弯曲合成子、其制备方法及制备环苯撑类化合物的方法与流程

技术特征：

1.一种用于制备环苯撑类化合物的弯曲合成子，其具有如式(I)所示的结构：

其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10各自独立地为氢、C1-20烷基或C1-20烷氧基，R11、R12和R13各自独立地为C1-20烷基，并且各个X是相同或不同的卤素原子。

2.根据权利要求1所述的用于制备环苯撑类化合物的弯曲合成子，其特征在于，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10各自独立地为氢或C1-6烷基，R11、R12和R13各自独立地为C1-6烷基。

3.一种制备权利要求1或2所述的弯曲合成子的方法，所述方法包括：

(1)在-78℃～-10℃的温度下，在有机溶剂中，将式(II)的化合物用烷基锂化合物处理以得到相应的芳基锂化合物；

(2)使所述芳基锂化合物与式(III)的化合物发生缩合反应，得到式(IV)的化合物；

(3)在-15℃～25℃的温度下，在碱催化剂存在下，在有机溶剂中，使所述式(IV)的化合物与烷基卤化合物R13X反应，从而得到所述式(I)的化合物，

其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13和X如权利要求1所定义。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述式(II)的化合物用烷基锂化合物处理之后，加入所述式(III)的化合物以发生缩合反应，其中在步骤(2)中得到的所述式(IV)的化合物未经分离而直接用于步骤(3)的反应。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述有机溶剂是四氢呋喃、乙醚、甲苯或乙酸乙酯。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述碱催化剂是氢化钠或氢化钾，并且所述烷基卤化合物是烷基溴代物或者烷基碘代物，如碘甲烷或溴甲烷。

7.一种利用权利要求1或2的弯曲合成子来制备环苯撑类化合物的方法，所述方法包括：

(1)在钯催化剂存在下，使通式(I)的化合物与以下式(V)、(VI)、(VII)、(VIII)、(IX)、(X)、(XI)、(XII)、(XIII)、(XIV)或(XV)所示的硼酸频哪醇酯或其对应的硼酸进行Suzuki偶联反应，得到相应的环状化合物；

其中Bpin代表

(2)在作为还原剂的锂或钠萘试剂存在下，使所得到的环状化合物中的环己二烯结构单元进行还原芳构化反应，从而得到所需的环苯撑类化合物。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述Suzuki偶联反应在50～100℃的温度下进行8～72h。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述还原芳构化反应在-78℃～-10℃的温度下进行0.5～15h。