一种夹层式亚胺化炉的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及膜生产设备，具体涉及一种夹层式亚胺化炉。
【背景技术】
[0002]聚酰亚胺薄膜是耐热绝缘的基础材料，聚酰亚胺薄膜的生产基本上是二步法，第一步是合成聚酰胺酸，第二步是成膜亚胺化。成膜方法主要有浸渍法(或称铝箔上胶法)、流延法和流涎拉伸法。流涎法主要设备:不锈钢树脂溶液储罐、流涎嘴、流涎机、亚胺化炉、收卷机和热风系统等。亚胺化炉的温度高达350?400°C，而且，亚胺化炉空气中的水蒸气和有机溶剂随使用时间的延长不断增加，需要技术排出，否则薄膜容易产生脆裂现象。而且溶剂达到一定浓度，会发生爆炸。炉内的腐蚀性溶剂无法采用滤芯等吸收。因此，有必要对现有技术中的亚胺化炉进行结构改进。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种保温效果好的的夹层式亚胺化炉。
[0004]为实现上述技术效果，本实用新型的技术方案为:一种夹层式亚胺化炉，其特征在于，包括内层炉体和外层炉体，所述内层炉体设置在所述外层炉体中，所述内层炉体的顶端设置有进风口，所述内层炉体内设置有加热装置，所述内层炉体的低端设置有出风口，所述外层炉体上设置有排气管，所述排气管上连接有引风装置。
[0005]为了保证排气均匀，优选的技术方案为，所述内层炉体的底端敞口，所述内层炉体的底端通过支承件与外层炉体的底面固定连接。
[0006]为了便于检修，优选的技术方案为，所述内层炉体上设置有第一检修门，所述外层炉体上设置有第二检修门，所述第一检修门与第二检修门的位置相对应。
[0007]为了进一步优化外层炉体的保温效果，优选的技术方案为，所述外层炉体的外表面设置有保温层。
[0008]本实用新型的优点和有益效果在于:
[0009]该夹层式亚胺化炉结构简单，通过将内层炉体的排气引入内层炉体和外层炉体之间的夹层，对内层炉体形成保温效果，能提高热量的使用效率。
【附图说明】
[0010]图1是本实用新型夹层式亚胺化炉的结构示意图。
[0011]图中:1、内层炉体；2、外层炉体；3、加热装置；4、出风口 ；5、引风装置；6、支承件；7、第一检修门；8、第二检修门；9、保温层；10、进风口。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图和实施例，对本实用新型的【具体实施方式】作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
[0013]如图1所示，实施例的夹层式亚胺化炉，包括内层炉体I和外层炉体2，内层炉体I设置在外层炉体2中，内层炉体I的顶端设置有进风口 10，内层炉体I内设置有加热装置3，内层炉体I的低端设置有出风口 4，外层炉体2上设置有排气管4，排气管4上连接有引风装置5。
[0014]在本实施例中，内层炉体I的底端敞口，内层炉体I的底端通过支承件6与外层炉体2的底面固定连接；内层炉体I上设置有第一检修门7，外层炉体2上设置有第二检修门8，第一检修门7与第二检修门8的位置相对应；外层炉体2的外表面设置有保温层9。
[0015]在本实施例中，内层炉体和外层炉体均为不锈钢材料制成，排气管可以与热交换设备相连通，加热内层炉体的进气，进一步提高热量的利用效率。
[0016]以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种夹层式亚胺化炉，其特征在于，包括内层炉体和外层炉体，所述内层炉体设置在所述外层炉体中，所述内层炉体的顶端设置有进风口，所述内层炉体内设置有加热装置，所述内层炉体的低端设置有出风口，所述外层炉体上设置有排气管，所述排气管上连接有引风装置。
2.根据权利要求1所述的夹层式亚胺化炉，其特征在于，所述内层炉体的底端敞口，所述内层炉体的底端通过支承件与外层炉体的底面固定连接。
3.根据权利要求2所述的夹层式亚胺化炉，其特征在于，所述内层炉体上设置有第一检修门，所述外层炉体上设置有第二检修门，所述第一检修门与第二检修门的位置相对应。
4.根据权利要求3所述的夹层式亚胺化炉，其特征在于，所述外层炉体的外表面设置有保温层。
【专利摘要】本实用新型公开了一种夹层式亚胺化炉，包括内层炉体和外层炉体，内层炉体设置在外层炉体中，内层炉体的顶端设置有进风口，内层炉体内设置有加热装置，内层炉体的低端设置有出风口，外层炉体上设置有排气管，排气管上连接有引风装置。该夹层式亚胺化炉结构简单，通过将内层炉体的排气引入内层炉体和外层炉体之间的夹层，对内层炉体形成保温效果，能提高热量的使用效率。
【IPC分类】C08L79-08, C08J5-18
【公开号】CN204550449
【申请号】CN201520089302
【发明人】周永南, 冯明月
【申请人】江阴通利光电科技有限公司
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年2月9日