一种氟碳阴离子表面活性剂及其制备方法与流程
技术特征：
1.一种氟碳阴离子表面活性剂，其特征在于：其通式为：
其中，
）M为Li、Na、K、Rb、Cs、NH4中的一种；
ii)R为-H或者芳香基团或者C1-C6一价烷基基团或者C1-C6二价末端取代烷基基团；
iii）R1为C1-C6二价烷基基团；
iv）Rf为C3-20全氟长碳链基团或C3-20主链中插入氧原子的全氟烷基或C3-20主链中插入硫原子的全氟烷基或C3-20末端有氢取代的全氟烷基。
2.根据权利要求1所述的一种氟碳阴离子表面活性剂，其特征在于：所述C1-C6二价末端取代烷基基团为-H、-CH3、-CH2CH3、-CH2CH2CH3、-CH(CH3)CH3或-CH2CH2OH。
3.根据权利要求1所述的一种氟碳阴离子表面活性剂，其特征在于：所述C1-C6二价烷基基团为-CH2-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH(CH3)CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2-或-CH2CH2CH2CH2CH2CH2。
4.根据权利要求1所述的一种氟碳阴离子表面活性剂，其特征在于：所述Rf为C3-20全氟烷烃基。
5.根据权利要求1所述的一种氟碳阴离子表面活性剂，其特征在于：所述C3-20主链中插入氧原子的全氟烷基为
-CF2OCF(CF3)2、
-CF(CF3)OCF2CF3、
-CF2CF2OCF2CF3、
-CF(CF3)OCF(CF3)2、
-CF2CF2OCFCF3OCF2CF3、
-CF2CF(CF3)OCF(CF3)2、
-CF2CF(CF3)OCF2CF2CF3、
-CF2CF(CF3)O CF2CF2OCF2CF3、
-CF2CF2O CF2CF2OCF2(CF3)2、
-CF2CF(CF3)O CF2CF2OCF2(CF3)2、
-CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCF2CF2CF3、
-CF2CF2OCF2CF(CF3)OCF2CF2CF3、
-CF2CF(CF3) OCF2CF2OCF2CF2CF3、
-CF2CF2OCF(CF3)OCF2CF2OCF(CF3)2、
-CF2CF2OCF(CF3)OCF2CF2OCF2CF2CF3、
-CF2CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCF(CF3)2、
-CF2CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCF(CF3)2、
-CF2CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCFCF2CF3、
-CF2CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCF2CF(CF3)O CF2CF(CF3)2或
-CF2CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCF2CF(CF3)2。
6.根据权利要求1所述的一种氟碳阴离子表面活性剂，其特征在于：所述C3-20主链中插入硫原子的全氟烷基为
-CF2OCF(CF3)2
-CF(CF3)OCF2CF3、
- CF2CF2SCF2CF3、
-CF(CF3)SCF(CF3)2、
-CF2CF(CF3)SCF(CF3)2、
-CF2CF2SCFCF3SCF2CF3、
-CF2CF(CF3)SCF2CF2CF3、
-CF2CF(CF3)SCF2CF2SCF2CF3、
-CF2CF2S CF2CF2SCF2(CF3)2、
-CF2CF(CF3)SCF2CF2SCF2(CF3)2、
-CF(CF3)SCF2CF(CF3)SCF2CF2CF3、
-CF2CF2SCF2CF(CF3)SCF2CF2CF3、
-CF2CF(CF3)SCF2CF2SCF2CF2CF3、
-CF2CF2SCF(CF3)SCF2CF2SCF(CF3)2、
-CF2CF2SCF(CF3)SCF2CF2SCF2CF2CF3、
-CF2CF(CF3)SCF2CF(CF3)SCF(CF3)2、
-CF2CF(CF3)SCF2CF(CF3)SCF(CF3)2、
-CF2CF(CF3)SCF2CF(CF3)SCFCF2CF3、
-CF2CF(CF3)SCF2CF(CF3)SCF2CF(CF3)S CF2CF(CF3)2或
-CF2CF(CF3)SCF2CF(CF3)SCF2CF(CF3)SCF2CF(CF3)SCF2CF(CF3)2。
7.根据权利要求1所述的一种氟碳阴离子表面活性剂，其特征在于：所述C3-20末端有氢取代的全氟烷基为-CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2H、
-CF(CF3)CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2H、
-CF(CF3)CF2CF2CF(CF3)CF2CF2CF2CF2CF2CF2H、
-CF(CF3)CF2CF2CF(CF3)CF2CF2CF2CF2CF2H、
-CF(CF3)CF2CF2CF(CF3)CF2CF(CF3)CF2CF2H、
-CF2CF2CF2CF(CF3)CF2CF(CF3)CF2CF2H、
-CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2H、
-CF2CF2CF(CF3)CF2CF(CF3)CF2CF2H、
-CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2H、
-CF2CF(CF3)CF2CF2CF2CF2CF2H、
-CF2CF2CF2CF2CF2CF2CF2H、
-CF(CF3)CF2CF2CF2CF2CF2H或
-CF2CF2CF2CF2CF2CF2H。
8.一种氟碳阴离子表面活性剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
i）在氮气保护下，往反应釜中加入1.00摩尔份氨基醇，在0-100℃下，恒温搅拌并滴加1.10-1.50摩尔份全氟烃基取代甲酸或全氟烷基取代甲酸的衍生物，滴加完全，继续反应2~10h，减压蒸馏回收过量的氟化物和反应产生的甲醇，将反应釜放入真空干燥箱干燥过夜，得到含羟基的全氟酰胺。
9.步骤i)中所述的氨基醇，其结构通式为（II）所示：
其中，（1）R为-H或者芳香基团或者C1-C6一价烷基基团或者C1-C6二价末端取代烷基基团；（2）R1为C1-C6二价烷基基团；
）将1摩尔份的步骤i) 所得含羟基的全氟酰胺溶解或不溶解在非质子溶剂中，并冷却至0℃以下，剧烈搅拌并缓慢滴加1.05摩尔份的氯磺酸或氟磺酸，尾气用碱吸收，滴加完毕，升温至室温，并继续反应1h；往反应釜中加入适量冰水混合物，剧烈搅拌30min，分去水层，保留有机层；
iii)往步骤ii）的有机层加入饱和碳酸盐或碳酸氢盐，直到没有气体产生，分去水层，有机层减压浓缩成膏状后，加入体积比为1:2的正丁醇-乙酸乙酯溶液，完全溶解后加入与有机溶剂等体积的蒸馏水，剧烈震荡后静置分层，分去水层，有机层用无水硫酸钠干燥过夜，过滤去硫酸钠，滤液减压蒸馏后放入80℃真空干燥箱干燥过夜。
10.根据权利要求7所述的一种氟碳阴离子表面活性剂的制备方法，其特征在于，所述C1-C6二价末端取代烷基基团为-H、-CH3、-CH2CH3、-CH2CH2CH3、-CH(CH3)CH3或-CH2CH2OH。
- 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞！
- 利用共振瑞利散射法测定阴离子表面活性剂含量的方法与流程
- 一种由羧酸盐阴离子表面活性剂和二聚季铵盐形成的粘弹溶液的制作方法与工艺
- 一种脱氢枞酸基阴离子表面活性剂及其形成的稳定泡沫的制作方法与工艺
- 易降解磷酸盐型阴离子双子表面活性剂及其制备方法和应用与流程
- 水中阴离子表面活性剂在线自动监测系统的制作方法与工艺
- 一类具有羧酸和磺酸双阴离子头表面活性剂及其制备方法与流程
- 用于治疗或预防疟疾的疟原虫表面阴离子通道抑制剂的制造方法与工艺
- 包含酰基谷氨酸盐作为主要表面活性剂或主要阴离子表面活性剂的组合物的制造方法与工艺
- 一种阴离子表面活性剂的干燥设备的制造方法与工艺
- 包含酰基谷氨酸盐作为主要表面活性剂或主要阴离子表面活性剂和特定结构化剂聚合物的组合物的制造方法与工艺
- 利用共振瑞利散射法测定阴离子表面活性剂含量的方法与流程
- 一种脱氢枞酸基阴离子表面活性剂及其形成的稳定泡沫的制作方法与工艺
- 易降解磷酸盐型阴离子双子表面活性剂及其制备方法和应用与流程
- 水中阴离子表面活性剂在线自动监测系统的制作方法与工艺
- 一类具有羧酸和磺酸双阴离子头表面活性剂及其制备方法与流程
- 包含酰基谷氨酸盐作为主要表面活性剂或主要阴离子表面活性剂的组合物的制造方法与工艺
- 一种阴离子表面活性剂的干燥设备的制造方法与工艺
- 包含酰基谷氨酸盐作为主要表面活性剂或主要阴离子表面活性剂和特定结构化剂聚合物的组合物的制造方法与工艺
- 具有阴离子表面活性剂的CNF多孔固体材料的制造方法与工艺
- 包含直链α‑烯烃磺酸盐，阴离子表面活性剂和非离子和/或两性表面活性剂的化妆品组合物和化妆处理方法与流程
- 利用共振瑞利散射法测定阴离子表面活性剂含量的方法与流程
- 一种脱氢枞酸基阴离子表面活性剂及其形成的稳定泡沫的制作方法与工艺
- 易降解磷酸盐型阴离子双子表面活性剂及其制备方法和应用与流程
- 水中阴离子表面活性剂在线自动监测系统的制作方法与工艺
- 一类具有羧酸和磺酸双阴离子头表面活性剂及其制备方法与流程
- 一种阴离子表面活性剂的干燥设备的制造方法与工艺
- 具有阴离子表面活性剂的CNF多孔固体材料的制造方法与工艺
- 包含直链α‑烯烃磺酸盐，阴离子表面活性剂和非离子和/或两性表面活性剂的化妆品组合物和化妆处理方法与流程
- 一种马来海松酸基阴离子表面活性剂及其形成的粘弹溶液的制造方法与工艺
- 一种阴离子型黏弹性表面活性剂及其制备方法和应用与制造工艺