技术总结
本发明公开了一种选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料，采用稀土有机配合物作为选择性光热填料，采用热致形状记忆聚合物作为聚合物基体材料；所述稀土有机配合物的通式为RMmNn，其中：R表示镱或钕；M表示羧酸类有机配体，m＝0‑4；N表示共轭类有机配体，n＝0‑4。本发明还公开了选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料的制备方法，也即通过物理方法和/或化学方法将选择性光热填料和聚合物基体材料混合制备得到。其中，聚合物基体材料为100份，物理方法混合时光热填料为0.1‑50份，化学方法混合时光热填料为0.1‑20份。本发明有效降低了选择性光热填料的成本，有利于选择性光响应形状记忆聚合物的推广应用。
技术研发人员：方亮;方天余;陈顺平;方姣姣;陆春华;许仲梓
受保护的技术使用者：南京工业大学
文档号码：201611043229
技术研发日：2016.11.11
技术公布日：2017.05.31