并通过揽拌相互混合。优选地，首先将光引 发剂溶解在该一种或多种溶剂中，然后加入其它组分。此后任选借助过滤，优选借助精滤进 行提纯。
[0041] 本发明还提供包含基底和可通过用本发明的涂料涂覆基底获得的表面涂层的层 压件。在此，根据本发明提供在抗刮性、耐溶剂性和可金属化表面方面具有有利的表面性能 的涂覆的基底。
[0042] 由于在借助薄膜嵌入成型法制造塑料部件的领域中表面的金属化特别重要，并且 通过本发明有利地实现改进，根据本发明涂覆的基底优选包括薄膜。
[0043] 因此，本发明还提供涂覆的薄膜，其包含热塑性聚合物薄膜和可通过用本发明的 涂料涂覆获得的涂层。
[0044] 用于涂覆的薄膜优选是热塑性塑料，如聚碳酸醋、聚丙締酸醋或聚（甲基）丙締酸 醋、聚讽、聚醋、热塑性聚氨醋和聚苯乙締和它们的共聚物和混合物(共混物）。合适的热塑 性塑料是例如聚丙締酸醋、聚（甲基）丙締酸醋（例如PMMA;例如来自制造商R6hm的 Plexiglas ? )、环締控共聚物（C0C;例如来自制造商Ticona的Topas ? ;来自制造商Nippon Zeon的Zenoex ?或来自制造商Japan Synthetic Rut)be;r的Apel ? )、聚讽（来自制造商BASF 的叫trasonO或来自制造商Solvay的Udel ? )、聚醋例如PET或阳N、聚碳酸醋(PC)、聚碳酸 醋/聚醋共混物例如PC/PET、聚碳酸醋/聚环己基甲醇环己烧二甲酸醋（PCCD;来自GE的 Xylecs ? )、聚碳酸醋/PBT及其混合物。
[0045] 在本发明的一个特别有利和优选的实施方案中，本发明的层压件的薄膜或根据本 发明涂覆的薄膜的热塑性聚合物包括聚碳酸醋或共聚碳酸醋。
[0046] 适用于制造本发明的聚碳酸醋组合物的聚碳酸醋是所有已知的聚碳酸醋。运些是 均聚碳酸醋、共聚碳酸醋和热塑性聚醋碳酸醋。合适的聚碳酸醋优选具有18000至40000,优 选26000至36000,尤其是28000至35000的平均分子量擾W，其通过光散射校准通过在二氯甲 烧或等重量的苯酪/邻二氯苯的混合物中测量相对溶液粘度测得。
[0047] 该聚碳酸醋优选通过在文献中已多次描述的相界面法或烙融醋交换法来制备。关 于相界面法，例如参考H. Schnell, ChemistiT and Physics of Polycarbonates, Polymer Reviews,第9卷，Interscience Publishers, New York 1964,第33页及其后， 参考Polymer Reviews,第10卷，"Condensation Polymers by Interfacial and Solution Methods", Paul W. Morgan, Interscience Publishers, New York 1965,第 VIII 章，第325 页，参考 Drs. U. Grigo, K. Kircher 和 P. R. Miiller "Polycarbonate" in Becker/Braun, Kunststoff-Handbuch,第3/1卷，Polycarbonate , Polyacetale, Polyester, Celluloseester, Carl Hanser Verlag, Miinchen, Wien, 1992,第118-145 页，W及参考EP 0 517 044 Al。烙融醋交换法例如描述在化巧clopedia of Polymer Science,第10卷（1969), Chemistry and Physics of Polycarbonates, Polymer Reviews, H. Schnell,第9卷，John Wiley and Sons, Inc. (1964)?及专利文件DE-B 10 31 512和US-B 6 228 973 中。
[0048] 可W通过双酪化合物与碳酸化合物尤其是光气，或在烙融醋交换法中与碳酸二苯 基醋或碳酸二甲醋的反应来获得所述聚碳酸醋。在此特别优选的是基于双酪A的均聚碳酸 醋和基于单体双酪A和1，1-双-(4-?基苯基)-3,3,5-Ξ甲基环己烧的共聚碳酸醋。可用于 聚碳酸醋合成的其它双酪化合物尤其公开在W0 2008/037364 Α1、ΕΡ 1 582 549 A1、W0 2002/026862 A1 和WO 2005/113639 A1 中。
[0049] 该聚碳酸醋可W是直链或支化的。也可W使用支化和非支化聚碳酸醋的混合物。
[0050] 适用于聚碳酸醋的支化剂是文献中已知的并例如描述在专利文件US 4 185 009 B1、DE 25 00 092 A1、DE 42 40 313 A1、DE 19 943 642 A1、US 5 367 044 B1 和其中引用 的文献中。此外，所用聚碳酸醋也可W是固有支化的，其中在运种情况下在聚碳酸醋制备过 程中不添加支化剂。固有分支的一个实例是如EP 1 506 249 A1中对烙融聚碳酸醋公开的 所谓化ies结构。
[0051] 此外，在聚碳酸醋制备中可W使用链终止剂。所用链终止剂优选是酪类，如苯酪、 烷基酪如甲酪和4-叔下基酪、氯酪、漠酪、枯基酪或它们的混合物。
[0052] 该薄膜或3D模制体的热塑性聚合物的（一种或多种)塑料组合物可另外包含添加 剂，例如UV吸收剂、IR吸收剂和其它常规加工助剂，尤其是脱模剂和助流剂，W及常规稳定 剂，尤其是热稳定剂，W及抗静电剂、颜料、着色剂和视觉增亮剂。在此，在每一层中可存在 不同的添加剂或添加剂浓度。
[0053] 可通过用本发明的涂料涂覆获得的涂层W及本发明的涂覆的薄膜特别有利地适 合于具有金属层的涂层。在另一个优选实施方案中，本发明的涂覆的薄膜因此包含在涂覆 的表面上的金属层。该金属层优选包含至少一种选自锡、铅、银、金、钮、销、钻、儘、祕、铜、 儀、铁、铭及其混合物，优选儀、银、金、钮、销、铜和铭，更优选儀、金、钮、铜和铭的金属。
[0054] 本发明还提供制造涂覆的薄膜的方法，其包括步骤 (i) 用本发明的涂料涂覆薄膜； (ii) 干燥所述涂层； (iii) 将所述薄膜任选按尺寸剪切、分层(dekaschieren)、印刷和/或热或机械成型； 和 (iv) 用UV福射照射所述涂层，在此固化所述涂层。
[0055] 在此可W通过用液体涂料涂覆薄膜的常见方法，例如通过刮涂、喷射、诱注、流涂、 浸涂、喷涂、漉涂或旋涂用该涂料涂覆薄膜。流涂法可W用软管或合适的涂覆头手动进行， 或在连续运行中借助流涂机器人和任选的隙缝式喷嘴自动进行。优选通过漉到漉的转移来 施涂该涂料。在运种情况中，可W通过清洁或活化来预处理待涂覆薄膜的表面。
[0056] 在将该涂料施涂到薄膜上之后进行干燥。为此，更特别地用炉中的高溫和流动并 任选也除湿的空气，例如在对流炉中或借助喷气干燥器W及热福射如IR和/或NIR进行操 作。此外，可W使用微波。可W组合多个运些干燥法并且是有利的。步骤（ii)中的涂层干燥 优选包括在室溫和/或升高的溫度下，例如优选在20-200°C下，更优选在40-120°C下通风。 在涂层干燥后，其防粘连，从而可W层压、印刷和/或热成型该涂覆的基底，尤其是涂覆的薄 膜。在此特别优选成型，因为在此通过涂覆的薄膜的成型可W预先确定用于制造 Ξ维塑料 部件的薄膜嵌入成型法的模具。
[0057] 有利地，选择干燥条件W使升高的溫度和/或热福射不引发丙締酸醋或甲基丙締 酸醋基团的聚合(交联），因为运会损害可成型性。此外，应该将达到的最大溫度适当选择为 低的，W使该薄膜不会不受控地变形。
[0058] 在干燥/固化步骤后，该涂覆的薄膜一一任选在与该涂层上的保护薄膜层压 后一一可W卷起。可W进行卷起，而该涂层不会与基底薄膜或层压薄膜的背面粘合。但是， 也可W按尺寸剪切该涂覆的薄膜并将剪切片段单独或W堆叠体形式送往进一步加工。在运 方面特别优选的是将该涂覆的薄膜热成型成Ξ维模具一一如对薄膜嵌入成型法中用热塑 性聚合物如聚碳酸醋后注塑所准备那样进行。在一个优选实施方案中，步骤(iii)包括该涂 覆的薄膜的剪切和热成型。
[0059] 用光化福射固化被理解为是指借助例如由上述光引发剂通过用光化福射的照射 而释放的引发剂自由基进行的締类不饱和碳-碳双键的自由基聚合。
[0060] 优选通过高能福射，即UV福射或日光，例如波长> 200 nm至< 750 nm的光的作 用，或通过用高能电子（电子束，例如> 90 keV至< 300 keV)福照来实现福射固化。用作 光或UV光的福射源是例如中压或高压隶蒸气灯，其中隶蒸气可W通过用其它元素如嫁或铁 渗杂来改性。激光器、脉冲灯（WUV闪光福射器的名称已知）、面素灯或准分子福射器同样可 用。可W将福射器安装在固定位置，W借助机械装置将待照射的物体移动经过福射源，或该 福射器可活动而待照射的物体在固化过程中不改变其位置。在UV固化的情况下通常对交联 足够的福射剂量为含80mJ/cm2至含5000 mJ/cm2。
[0061] 在一个优选实施方案中，光化福射因此是UV光范围内的光。
[0062] 该福射可任选在排除氧的情况下进行，例如在惰性气体气氛或氧气减少的气氛下 进行。合适的惰性气体优选是氮气、二氧化碳、稀有气体或燃烧气体。此外，可W通过用福射 可透的介质覆盖该涂层来实施福射。其实例是塑料薄膜、玻璃或液体如水。
[0063] 根据福射剂量和固化条件，可本领域技术人员已知的方式或通过针对性的预 先试验改变或优化任选使用的引发剂的类型和浓度。为了固化成型的薄膜，特别有利的是 用几个福射器进行固化，应该运样选择它们的布置W使涂层上的每个点尽可能获得对固化 而言最佳的福射剂量和福射强度。特别地，应该避免未照射区域(阴影区）。
[0064] 此外根据所用薄膜