技术特征：
技术总结
本发明提供了一种苯硼酸修饰的中空分子印迹聚合物及采用该聚合物制成的萃取柱，该聚合物的合成方法为以3‑氨基苯硼酸为修饰剂，对甲基丙烯酸单体进行化学修饰，以尿苷为模板，修饰的甲基丙烯酸作为功能单体，加入基质、交联剂和引发剂制备分子印迹材料，对制得的分子印迹材料进行洗脱模板，并采用氢氟酸腐蚀掉基质，制得中空分子印迹聚合物。本发明提供的硼亲和中空分子印迹固相主要是由于分子印迹对模板分子及结构类似物的选择性吸附、并且中空分子印迹的大部分结合位点分布在载体基质材料表面及中空腔内，提高了吸附效率，此外，硼酸基团对含有顺式二醇结构的核苷类物质能实现可逆的吸附和解离，因此对核苷类物质具有明显的富集效果。
技术研发人员：田苗苗;胡月;黄玮;佟育奎;夏琴飞
受保护的技术使用者：哈尔滨师范大学
技术研发日：2016.12.21
技术公布日：2017.09.22