一种自动络筒机张力控制系统的制作方法

文档序号:12519742阅读:698来源:国知局

本实用新型涉及一种络筒机张力技术领域,尤其涉及一种自动络筒机张力控制系统。



背景技术:

络筒张力上是络筒过程中纱线卷绕到筒子之前的张力。络筒时,纱线以一定的速度从管纱上退绕下来,因受到摩擦和拉伸作用而产生了络筒张力。络筒张力是络筒工序中决定产品质量和生产效率的重要参数。络筒张力适当,能使络成的筒子成形良好,结构均匀紧密而不损伤纱线的物理机械性能,并有利于筒子在后道工序中顺利退绕;张力过小,卷绕筒子松软,在搬运、储存、领用时易塌边脱圈,且断头时纱线容易嵌入筒子内部,接头时不易找头,因而降低工作效率;张力过大,卷绕成形不良,非疵点断头增多,纱线制成率下降,纱线浪费多,同时纱线内能消耗大,其内在质量损伤大,使纱线弹性下降,不利于后续加工,影响最终产品的内在质量;张力不稳定,忽大忽小,导致成型内外分层不一致,退绕脱圈等增多,不利于后续加工。



技术实现要素:

为了解决上述问题;本实用新型提供一种自动络筒机张力控制系统,该自动络筒机张力控制系统采用双闭环张力控制结构;既能有效控制退绕张力的波动,又能有效补偿均整无法预见的张力波动;既能实现控制精度的提高,又能实现生产效率的提高。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种自动络筒机张力控制系统,包括槽筒、单锭CPU、张力传感器、张力电磁铁、齿条、齿轮、单片机、伺服电机、光电传感器、气圈控制器、气圈;纱线从槽筒引出,穿过张力电磁铁进入气圈卷绕在管纱上;光电传感器安装在管纱上侧面,与单片机连通;伺服电机与单片机连通,通过轴与齿轮实现联动;齿条一端安装在齿轮上,另一端与气圈控制器连接;气圈置于气圈控制器内腔,通过气圈控制器的上下移动来调整气圈的波动范围。

优选的,所述槽筒与张力电磁铁之间设有张力传感器,张力传感器将实际监测到的张力传到单锭CPU,通过单锭CPU来调节张力电磁铁来改变张力大小。

本实用新型,一种自动络筒机张力控制系统:采用CCD光电传感器,实时采集管纱的退绕位置信号,若有纱线,气圈控制器保持在原位置不动;若无纱线,表明管纱的退绕面已经下移,通过单片机的控制电路和伺服电机的驱动使气圈控制器跟踪下移直至再次检测到纱线为止。故此闭环控制系统可以使纱线气圈形状几乎保持不变,有效地降低空管时退绕张力的波动,故在接近空管时也无需降低槽筒速度,可以有效地提高生产效率。

通过张力值的设定,张力器输出设定的压力值,根据络纱过程中张力控制实际运行的效果,设定一张力,给纱线加压,但在张力装置上方加一张力传感器,张力传感器将实际监测到的张力传到单锭的CPU,通过CPU改变张力加压,从而构成双闭环控制系统。

本实用新型一种自动络筒机张力控制系统,其有益效果是:实现将跟踪式气圈控制器控制退绕张力波动的闭环系统与实时调节附加张力闭环系统进行有机整合,从而实现双闭环控制。既能有效控制退绕张力的波动,又能有效补偿均整无法预见的张力波动;既能实现控制精度的提高,又能实现生产效率的提高。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型一种自动络筒机张力控制系统的结构示意图。

图中,1、槽筒,2、单锭CPU,3、纱线,4、张力传感器,5、张力电磁铁,6、齿条,7、齿轮,8、单片机,9、伺服电机,10、光电传感器,11、管纱,12、气圈控制器,13、气圈。

具体实施方式

请参照图1,本具体实施例,包括槽筒、单锭CPU、张力传感器、张力电磁铁、齿条、齿轮、单片机、伺服电机、光电传感器、气圈控制器、气圈;纱线从槽筒引出,穿过张力电磁铁进入气圈卷绕在管纱上;光电传感器安装在管纱上侧面,与单片机连通;伺服电机与单片机连通,通过轴与齿轮实现联动;齿条一端安装在齿轮上,另一端与气圈控制器连接;气圈置于气圈控制器内腔,通过气圈控制器的上下移动来调整气圈的波动范围。

请参照图1,所述槽筒与张力电磁铁之间设有张力传感器,张力传感器将实际监测到的张力传到单锭CPU,通过单锭CPU来调节张力电磁铁来改变张力大小。

本实用新型中采用CCD光电传感器,实时采集管纱的退绕位置信号,若有纱线,气圈控制器保持在原位置不动;若无纱线,表明管纱的退绕面已经下移,通过单片机的控制电路和伺服电机的驱动使气圈控制器跟踪下移直至再次检测到纱线为止。故此闭环控制系统可以使纱线气圈形状几乎保持不变,有效地降低空管时退绕张力的波动,故在接近空管时也无需降低槽筒速度,可以有效地提高生产效率。

本实用新型中通过张力值的设定,张力器输出设定的压力值,根据络纱过程中张力控制实际运行的效果,设定一张力,给纱线加压,但在张力装置上方加一张力传感器,张力传感器将实际监测到的张力传到单锭的CPU,通过CPU改变张力加压,从而构成双闭环控制系统。

上面结合附图对本实用新型进行了示例性的描述,显然本实用新型的实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型技术方案进行的各种改进,或未经改进讲本实用新型的构思和技术方案应用于其他场合的,均在本实用新型的保护范内。

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