铝基板氧化成字方法、铝基板制作方法及铝基板的制作方法

文档序号:5288380阅读:469来源:国知局
专利名称:铝基板氧化成字方法、铝基板制作方法及铝基板的制作方法
技术领域
本发明涉及印制板(PCB)铝基板的制作,特别是涉及一种铝基板氧 化成字方法。
背景技术
在PCB铝基板的制作过程中,出于对产品的信息标识的要求,可以在 铝基板的B面(即无线路和器件的一面)上清晰表达公司标志、产品型号、 产地、插针引脚定义等信息。已知的一种方法是采用直接在铝基板表面蚀 刻字符的方式,按照这种方式,所蚀刻的字符与铝面基本上是同一种颜色, 因此色差对比不明显,美观角度考虑欠佳。另一种方法是采用先把铝基板 表面黑氧化,然后印刷丝印的方式进行标识。这种方法也存在明显缺陷, ——由于丝印是印刷上去的,其附着力有限,当其经受回流焊、波峰焊等 高温环境后,字符易变色且易脱落。

发明内容
本发明的主要目的就是针对现有技术的不足,提供一种铝基板氧化成 字方法,其可利用铝基板铝面本色显示标识,外观美观,同时当铝基板经受 回流焊、波峰焊等高温环境后,标识不会变色且不会产生标识脱落问题。
本发明的另一 目的是提供一种铝基板制作方法,能制出具有美观且不 易变色和脱落的标识的铝基板。
本发明的另一目的是提供一种铝基板,其具有美观且不易变色和脱落 的标识。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案 一种铝基板氧化成字方法,其特征在于,包括以下步骤
A. 对铝基板无线路和器件的一面进行氧化处理,形成颜色不同于铝 基板板材本色的氧化层;
B. 在所述氧化层上镂空出所要的标识。 优选地,所述氧化层为黑氧化层。 优选地,所述氧化处理为阳极氧化。
所述步骤B中,可以通过激光刻字或蚀刻或感光显影的方式进行镂空。
3进一步地,所述步骤A中,先在所述面上制标识菲林,然后使用感光 油墨覆盖有标识菲林的位置,再进行氧化处理;所述步骤B中,曝光显影 除去所述感光油墨,在所述氧化层上形成所述标识。
一种铝基板制作方法,其特征在于,包括采用前述的铝基板氧化成字方 法在铝基板上制出标识的步骤。
一种铝基板,其特征在于,包括形成在铝基板无线路和器件一面的氧 化层,所述氧化层的颜色不同于铝基板板材本色,所述氧化层上具有通过 镂空而形成的标识。
所述标识可以包括产家标志、产品型号、产地、插针引脚定义信息。
本发明有益的技术效果是
在本发明的铝基板氧化成字方法中,先对铝基板无线路和器件的一面 进行氧化处理,形成颜色不同于铝基板板材本色的氧化层,然后通过蚀刻或 激光刻字等方式,在氧化层上镂空形成所要的标识,这样,相比于传统的 直接在铝基板表面蚀刻字符的方式,本发明是在氧化层的背景颜色上显示 具有铝基板铝面本色的标识,外观美观,另一方面,相比于采用氧化层表 面印刷丝印的方式,由于本发明的标识是通过镂空形成的,因此,当其经 受回流焊、波峰焊等高温环境后,字符不会变色且不会产生字符脱落问题。


图1为本发明铝基板氧化成字方法的基本流程图2为一种实施例中图1所示的氧化处理的具体流程图3为铝基板制作方法一种实施例的具体流程图4以一个范例展示了本发明铝基板无线路和器件的一面。
本发明的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。
具体实施例方式
请参考图1,本发明铝基板氧化成字方法的基本流程包括以下步骤 步骤A.对铝基板无线路和器件的一面进行氧化处理,形成颜色不同 于铝基板板材本色的氧化层;
步骤B.在氧化层上镂空出所要的标识。
在一些优选的实施例中,形成的氧化层为黑氧化层。
根据本发明所形成的标识是在氧化层的背景色上显示铝基板铝面本 色,外观美观,并且由于标识是通过镂空形成的,因此,当其经受回流焊、 波峰焊等高温环境后,标识不会变色且不会产生脱落问题。
在一些优选的实施例中,步骤A中的氧化处理采用阳极氧化的方式来处理。请参考图2,更优选地,氧化处理包括以下工艺流程上挂、除油、 酸性除油、中和处理、碱性抛光、中和、中检、阳极氧化、着色、封孔、 烘干以及品检。
进一步优选地,上述流程中的步骤分别按照如下的工艺条件实施
除油步骤采用浓度为5-8%的介面活性剂,处理时间为30秒,温度为 常温;
酸性除油步骤采用浓度为15-20%的CP硫酸,处理时间为5-8分钟, 温度为室温;
中和处理步骤采用75%黄烟硝酸,浓度为5-8%,处理时间为1秒,温 度为常温;
碱性抛光步骤采用H2S04、 HN03和H3P04,浓度为10-20%,处理时间为 3-5秒,温度为常温且在做板时为120度;
中和步骤采用浓度为0.05%的环保酪酐,处理时间为l秒,温度为常
温;
中检步骤通过目检检査是否有表面区域亚光;
阳极氧化步骤采用浓度为18-22%的CP硫酸,处理时间为40-50分钟, 所用直流电流为8-10V,温度为22-25度;
着色步骤采用浓度为3-8%的有机染料,处理时间为10-20分钟,温度 为30-45度,pH值为4-4.8;
封孔步骤采用浓度为4-8%的硫酸镍,处理时间为3分钟,温度为90
度;
烘干步骤的处理时间为5分钟,温度为110度。
在一些实施例中,步骤B通过激光刻字的方式在氧化层上实现镂空, 形成标识。
在另一些实施例中,步骤B通过蚀刻的方式在氧化层上实现镂空,形 成标识。
在又一些实施例中,步骤B通过感光显影的方式在氧化层上实现镂空, 形成标识。更优选地,在步骤A中,先在所述面上制出标识菲林,然后使 用感光油墨覆盖有标识菲林的位置,再进行氧化处理;在步骤B中,曝光 显影除去感光油墨,在氧化层上形成标识。
铝基板B面的标识可以是产家标志、产品型号、产地、插针引脚定义 信息等,还可以是表达输入及输出电压、电流范围等的任何信息。本发明中的氧化处理除了可以是传统的阳极氧化技术,也包括已知或
将来可能出现的任何其它氧化技术。除了将PCB铝基板B面做成黑色,也 可以做成蓝色、灰色等非PCB铝基板板材来料原始颜色的任何其它颜色。 另外,不管是采用蚀刻、激光刻字还是其它任何在氧化层上镂空的方式均 属于本发明的保护范围。
在本发明的另一方面,还提供一种铝基板制作方法,其包括采用根据 本发明的铝基板氧化成字方法在铝基板上制出标识的步骤。
请参考图3,在一种优选的实施例中,铝基板制作方法包括以下工艺 流程备料、 一次钻孔、阳极氧化、来料质检(IQC)、 二次钻孔、外层线 路处理、外层蚀刻、阻焊、线路面字符处理、成形、成品质检(FQC)、有 机氧化膜处理(0SP)、黑氧化层上镂空出标识(L0G0)、来料质检、成品质 检、成品质量分析(FQA)以及包装。
在另一种优选的实施例中,采用感光显影的方式在黑氧化层表面实现 镂空,铝基板制作方法包括以下流程
首先按序完成备料、 一次钻孔、来料质检、二次钻孔、外层线路处以 及外层蚀刻;
接下来先在铝基板B面制出标识菲林,并使用特殊的感光油墨覆盖有 标识的位置,再进行阳极氧化处理以形成黑氧化层;
然后曝光显影除去感光油墨,制作出黑氧化层上的标识(LOGO);
其后,按序完成阻焊、线路面字符处理、成形、测试、成品质检(FQC)、 有机氧化膜处理(0SP)、来料质检(IQC)、成品质检以及包装。
在本发明的另一方面,还提供一种铝基板,包括形成在铝基板无线路 和器件一面的氧化层,该氧化层的颜色不同于铝基板板材本色,且该氧化 层上具有通过镂空而形成的标识。优选地,该氧化层为黑氧化层。
图4以一个范例展示了本发明的铝基板无线路和器件的一面。如图所 示,在PCB铝基板B面上清晰表达的相关信息是在黑氧化表面镂空形成。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说 明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术 领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若 干简单推演或替换,都应当视为属于本发明的保护范围。
权利要求
1.一种铝基板氧化成字方法,其特征在于,包括以下步骤A.对铝基板无线路和器件的一面进行氧化处理,形成颜色不同于铝基板板材本色的氧化层;B.在所述氧化层上镂空出所要的标识。
2. 根据权利要求1所述的铝基板氧化成字方法,其特征在于,所述 氧化层为黑氧化层。
3. 根据权利要求1所述的铝基板氧化成字方法,其特征在于,所述 氧化处理为阳极氧化。
4. 根据权利要求1 3所述的铝基板氧化成字方法,其特征在于, 所述步骤B中,通过激光刻字的方式进行镂空。
5. 根据权利要求1 3所述的铝基板氧化成字方法,其特征在于, 所述步骤B中,通过蚀刻的方式进行镂空。
6. 根据权利要求1 3所述的铝基板氧化成字方法,其特征在于, 所述步骤B中,通过感光显影的方式进行镂空。
7. 根据权利要求6所述的铝基板氧化成字方法,其特征在于,所述 步骤A中,先在所述面上制标识菲林,然后使用感光油墨覆盖有标识菲林 的位置,再进行氧化处理;所述步骤B中,曝光显影除去所述感光油墨, 在所述氧化层上形成所述标识。
8. —种铝基板制作方法,其特征在于,包括采用权利要求1所述的 铝基板氧化成字方法在铝基板上制出标识的步骤。
9. 一种铝基板,其特征在于,包括形成在铝基板无线路和器件一面 的氧化层,所述氧化层的颜色不同于铝基板板材本色,所述氧化层上具有 通过镂空而形成的标识。
全文摘要
本发明公开了一种铝基板氧化成字方法,包括以下步骤A.对铝基板无线路和器件的一面进行氧化处理,形成颜色不同于铝基板板材本色的氧化层;B.在氧化层上镂空出所要的标识。还公开了一种铝基板制作方法,包括采用前述铝基板氧化成字方法在铝基板上制出标识的步骤。还公开了一种铝基板,其包括形成在铝基板无线路和器件一面的氧化层,氧化层的颜色不同于铝基板板材本色,氧化层上具有通过镂空而形成的标识。由于是利用铝基板铝面本色在氧化层背景下显示标识,所以其外观美观,同时当铝基板经受回流焊、波峰焊等高温环境后,标识不会变色且不会产生标识脱落问题。
文档编号C25D11/04GK101619478SQ20091010926
公开日2010年1月6日 申请日期2009年7月29日 优先权日2009年7月29日
发明者张式春, 赵英军, 陈绪胜 申请人:艾默生网络能源有限公司
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