该基料组合物是保护漆基料组合物。另外地，该基料组合物是拒水性浸渍剂基料组合物，优选用于纺织品或墙壁使用。在聚合过程中，通式I和通式I 1(如果存在)的单体聚合即水解以及硅烷醇，烃氧基或乙酰氧基硅烷缩合和释放醇，R33OOH, R34COOH或水。醇，R33COOH, R34COOH或水可以分离，通常从反应混合物中蒸馏出来，留下一般具有[-O-Si-O-Si-]骨架的聚合物产物。 因此，R1 (和R8，如果存在的话)应该选择成任何合适的结构部分，考虑到诸如R1 (和R8) 的化学性质和空间性能，允许这一聚合反应在有利的速率下进行。对于化学性质，不仅指 Si-OR1 (Si-OR8)承受水解的电位和因此聚合并释放醇，R33COOH, R34COOH或水，而且应当考虑在反应体系中存在的其它化学品，而且R1(Rs)基团应该在选择时要求不优先与这些其它基团在反应条件下反应，从而避免聚合反应。优选，R1进行选择以使R1O-是良好的离去基团。术语良好的离去基团是指R1O-基团当从它所键接到的硅原子上脱离时具有良好的能量稳定性。优选，R8进行选择以使R8O-是良好的离去基团。术语良好的离去基团是指R8O-基团当从它所键接到的硅原子上脱离时具有良好的能量稳定性。pKa小于或等于16，更优选小于或等于15，最优选小于或等于14 (在H2O中在下测量)的分子可以被认为是良好的离去基团。优选，Rx和/或Ry是任何C1到Cltl 二价有机桥连基团。优选，Rx和/或Ry独立地选自任何亚烷基，亚烯基，亚炔基，亚芳烷基或亚芳基，或它们的任何组合。至于术语“在基团-NR2R3内的至少一个氮基团直接键接于Rz基团”，应该理解，所提及的至少一个氮基团不仅是-MR2R3基团，而是另外或此外可以存在于该R2基团，该R3基团，或两者中。例如，如果R2或R3被选择为-Ry-NRvRw,则所提及的至少一个氮基团可以是第一个-Ry-MRvRw基团或后续的-Ry-MRvRw基团。为避免引起疑惑，当Rz是通式VI，-C(O)R32-,的环状片段时，这指R2和R3或Rv和 Rw中的一个或多个一起形成了环状基团使得基团-NR2R3或-NRvRw可以独立地由通式VI表示，因此，在这种情况下，在直接键接于基团Rz上的基团-NR2R3内的该至少一个氮基团中的至少一个可以由通式VI表示。在这里使用的术语“烷”或“烷基”，除非另外有定义，应该指属于直链、支链、环状或多环结构部分或它们的组合的饱和烃基团并且含有1到20个碳原子，优选1到10个碳原子，更优选1到8个碳原子，再更优选1到6个碳原子，仍然更优选1到4个碳原子。这些基团任选被氯，溴，碘，氰基，硝基，OR19, OC(O)R20, C(O)R21, C(O)OR22, NR23R24, C(O)NR25R26, SR27, C (0) SR27, C⑶NR25R26,芳基或Het取代，其中R19到R27各自独立地表示氢，芳基或烷基，和/或被一个或多个氧或硫原子，或被硅烷基或二烷基硅氧烷基团所插入。此类基团的例子可以独立地选自甲基，乙基，正丙基，异丙基，正丁基，异丁基，仲丁基，叔丁基，2-甲基丁基，戊基，异戊基，己基，环己基，3-甲基戊基，辛基等等。在这里使用的术语“亚烷基”指以上定义的二价烷基。例如，烷基如表示为-CH3的甲基当表示为亚烷基时变成亚甲基，-CH2_。 应由此理解其它亚烷基。在这里使用的术语“烯基”指属于直链、支链、环状或多环结构部分或它们的组合的具有一个或几个(优选至多4个)双键的烃基，并含有2到18个碳原子，优选2到10个碳原子，更优选2到8个碳原子，再更优选2到6个碳原子，仍然更优选2到4个碳原子。 这些基团任选被羟基，氯，溴，碘，氰基，硝基，OR19, OC(O)R20, C(O)R21, C(O)OR22, NR23R24, C(O) NR25R26, SR27，C(O)SR27, C⑶NR25R26,芳基或Het取代，其中R19到R27各自独立地表示氢，芳基或烷基，和/或被一个或多个氧或硫原子，或被硅烷基或二烷基硅氧烷基团所插入。此类基团的例子可以独立地选自烯基，后者包括乙烯基，烯丙基，异丙烯基，戊烯基，己烯基，庚烯基，环丙烯基，环丁烯基，环戊烯基，环己烯基，1-丙烯基，2- 丁烯基，2-甲基-2- 丁烯基， 异戊二烯基，法呢基，香叶基，香叶基香叶基等等。在这里使用的术语“亚烯基”指以上定义的二价基团烯基。例如，烯基如表示为-CH = CH2的乙烯基当表示为亚烯基时变成亚乙烯基，-CH = CH-。应由此理解其它亚烯基。在这里使用的术语“炔基”指属于直链、支链、环状或多环结构部分或它们的组合的具有一个或几个(优选至多4个)叁键的烃基，并含有2到18个碳原子，优选2到10个碳原子，更优选2到8个碳原子，再更优选2到6个碳原子，仍然更优选2到4个碳原子。 这些基团任选被羟基，氯，溴，碘，氰基，硝基，OR19, OC(O)R20, C(O)R21, C(O)OR22, NR23R24, C(O) NR25R26, SR27，C(O)SR27, C⑶NR25R26,芳基或Het取代，其中R19到R27各自独立地表示氢，芳基或低级烷基，和/或被一个或多个氧或硫原子，或被硅烷基或二烷基硅氧烷基团所插入。 此类基团的例子可以独立地选自炔基，后者包括乙炔基，丙炔基，炔丙基，丁炔基，戊炔基， 己炔基等等。在这里使用的术语“亚炔基”指以上定义的二价基团炔基。例如，炔基如表示为-C ε CH的乙炔基当表示为亚炔基时变成亚乙炔基，-C ε C-。应由此理解其它亚炔基。在这里使用的术语“芳基”指通过一个氢的除去从芳族烃衍生的有机基团，并且包括在各环中有至多7元的任何单环，二环或多环族碳环，其中至少一个环是芳族的。这些基团任选被羟基，氯，溴，碘，氰基，硝基，OR19，OC (0) R20, C (0) R21，C (0) OR22, NR23R24, C (0) NR25R26, SR27, C(O)SR27, C⑶NR25R26,芳基或Het取代，其中R19到R27各自独立地表示氢，芳基或低级烷基，和/或被一个或多个氧或硫原子，或被硅烷基或二烷基硅基团所插入。此类基团的例子可以独立地选自苯基，对-甲苯基，4-甲氧基苯基，4-(叔-丁氧基)苯基，3-甲基-4-甲氧基苯基，4-氟苯基，4-氯苯基，3-硝基苯基，3-氨基苯基，3-乙酰胺基苯基，4-乙酰胺基苯基，2-甲基-3-乙酰胺基苯基，2-甲基-3-氨基苯基，3-甲基-4-氨基苯基，2-氨基-3-甲基苯基，2，4- 二甲基-3-氨基苯基，4-羟苯基，3-甲基-4-羟苯基，1-萘基，2-萘基，3-氨基-1-萘基，2-甲基-3-氨基-1-萘基，6-氨基-2-萘基，4，6- 二甲氧基_2_萘基，四氢萘基，茚满基，联苯基，菲基，蒽基或苊基等等。在这里使用的术语“亚芳基”指以上定义的二价基团芳基。例如，芳基如表示为-Wi的苯基当表示为亚芳基时变成亚苯基，_Ph-。应由此理解其它亚芳基。在这里使用的术语“芳烷基”指通式烷基-芳基的基团，其中烷基和芳基具有与以上相同的定义并且可以经由烷基或它的芳基部分连接于相邻的基团上。此类基团的例子可以独立地选自苄基，苯乙基，二苄基甲基，甲基苯基甲基，3- (2-萘基)-丁基，等等。在这里使用的术语“亚芳烷基”指以上定义的二价基团芳烷基。例如，芳烷基如表示为-Bn的苄基在表示为亚芳烷基时变成亚苄基，-Bn-。应由此理解其它亚芳烷基。在这里使用时术语“Het”包括四-到-十二元，优选四-到-十元环体系，该环含有选自氮，氧，硫和它们的混合物中的一个或多个杂原子，并且该环可以含有一个或多个双键或在属性上是非芳族、部分芳族的或全芳族的。环体系可以是单环，二环或稠合的。在这里确定的各“Het”基团任选被一个或多个取代基所取代，该取代基选自商素，氰基，硝基，氧代，低级烷基(该烷基本身可任选被取代或封端，如以下所定义)，OR19, OC (0) R20, C (0) R21，C (0) OR22, NR23R24, C (0) NR25R26, SR27, C (0) SR27或C⑶NR25R26,其中R19到R27各自独立地表示氢，芳基或低级烷基(该烷基本身可任选被取代或封端，如以下所定义)。该术语“Het”因此包括诸如以下这些的基团任选取代的氮杂环丁烷基，吡咯烷基，咪唑基，吲哚基，呋喃基，阁唑基，异阁唑基，阁二唑基，噻唑基，
噻二唑基，三唑基，阁三唑基，噻三唑基，哒嗪基，吗啉基，嘧啶基，吡嗪基，喹啉基，异喹啉基，哌啶基，吡唑基和哌嗪基。在Het上的取代可以是在Het环的碳原子上，或如果合适的话，在一个或多个杂原子上。“Het”基团也可以是N氧化物的形式。为了避免引起疑惑，对于在这里的复合基团中的烷基，烯基，炔基，芳基或芳烷基的引用应该如此解释，例如对于在氨基烷基中的烷基或在烷氧基中的烷应该解释为上述的烷或烷基，等等。 优选地，各R1基团独立地选自氢或任何C1到C6烷基。合适R1基团的例子包括氢，甲基，乙基，丙基，异-丙基，丁基，异丁基，仲丁基，叔丁基，戊基，2-甲基-戊基，3-甲基-戊基，4-甲基-戊基，环戊基，甲基-环戊基，己基，环己基，甲酰基，乙酰基，丙酰基，丁酰基，三氟乙酰基。优选地，各R1基团独立地选自氢或任何(^到(；烷基。更优选，各R1独立地选自氢，甲基，乙基，丙基或丁基。最优选，各R1是甲基或乙基。优选，基团R2或R3中的至少一个是Rz基团。优选，各R4基团独立地选自下面这些中的任何基团氢，甲基，乙基，丙基，异-丙基，丁基，异丁基，仲丁基或叔丁基。在特别优选的实施方案中，各R4基团独立地选自氢，甲
基或乙基。优选，各俨基团独立地选自下面这些基团中的任何基团氢，甲基，乙基，丙基， 异-丙基，丁基，异丁基，仲丁基或叔丁基。在特别优选的实施方案中，各R33基团独立地选自氧，甲基或乙基。优选，各R34基团独立地选自下面基团中的任何基团氧，甲基，乙基，丙基，异-丙基，丁基，异丁基，仲丁基或叔丁基。在特别优选的实施方案中，各妒4基团独立地选自氢，甲
基或乙基。优选，各R5基团独立地选自任何C1到C4烷基或C6到Cltl芳基。最优选，各R5基团独立地选自下面这些基团中的任何基团甲基，乙基，丙基，
异-丙基，丁基，异丁基，仲丁基，叔丁基，苯基或苄基。在特别优选的实施方案中，各R5基团独立地选自氢，甲基或乙基。优选，各Rz基团独立地选自-(C = 0) R4。在特别优选的实施方案中，=0)H基团。通式I的单体优选包括至少一个N-甲酰基端基，即至少一个> N-(C = 0)H端基。 优选，各R3基团独立地选自氢，甲基，乙基，丙基，异丙基，丁基，异丁基，仲丁基，叔丁基，-(CH2)pN[(C = 0)H]Rw，-(CH2)pN[(C = 0)CH3JRff, -(CH2)pN[(C = 0)CH2CH3]Rw，-(CH2) PNH[(C = 0)H], -(CH2)pNH[(C = 0)CH3], -(CH2)pNH[(C = 0)CH2CH3], -(CH2)pN[(C = 0)H] CH3, -(CH2)pN[(C = 0)CH3]CH3，其中 ρ 可以等于 1，2，3 或 4。优选，ρ = 1，2 或 3，更优选 ρ =2或3。在特别优选的实施方案中ρ = 2。在特别优选的实施方案中，各R3基团选自氢，甲基，乙基，丙基，(CH2)pN[(C = O)H] Rw，- (CH2) PN [ (C = 0) CH3] Rff, _ (CH2) PNH [ (C = 0) H]或-(CH2) PNH [ (C = 0) CH3]，其中 ρ 如上所定义。优选地，各R8基团独立地选自氢或任何C1到C6烷基。合适R8基团的例子包括但不限于氢，甲基，乙基，丙基，异-丙基，丁基，异丁基，2-甲基丁基，3-甲基丁基，叔丁基，戊基，2-甲基戊基，3-甲基戊基，4-甲基戊基，环戊基，甲基环戊基，己基，环己基。更优选地， 各R8基团独立地选自氢或任何C1到C4烷基。更优选，各R8基团独立地选自氧，甲基，乙基， 丙基或丁基或它们的支化变型。最优选，各R8是甲基或乙基。合适R9基团的例子包括但不限于氢，甲基，乙基，丙基，异-丙基，丁基，异丁基， 叔丁基，戊基，环戊基，己基，环己基，庚基，辛基，乙烯基，苯基，3-环氧丙氧基丙基，3，4-环氧基环己基-乙基，3-甲基丙酰氧基丙基，乙酰氧基乙基，乙酰氧基甲基，巯基丙基。在可选的实施方案中，各R4基团可以独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基或任何具有通式V的基团
权利要求
1.包括低聚物或聚合物的用于漆的水性基料组合物，该低聚物或聚合物由通式I的至少一种单体形成其中各R1基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基或-(C = 0) R33基团；各R33基团独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基，其中各R2基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基，Rz或-Ry-NRvRw基团；各R3基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基，Rz或-Ry-NRvRw基团；各Rx基团是二价有机桥连基团，和其中各Ry基团与以上Rx基团相同定义，各Rv基团与以上R2基团相同定义，各Rw基团与以上R3基团相同定义，其中R2和/或R3可以独立地是基团-Ry-NRvRw和各Rv和/或Rw能够本身独立地是-Ry-NRvRw,该-Ry-NRvRw基团在通式I的硅基团和各末端-Ry-NRvRw基团之间重复不超过 6次，其中末端基团被定义为R2、R3，Rv或Rw选自氢，烷基，烯基，炔基，芳基，芳烷基或Rz基团；Rz 是-(C = 0)R4 或-(C = 0)-OR5,
2.根据权利要求1的水性基料组合物，其中水性基料组合物是漆基料组合物。
3.根据权利要求1或权利要求2中任何一项的水性基料组合物，其中各Rz基团独立地选自-(C = 0) H，- (C = 0) CH3, - (C = 0) CH2CH3, - (C = 0) CH2CH2CH3, - (C = 0) CH (CH3) CH3, - (C =0) CH2CH (CH3) CH3, - (C = 0) C (CH3) 3，- (C = 0) -OCH3, - (C = 0) -OCH2CH3, - (C = 0) -OCH (CH3) CH3, -(C = 0)-OCH2CH (CH3) CH3, -(C = 0)-OC (CH3) 3。(R1O-) mSi (-Rx-NR2R3)
4.根据前述权利要求任一项的水性基料组合物，其中通式I的单体包括至少一种N-甲酰基端基。
5.根据前述权利要求任一项的水性基料组合物，该低聚物或聚合物由通式I的至少一种单体衍生，其中通式I的至少一种单体为用于生产聚合物的总单体的至少10重量％。
6.根据前述权利要求任一项的水性基料组合物，其中低聚物或聚合物此外由 0. 1-99% (基于用于生产该低聚物或聚合物的总单体的重量)的至少一种通式II单体形成。
7.根据前述权利要求任一项的水性基料组合物，其中该低聚物或聚合物以基料组合物的干重量的99% -1%的量存在于水性基料中。
8.制备低聚物或聚合物的方法，包括以下步骤 i)让至少一种具有通式I的单体 (R1CHmSi (-Rx-NR2R3) 4_mI其中各R1基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基或-(C = 0) R33基团；各R33基团独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基，其中各R2基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基，Rz或-Ry-NRvRw基团；各R3基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基，Rz或-Ry-NRvRw基团；各Rx基团是二价有机桥连基团，和其中各Ry基团与以上Rx基团相同定义，各Rv基团与以上R2基团相同定义，各Rw基团与以上R3基团相同定义，其中R2和/或R3可以独立地是基团-Ry-NRvRw和各Rv和/或Rw能够本身独立地是-Ry-NRvRw,该-Ry-NRvRw基团在通式I的硅基团和各末端-Ry-NRvRw基团之间重复不超过 6次，其中末端基团被定义为R2、R3，Rv或Rw选自氢，烷基，烯基，炔基，芳基，芳烷基或Rz基团；Rz 是-(C = 0)R4 或-(C = 0)-OR5,其中各R4基团独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基，或芳基， 各R5基团独立地选自任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基，其中当R2或Rv是Rz且R2或Rv是-(C = 0)R4时，R2和R3或Rv和Rw可以一起形成环状基团，使得基团-NR2R3或-NRvRw可以各自独立地由通式VI表示
9.根据权利要求8的方法步骤，它包括附加步骤iii)除去所释放的醇，R33COOH, R34COOH和/或水。
10.根据权利要求8或权利要求9的方法，其中反应在可调节反应混合物的pH在6-1 之间的PH调节剂存在下进行。
11.根据从属于权利要求9的权利要求10的方法，其中pH调节剂包括在反应过程中产生的酸 R33COOH 或 R34COOH。
12.包括在权利要求1到7中任一项中所要求的基料组合物的一种漆组合物。
13.根据权利要求12的漆组合物，其中漆组合物是水性聚硅氧烷装饰性或保护性漆组合物。
14.根据权利要求12或权利要求13中任一项的漆组合物，其中漆组合物是防腐漆。
15.根据权利要求12到14中任一项的漆组合物，其中漆组合物是可焊接的车间预涂底漆。
16.双组分漆组合物，包括i)包括在权利要求1到7中任一项中所要求的基料组合物的第一组分；和 )包括至少一种填料和/或锌和/或氧化锌和/或至少一种导电性颜料的第二组分。
17.根据权利要求16的双组分漆组合物，其中该至少一种填料以第二组分的干重量的 1-99 %的量存在于第二组分中。
18.根据权利要求16或17中任一项的双组分漆组合物，其中锌以第二组分的干重量的 1-99 %的量存在于第二组分中。
19.根据权利要求16到18中任一项的双组分漆组合物，其中氧化锌以第二组分的干重量的1-99%的量存在于第二组分中。
20.根据权利要求16到19中任一项的双组分漆组合物，其中该至少一种导电性颜料以第二组分的干重量的1-99%的量存在于第二组分中。
21.根据权利要求16到20中任一项的双组分漆组合物，其中双组分漆组合物的百分比 w/w固体在70%和10%之间。
22.由通式I单体衍生的硅氧烷聚合物组合物 (R1CHmSi (-Rx-NR2R3) 4_mI其中各R1基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基或-(C = 0) R33基团； 各R33基团独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基， 其中各R2基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基，Rz或-RY-NRVRw基团； 各R3基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基，Rz或-RY-NRVRw基团； 各Rx基团是二价有机桥连基团，和其中各Ry基团与以上Rx基团相同定义， 各Rv基团与以上R2基团相同定义， 各Rw基团与以上R3基团相同定义，其中R2和/或R3可以独立地是基团-RY-NRVRw和各Rv和/或Rw能够本身独立地是-RY-NRVRW,该-RY-NRVRw基团在通式I的硅基团和各末端-RY-NRVRw基团之间重复不超过 6次，其中末端基团被定义为R2、R3，Rv或Rw选自氢，烷基，烯基，炔基，芳基，芳烷基或Rz基团；Rz 是-(C = 0)R4 或-(C = 0)-OR5,其中各R4基团独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基，或芳基， 各R5基团独立地选自任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基，其中当R2或Rv是Rz且R2或Rv是-(C = 0)R4时，R2和R3或Rv和Rw可以一起形成环状基团，使得基团-NR2R3或-NRvRw可以各自独立地由通式VI表示
23.根据权利要求22的硅氧烷聚合物组合物，其中硅氧烷聚合物组合物此外由具有通式II的单体衍生(R8O-) qSi (-R9)4_q II其中各R8独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基或-(C = 0) R34基团， 其中各R34基团独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基， 各R9独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基禾口 q = 1-4，其中，通式II的单体为用于生产聚合物的总单体的至少1重量％。
24.包括硅氧烷聚合物P的基料组合物，该聚合物P包括通式III的至少一种侧基或端基 其中R2选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基，Rz或-Ry-NRvRw基团；R3选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基，Rz或-Ry-NRvRw基团；Rx是二价有机桥连基团，和其中各Ry基团与以上Rx基团相同定义，各Rv基团与以上R2基团相同定义，各Rw基团与以上R3基团相同定义，其中R2和/或R3可以独立地是基团-Ry-NRvRw和各Rv和/或Rw能够本身独立地是-Ry-NRvRw,该-Ry-NRvRw基团在通式III的侧基或端基所键接到的硅氧烷聚合物的硅基团与各末端-Ry-NRvRw基团之间重复不超过6次，其中末端基团被定义为R2、R3，Rv或Rw选自氢，烷基，烯基，炔基，芳基，芳烷基或Rz基团； Rz 是-(C = 0)R4 或-(C = 0)-OR5,其中各R4基团独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基， 各R5基团独立地选自任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基，其中当R2或Rv是Rz且R2或Rv是-(C = 0)R4时，R2和R3或Rv和Rw可以一起形成环状基团，使得基团-NR2R3或-NRvRw可以各自独立地由通式VI表示
25.根据权利要求M的基料组合物，其中硅氧烷聚合物组合物由至少10%(基于用于生产聚合物的总单体的重量)的通式I单体形成。
26.根据权利要求M或权利要求25中任一项的基料组合物，其中聚合物P此外包括通式IV的至少一种侧基或端基-R10 IV其中各Rki独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基。
全文摘要
包括低聚物或聚合物的用于漆的水性基料组合物，该低聚物或聚合物由通式I的至少一种单体形成(R1O-)mSi(-RX-NR2R3)4-m I其中在基团-NR2R3内的至少一个氮基团直接键接于RZ基团上，和RZ是-(C＝O)R4或-(C＝O)-OR5。
文档编号C08G77/26GK102516869SQ201110349049
公开日2012年6月27日 申请日期2006年1月25日 优先权日2005年1月25日
发明者M·普莱希尔斯, S·梵隆恩 申请人:西格马涂料有限公司