电解槽连续下料装置和电解槽系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电解技术领域，具体涉及一种电解槽连续下料装置和采用该电解槽连续下料装置的电解槽系统。
【背景技术】
[0002]目前，现有电解槽的加料方式通常为利用定时定容下料器进行间隔式下料。以氧化铝电解槽的点式下料装置为例，如图1所示，所述氧化铝电解槽的点式下料装置1包括料箱11、定容器13、下料槽15及打壳头17，所述料箱11用于收容氧化铝原料，所述定容器13设于所述料箱11的底部，用于接收所述料箱11内的氧化铝原料，并按照定时定容的方式，间隔式将氧化铝原料投入所述下料槽15内，最后氧化铝原料经所述下料槽15的出料口进入电解槽(图未示)内。其中，所述打壳头17贯穿所述下料槽15设置。所述氧化铝电解槽的点式下料装置1在预设的时间内，通过控制所述定容器，实现氧化铝原料在固定的时间内间隔投入到电解槽内。
[0003]但是，该氧化铝电解槽的点式下料装置存在以下问题:
[0004]—、采用间隔式下料方式，氧化铝浓度波动明显，下料前浓度低，下料后浓度高，槽热平衡波动大，从而导致电解槽的稳定性变差及电流效率降低；
[0005]二、目前采用的低过热度工艺路线，使得点式下料方式单次下入大量氧化铝时，其溶解过程更加困难，未溶解的氧化铝沉入铝液，这样造成下料口正下方铝液层中堆积大量氧化铝沉淀，沉淀随着铝液的流动覆盖炉底，造成炉底压降升高，增加能耗，严重者可导致畸形炉膛，影响电解槽系统寿命。
[0006]三、由于打壳头设于下料槽内，使得单次下入的大量氧化铝在下料槽斜面上加速，在出口处撞击打壳头后四处散开，导致氧化铝的飘散损失，使得氧化铝下料精准度降低，而且氧化铝的快速下入还易在下料口造成堵料。
[0007]因此，有必要提供一种可以连续精确定量下料的电解槽连续下料装置。
【实用新型内容】
[0008]为了解决上述氧化铝电解槽的点式下料装置存在间隔式下料方式导致的电解槽稳定性差、电流效率低及电解槽系统寿命短的技术问题，本实用新型提供一种电解槽稳定性好、电流效率高及电解槽系统寿命长的电解槽连续下料装置和采用该电解槽连续下料装置的电解槽系统，可以实现电解质原料的连续精确定量的下料。
[0009]本实用新型提供了一种电解槽连续下料装置，包括料箱、与所述料箱相连通的下料槽及设于所述下料槽内部的滚筒，所述料箱收容电解质原料，所述下料槽包括设于其两端的进料口和出料口，所述进料口与所述料箱相连通，并用于接收所述料箱提供的电解质原料，所述滚筒设于所述料箱的底部，并位于所述进料口和所述出料口之间，所述滚筒包括设于其表面的凹槽结构，电解质原料经过所述进料口落入所述滚筒的凹槽结构内，并经所述出料口输出。
[0010]在本实用新型提供的电解槽连续下料装置的一种较佳实施例中，所述滚筒包括筒体和多个刮板，多个所述刮板均匀设于所述筒体表面并形成均匀分布的所述凹槽结构，所述凹槽结构的容积为1.2L-1.8L。
[0011 ] 在本实用新型提供的电解槽连续下料装置的一种较佳实施例中，所述滚筒呈圆筒形，并采用焊接的方式固定于所述料箱的底部。
[0012]在本实用新型提供的电解槽连续下料装置的一种较佳实施例中，所述滚筒绕其旋转轴线作旋转运动，且所述滚筒的旋转轴线与所述出料口的中心线异面垂直。
[0013]在本实用新型提供的电解槽连续下料装置的一种较佳实施例中，所述电解槽连续下料装置还包括下料管，所述下料管与所述出料口相连通。
[0014]在本实用新型提供的电解槽连续下料装置的一种较佳实施例中，所述电解槽连续下料装置还包括用于驱动所述滚筒转动的驱动装置。
[0015]在本实用新型提供的电解槽连续下料装置的一种较佳实施例中，所述驱动装置为变频电机。
[0016]在本实用新型提供的电解槽连续下料装置的一种较佳实施例中，所述电解槽连续下料装置还包括电解槽控制系统，所述电解槽控制系统与所述变频电机电连接。
[0017]在本实用新型提供的电解槽连续下料装置的一种较佳实施例中，所述电解槽连续下料装置还包括打壳头，所述打壳头与所述下料槽临近设置。
[0018]本实用新型提供了一种电解槽系统，包括电解槽和电解槽连续下料装置，所述电解槽连续下料装置位于所述电解槽的顶部，并向所述电解槽送入电解质原料，所述电解槽连续下料装置为上述任意一所述的电解槽连续下料装置。
[0019]相较于现有技术，本实用新型提供的电解槽连续下料装置和电解槽系统具有以下有益效果:
[0020]一、通过在下料槽内部设置具有凹槽结构的滚筒，电解质原料经推动所述滚筒旋转后进入所述电解槽内，电解质原料进入所述电解槽内便可实现先快后慢的下料速度，不仅降低了发生堵料的概率，还符合所述电解槽对电解质原料溶解速度先快后慢的特性。同时，所述滚筒还可以延长电解质原料的下料时间，实现电解质原料连续缓慢加入所述电解槽内，使电解质原料获得充足的时间溶解，从而减少电解槽底沉淀的形成，降低电解槽底压降，减小下料前后所述电解槽内电解质溶液浓度波动和所述电解槽的温度波动，进而提高电流效率，降低能耗。
[0021]二、通过滚筒、变频电机及电解槽控制系统的结合设计，所述滚筒由所述变频电机驱动，并通过所述电解槽控制系统输出电信号来控制变频电机的转速，从而控制下料速度，实现按需供料，减少沉淀的产生。
[0022]三、通过下料管和打壳头的结合设计，以此替代下料槽的斜面，使得电解质原料通过所述下料管直接进入电解槽，并避免下料过程中电解质原料撞击到打壳头而出现飘散损失，从而增加了实际入槽的电解质原料，降低了效应系数。
【附图说明】
[0023]为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中:
[0024]图1是现有技术中氧化铝电解槽的点式下料装置结构示意图；
[0025]图2是本实用新型提供的电解槽系统一种实施例的结构示意图。
【具体实施方式】
[0026]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0027]请参阅图2，为本实用新型提供的电解槽系统一种实施例的结构示意图。所述电解槽系统2包括电解槽21和电解槽下料装置23。所述电解槽下料装置23设于所述电解槽21的上方，用于向所述电解槽21加入电解质原料。
[0028]在本实施例中，所述电解槽系统2主要用于铝金属的电解制备，所用到的电解质原料为氧化铝。当然，在其他情况下，所述电解槽系统2还可以用于包括但不限于锰、铜、银、金、铀、锌、镉、络、镍、钴等金属的电解制备。
[0029]所述电解槽21用于收容相应的电解质溶液。所述电解质原料在所述电解槽21的阴极和阳极作用下进行电解反应，从而制备相应的金属单质。
[0030]所述电解槽下料装置23包括料箱231、下料槽233、滚筒235、下料管237及打壳头239。所述下料槽233与所述料箱231连通，所述滚筒235设于所述下料槽233内部，并位于所述料箱231的底部，所述下料管237与所述下料槽233相连通，所述打壳头239与所述下料槽233临近设置。
[0031]所述料箱231为具收容空间的箱体，所述收容空间用于收容电解质原料，如氧化招等。
[0032]所述下料槽233包括分别设于其两端的进料口 2331和出料口 2333，所述进料口2331与所述料箱231相连通，用于接收来自所述料箱231所提供的电解质原料。
[0033]所述滚筒235包括筒体2351和多个刮板2353，多个所述刮板2353均匀设于所述筒体2351表面并形成均匀分布的凹槽结构。在本实施例中，所述凹槽结构的容积为1.2L-1.8L ;所述筒体2351和多个所述刮板2353均为铁质材料制备而成，在其他情况下，所述筒体2351和多个所述刮板2353还可以采用铜质、铝合金及钢质等金属材料制备。
[0034]所述滚筒235呈圆筒形，采用焊接的方式固定于所述料箱231的底部，并设于所述下料槽233的内部，位于所述进料口 2331和所述出料口 2333之间。所述滚筒235因其圆筒形的结构，可以使所述滚筒235绕其轴线而旋转。
[0035]本实施例中，所述滚筒235还包括环绕其外周设置的滚筒外壁2355，所述滚筒外壁2355以