技术总结
一种形态可控柔性微纳米柱阵列的制造方法，先在基底表面涂覆水溶胶粘附层，然后在水溶胶粘附层上通过光刻工艺获取微纳米图形化的光刻胶，再在光刻胶表面通过刮涂法得到微纳米颗粒图形化，去除光刻胶，得到微纳米颗粒的图形化模板；将聚合物涂覆在衬底表面，然后对衬底进行预加热；将图形化模板表面的微纳米颗粒接触并嵌入聚合物；再提拉图形化模板，使聚合物被拉伸为微纳米柱阵列，然后对衬底加热使微纳米柱阵列固化；再加热图形化模板，使微纳米颗粒脱离水溶胶粘附层，得到顶端带有微纳米颗粒的微纳米柱阵列；最后将微纳米柱阵列顶端的微纳米颗粒去除，获得聚合物微纳米柱阵列，本发明具有操作简单、成本低、周期短的优点。
技术研发人员：蒋维涛;刘红忠;雷彪;陈邦道;史永胜;尹磊
受保护的技术使用者：西安交通大学
文档号码：201610211929
技术研发日：2016.04.06
技术公布日：2017.03.29