技术特征：
1.用于在基板上电镀半光亮镍沉积层的镍电镀浴，该镍电镀浴包含：a)镍离子；b)氯乙酸、乙酸、羟基乙酸、丙酸、苯甲酸、水杨酸或氯苯甲酸的可溶性盐；和c)己炔二醇和丁炔二醇，这两种二醇的总体浓度在50mg/l～600mg/l的范围内；其中镍电镀浴不含香豆素，并且不含醛并且具有4.1～5.0的pH。2.根据权利要求1所述的镍电镀浴，其中可溶性盐为水杨酸的钠盐、钾盐、锂盐、镁盐或镍盐。3.根据权利要求2所述的镍电镀浴，其中可溶性盐为水杨酸钠。4.根据权利要求1所述的镍电镀浴，其中镍电镀浴中可溶性盐的浓度为0.5至20.0g/l。5.根据权利要求1所述的镍电镀浴，其中电镀浴还包含从由炔属醇和乙氧基化或丙氧基化的炔属醇组成的组中选出的添加剂。6.根据权利要求5所述的镍电镀浴，其中电镀浴包含从由乙氧基化或丙氧基化的丁炔二醇、乙氧基化或丙氧基化的己炔二醇组成的组中选出的添加剂。7.根据权利要求1所述的镍电镀浴，其中镍电镀浴中己炔二醇的浓度为50mg/l～500mg/l，并且丁炔二醇的浓度为30mg/l～300mg/l。8.根据权利要求7所述的镍电镀浴，其中镍电镀浴中己炔二醇 的浓度为100mg/l～200mg/l，并且丁炔二醇的浓度为60mg/l～120mg/l。9.根据权利要求1所述的镍电镀浴，其中镍电镀浴具有4.4至4.6的pH。10.一种电镀基板以在其上生产不含硫的半光亮镍沉积层的方法，该方法包含步骤：a)提供一种镍电镀浴，该镀浴包含：i)镍离子；ii)氯乙酸、乙酸、羟基乙酸、丙酸、苯甲酸、水杨酸或氯苯甲酸的可溶性盐；和iii)己炔二醇和丁炔二醇，这两种二醇的总体浓度在50mg/l～600mg/l的范围内；和b)使基板与镍电镀浴接触，施加电流以在基板上提供半光亮镍沉积层，其中镍电镀浴不含香豆素，并且不含醛，并且具有4.1～5.0的pH。11.根据权利要求10所述的方法，其包含在半光亮镍沉积层上电镀光亮镍层的步骤。12.根据权利要求11所述的方法，其中电镀的沉积层的同步厚度和电解势(STEP)为至少100mv。13.根据权利要求12所述的方法，其中电镀的沉积层的STEP为110至145mv。14.根据权利要求12所述的方法，其中电镀的沉积层的STEP为至少120mv。15.根据权利要求10所述的方法，其中电镀浴的pH为4.4至4.6。16.根据权利要求10所述的方法，其中沉积层的应力低于15,000psi拉伸应力。17.根据权利要求16所述的方法，其中沉积层的应力低于4,000psi拉伸应力。18.根据权利要求10所述的方法，其中沉积层根据Chrysler延展性测定方法测量的延展性为至少0.4。19.根据权利要求18所述的方法，其中沉积层根据Chrysler延展性测定方法测量的延展性为0.5。20.根据权利要求10所述的方法，其中镍电镀浴中可溶性盐为水杨酸的钠盐、钾盐、锂盐、镁盐或镍盐。21.根据权利要求20所述的方法，其中可溶性盐为水杨酸钠。22.根据权利要求10所述的方法，其中镍电镀浴中可溶性盐的浓度为0.5至20.0g/L。23.根据权利要求10所述的方法，其中电镀浴还包含从由炔属醇和乙氧基化或丙氧基化的炔属醇组成的组中选出的添加剂。24.根据权利要求23所述的方法，其中电镀浴包含从由乙氧基化或丙氧基化的丁炔二醇、乙氧基化或丙氧基化的己炔二醇组成的组中选出的添加剂。25.根据权利要求10所述的方法，其中在镍电镀浴中己炔二醇的浓度为50mg/l～500mg/l，并且丁炔二醇的浓度为30mg/l～300mg/l。26.根据权利要求10所述的方法，其中镍电镀浴在基板上生产半光亮镍沉积层，该半光亮镍沉积层具有处于相同沉积厚度的香豆素基沉积层的整平特性。