包含自组装嵌段共聚物的膜和通过旋涂法(IIa)制备该膜的方法_3

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82]
[0083] 在一个实施方式中,膜包含具有下列结构的式(I)的二嵌段共聚物,其中单体具 有外型构型,尤其是,其中η是105且m是870 :
[0084]
[0085] 上述嵌段共聚物可以通过下列方法制备,包括:
[0086] ⑴使用开环易位聚合(ROMP)催化剂聚合下式两个单体之一:
[0088] 获得具有活性链端的开环聚合物;
[0089] (ii)在(i)中获得的开环聚合物的活性链端上聚合两个单体中的另一个,以获得 具有活性端的嵌段共聚物;以及
[0090] (iii)使用可选取代的烷基乙烯基醚封端(ii)中获得的二嵌段共聚物的活性端; 以及
[0091] (iv)氢化(iii)中获得的嵌段共聚物,以获得式(I)或(II)的嵌段共聚物。
[0092] 在上述方法中,首先聚合的单体具有下式:
[0093]
[0094] 在上述单体聚合后,在其上聚合的第二单体是下式的单体:
[0095]
[0096] 第一单体和第二单体可以是外型或内型立体化学构象。在一个实施方式中,第一 和第二单体具有外型构象,例如具有98%或更高的外型异构体的单体。
[0097] 在第一和第二单体中,R1和R2与对于上述式(I)或(II)的嵌段共聚物所述相同。 第一和第二单体是(氧杂)降冰片烯(二)酰亚胺衍生的单体。单体可以通过任意合适的 方法制备,例如,自马来酰亚胺和咲喃开始,经由Diels-Alder反应制备,如下所示:
[0098]
[0099] 第一单体可以经由Mitsunobu偶合反应合成,如下所示:
[0100]
[0101] 或者,笫一单体可以通过外型-7-氧杂降冰片烯-5,6-二酸酐与十六胺反应或 N-十六烷基-马来酰亚胺与咲喃经由Diels-Alder反应而合成。
[0102] 第二单体可以经由N-苯基马来酰亚胺和呋喃在乙腈中进行Diels-Alder反应而 合成,如下所示:
[0103]
[0104] 通过开环烯烃易位聚合(ROMP)进行单体的聚合,其中环烯烃单体通过环烯烃单 体的开环进行聚合或共聚。典型地,含有卡宾配体的过渡金属催化剂作为易位反应的媒介。
[0105] 可以使用任意合适的ROMP催化剂,例如,Grubbs-代、二代和三代催化剂,可以使 用Umicore、Hoveyda-Grubbs、Schroch以及Schrock-Hoveyda催化剂。这类催化剂的实例 包括下列:


[0109] 在一个实施方式中,尤其合适的是Grubbs三代催化剂(G3),因为它们具有多种 优势,例如在空气中的稳定性,耐受多官能团,和/或聚合引发和增长速率快。此外,使用 Grubbs三代催化剂,端基可以设计为与任意相容基团相适应,并且催化剂可以容易地回收。 这类催化剂的一个优选的实例是:
[0110]
[0111] 上述第三代Grubbs催化剂(G3)可以商购得到或者从Grubbs二代催化剂(G2)制 备,如下所示:
[0112]
[0113] 第一单体和第二单体依次聚合,以获得二嵌段共聚物。两个单体的任意一个可以 首先聚合。例如,第一单体可以首先聚合,随后是笫二单体。或者,第二单体可以首先聚合, 随后是笫一单体。
[0114] 典型地,单体的化学纯度是至少95%,优选99%或更高,以及更优选99. 9%或更 高。优选的是,单体不合干扰聚合的杂质,例如会影响ROMP催化剂的杂质。这类杂质的实 例包括胺类、硫醇类(硫醇类)、酸类、膦类以及N-取代马来酰亚胺类。
[0115] 在合适的溶剂例如通常用于进行ROMP聚合的溶剂中进行单体的聚合。合适的溶 剂的实例包括芳香烃,例如苯、甲苯以及二甲苯,脂肪烃,例如η-戊烷、己烷以及庚烷,脂环 烃例如环己烧,以及卤代经,例如二氯甲烷、二氯乙烷、二氯乙烯、四氯乙烷、氯苯、二氯苯和 三氯苯,以及其混合物。
[0116] 当在有机溶剂中进行聚合时,单体浓度可以在1至50wt%,优选2至45wt%,以及 更优选3至40wt%范围内。
[0117] 可以在任意合适的温度下进行聚合,例如,约-20至+100°C,优选10至80°C。
[0118] 聚合可以进行任意合适的时间,以获得各嵌段的适当链长度,这可以是约1分钟 至100小时。
[0119] 可以以任意合适的量选择催化剂的量。例如,催化剂与单体的摩尔比可以是约 1 : 10至约1 : 1000,优选约1 : 50至1 : 500,以及更优选约1 : 100至约1 : 200。例 如,催化剂与单体的摩尔比可以是1 :η和1 :m,其中η和m是平均聚合度。
[0120] 在两个单体聚合之后,通过向聚合混合物中添加可选取代的烷基乙烯基醚对二嵌 段共聚物的链端进行封端。
[0121] 所得二嵌段共聚物前体可以进行氢化以获得式(I)或(II)的嵌段共聚物。例如, 通过使用氢气和催化剂,可以通过任意合适的技术进行氢化。可以使用任意合适的催化剂, 杂相的或均相的。杂相催化剂的实例包括Raney镍、炭载钯、NaBH4还原镍、钼金属或其氧化 物、铑、钌、NaH-R0Na_Ni(0Ac)2以及氧化锌。均相催化剂的实例包括氯三(三苯基膦)铑或 Wilkinson's催化剂,以及氯三(三苯基膦)氢化铑(II)。
[0122] 优选地,通过使用氢气和第二代Grubbs催化剂氢化二嵌段共聚物。通过改变聚合 物和催化剂的摩尔比,可以获得变化的氢化度。可以控制氢化度,以获得部分氢化的嵌段共 聚物,例如,式聚(MlxHMlu/iemCM)的共聚物,其中Ml是第一单体以及HM1是氢代的第一 单体,以及M2是第二单体以及HM2是氢化的第二单体,X和y表示未氢代单体的数目,n-x 和m-y是氢代单体的数目。当进行部分氢化时,所得嵌段共聚物是多嵌段共聚物,例如三 嵌段或四嵌段共聚物。在一个实施方式中,相对于双键负载约1 : 100摩尔当量的催化剂 ([G2]_ :[双键]*尔=约1 : 100)完全氢化前体共聚物。比例可以从约1 : 100至约 1 : 500或约1 : 600变化,可以获得部分氢化的嵌段共聚物。所得共聚物可以是三嵌段、 四嵌段或更高的多嵌段共聚物。在一个实施方式中,部分氢化的材料可以是无规的,由氢化 的和非氢化的单体片段的序列构成。
[0123] 在一个实施方式中,使用G2催化剂在50 °C下进行并且持续24h氢化。
[0124] 可以通过合适的技术例如用非溶剂沉淀分离出二嵌段共聚物。
[0125] 在二嵌段共聚物的制备期间形成的均聚物,以及本发明的氢化嵌段共聚物可以通 过任意已知技术表征它们的分子量和分子量分布。例如,可以使用MALS-GPC技术。该技术 经由高压栗,使用流动相穿过一排填充有固定相的柱子洗脱聚合物溶液。固定相根据链尺 寸分离聚合物样品,随后通过三种不同的检测器检测聚合物。可以使用一系列检测器,例如 紫外检则器(UV-检测器),随后是多角度激光散射检测器(MALS-检测器),接着是一列折 光系数检测器(RI-检测器)。UV-检测器测量聚合物在254nm波长处的光吸收;MALS-检 测器测量聚合物链相对于流动相的散射光。
[0126] 本发明的嵌段共聚物优选是高度单分散的。例如,共聚物的Mw/Mn为1. 01至1. 2, 优选为1. 05至1. 10。
[0127] 本发明提供了包含上述氢化嵌段共聚物,尤其是氢化二嵌段共聚物的多孔膜。根 据本发明的一个实施方式,多孔膜是纳米多孔膜,例如,具有直径在lnm至100nm之间的孔 的膜。
[0128] 在一个实施方式中,通过将嵌段共聚物的溶液旋涂到合适的基材上而制备多孔 膜。为制备膜,首先将嵌段共聚物溶于合适的溶剂或溶剂体系中,并通过旋涂流延为薄膜。
[0129] 可以通过本领域技术人员已知的任意合适方法制备聚合物溶液。将嵌段共聚物加 入到溶剂体系中并搅拌,直到获得均匀溶液。如果需要,溶液可以搅拌延长的时间,使得嵌 段共聚物在溶液中呈现为其热动力学有利的结构。
[0130] 合适的溶剂体系的实施方式包括选自卤代烃类、醚类、酰胺类和亚砜类的溶剂或 溶剂混合物。在一个实施方式中,溶剂体系包括易挥发溶剂,例如,沸点低于100 °c的溶剂。
[0131] 例如,溶剂体系包括选自二氯甲烷、1-氯戊烷、1,1-二氯乙烷、N,N-二甲基甲酰 胺(DMF)、N,N-二甲基乙酰胺(DMA)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、二甲亚砜(DMS0)、四氢呋喃 (THF)、1,3-二氧六环和1,4-二氧六环的溶剂或溶剂混合物。
[0132] 因此,例如,可以使用DMF和THF的混合物,DMA和THF的混合物,DMS0和THF的混 合物,DMS0和1-氯戊烷的混合物,NMP和1-氯戊烷的混合物,DMF和1-氯戊烷的混合物, 1,3-二氧六环和THF的混合物,1,4-二氧六环和THF的混合物,或者1,3-或1,4二氧六环、 DMF和THF的混合物作为溶剂体系。
[0133] 在一个优选的实施方式中,可以使用DMF和THF的混合物,DMA和THF的混合物, DMA和1-氯戊烷的混合物,DMS0和THF的混合物,1,3-二氧六环和THF的混合物,1,4-二 氧六环和THF的混合物作为溶剂体系。
[0134] 在一个更优选的实施方式中,可以使用二氯甲烷或者DMF和THF的混合物作为溶 剂体系。
[0135] 在上述实施方式中,当溶剂混合物用作溶剂体系时,混合物可以包括任意合适比 例的溶剂,例如,在二元溶剂混合物中,任一溶剂可以以80/20、75/25、70/30、65/35、60/40、 55/45或50/50的体积比,或者介于其间的任意比例存在。在三元溶剂体系中,三种溶剂 的任一种可以以任意比例,80/10/10、75/15/10、70/20/10、65/25/10、60/30/10、55/25/30、 40/40/20或30/30/40的体积比,或者介于其间的任意比例存在。
[0136] 聚合物溶液可以含有任意合适量的嵌段共聚物。根据一个实施方式,聚合物溶液 含有约0. 1至约2%,优选约0. 5至约1. 5%,以及更优选约0. 8至1. 2%重量的二嵌段共聚 物。在一个实例中,聚合物溶液含有约1 %重量的嵌段共聚物。聚合物浓度可以控制由旋涂 法获得的薄膜并且因此获得的膜的厚度。
[0137] 旋涂典型地涉及将小体积的聚合物溶液沉积到大致平坦的基材上,优选沉积到基 材中央。可以使用注射器或点滴器沉积聚合物溶液,或从罐连续沉积。
[0138] 当沉积聚合物溶液时,基材可以是固定的或低速旋转的,例如至多约500rpm。在聚 合物溶液沉积之后,将基材加速到高速度,例如约3000rpm或更高。在一个实施方式中,将 基材加速到约1500rpm至约6000rpm的旋转速度。由于旋转所施加的离心力作用,聚合物 溶液沿径向流到基材上,并且多余的聚合物溶液从基材边缘溅出。一旦达到期望的旋转速 度,将旋转速度保持合适的时间长度,例如约1分钟至lh,优选1. 5分钟。在基材上形成的 薄膜持续变薄,直到它达到平衡厚度,或者它变成固体状,因为随着溶剂从其中蒸发,溶液 粘度增加。对于给定的聚合物浓度,通过变化旋转速度,可以控制薄膜厚度。
[0139] 薄膜可以流延至任意合适的厚度,典型地厚度为约50nm至约500nm,,优选约100 至约300nm,以及更优选约100nm。
[0140] 维持在旋转基材上面的气氛可以是任意合适
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