技术总结
一种用于在基板上电镀半光亮镍沉积层的镍电镀浴，该镍电镀浴包含：a)镍离子；b)氯乙酸、乙酸、羟基乙酸、丙酸、苯甲酸、水杨酸或氯苯甲酸的可溶性盐；和c)从由己炔二醇、丁炔二醇或它们的组合组成的组中选出的至少一种二醇。本文所述的半光亮镍电镀浴在非常宽的电流密度范围内生产不含硫的半光亮沉积层。本文所述的电镀浴至少基本上不含香豆素并且产生期望的整平特性。该镀浴也不需要醛来获得同步厚度和电解势(STEP)并且具备极低的应力和出色的延展性。
技术研发人员：R·A·特雷梅尔
受保护的技术使用者：麦克德米德尖端有限公司
文档号码：201280012091
技术研发日：2012.02.08
技术公布日：2016.12.07