专利名称：测量掩模板保护膜的工具及方法
技术领域：
本发明涉及一种半导体工艺，尤其涉及一种测量掩模板保护膜的工具及方法。
背景技术：
由于半导体芯片制造业对于不同的工艺需求会使用不同类型的光刻机，再加上制造光刻机的厂家不止一家，因此不同型号的光刻机会使用不同尺寸的掩模板保护膜(附图1 中②的窄边尺寸会有不同)。尺寸用错会造成对掩模板或设备的损坏，因此掩模板制造厂家在掩模板出厂时会对使用的保护膜型号进行检查，但是仍然会存在漏检的风险。目前大部分芯片制造厂对此项目只有进货时的清单检查，没有对实际保护膜尺寸的检查。另外由于不同型号的尺寸只相差数毫米，单靠目测无法发现。现在有个别厂利用掩模板缺陷检查的设备在检查时所拍的照片进行间接的检查，这样多浪费了设备时间和人工，增加了成本而且要花较长的时间。
发明内容
本发明公开了一种测量掩模板保护膜的工具及方法，用以解决现有技术中由于无法检测保护膜尺寸导致的由于保护膜尺寸错误造成掩模板或设备损坏的问题。本发明的上述目的是通过以下技术方案实现的
一种测量掩模板保护膜的工具及方法，一掩模板盒具有一盒盖、一底座板和一支架，所述支架固定在底座板上，将一掩模板固定在所述支架上，其中，一测量工具的一侧表面形成有刻度，所述测量工具的另一侧表面具有两直角卡槽，通过两直角卡槽将测量工具固定在底座板上，使测量工具位于掩模板的一侧，且使测量工具与掩模板的一侧边缘平行，以对掩模板的图形保护膜进行测量。如上所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其中，所述掩模板包括石英板主体和所述图形保护膜。如上所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其中，采用直尺作为所述测量工具。如上所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其中，将测量工具固所述底座板上使所述测量工具的刻度的零点位置与所述掩模板的中心保持一致。如上所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其中，所述两直角卡槽垂直安装在所述测量工具上，对两直角卡槽的间距进行调节，使得两直角卡槽与底座板相固定，进而将测量工具固定在底座板上。综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明测量掩模板保护膜的工具及方法解决了现有技术中由于无法检测保护膜尺寸导致的由于保护膜尺寸错误造成掩模板或设备损坏的问题，通过在掩模板盒上固定测量工具实现掩模板的图形保护膜尺寸的精确测量。
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明及其特征、外形和优点将会变得更明显。在全部附图中相同的标记指示相同的部分。并未刻意按照比例绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。图1是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的掩模板的结构示意图2是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的将掩模板固定在掩模板盒后的示意
图3是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的测量工具一侧表面的示意图； 图4是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的测量工具的另一侧表面的示意图； 图5是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的将测量工具固定在底座板后的示意图。
具体实施例方式下面结合附图对本发明的具体实施方式
作进一步的说明
一种测量掩模板保护膜的工具及方法，图2是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的将掩模板固定在掩模板盒后的示意图，清参见图2，一掩模板盒10具有一盒盖101、一底座板102和一支架103，所述支架103固定在底座板102上，盒盖101的一侧变与底座板102 的一侧边通过一旋转件连接，将一掩模板20固定在所述支架103上，其中，
图3是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的测量工具一侧表面的示意图，图4是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的测量工具的另一侧表面的示意图，图5是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的将测量工具固定在底座板后的示意图，请参见图3、图 4、图5，一测量工具30的一侧表上面形成有刻度，所述测量工具30的另一侧表面具有两直角卡槽301，通过两直角卡槽301将测量工具30固定在底座板102上，使测量工具30位于掩模板20的一侧，且使测量工具30与掩模板20的一侧边缘平行，以对掩模板20的图形保护膜202进行测量，测量工具30上的刻度位于测量工具30靠近掩模板20的一侧，侧来那个装置与掩模板20之间的距离非常短，因此，本发明中测量工具30无需与掩模板20相接触即可通过测量工具30上的刻度对图形保护膜202的尺寸进行测量。图1是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的掩模板的结构示意图，请参见图 1，本发明中的掩模板20包括石英板主体201和所述图形保护膜202。图3是本发明测量掩模板保护膜的工具及方法的测量工具一侧表面的示意图，请参见图3，进一步的，本发明中可以采用直尺作为所述测量工具30，可直观的进行读数，另外，可采用透明材质的直尺作为测量工具30。本发明中将测量工具30固所述底座板102上使所述测量工具30的刻度的零点位置与所述掩模板20的中心保持一致，掩模板20 —般放置在研磨和正中央，保护膜202的中心也与掩模板20中心一致，固定后图形保护膜202的中心在测量工具30的零点刻度线所在的直线上，使得读数更加清晰、准确，测量图形保护膜202尺寸的过程中从零点向两侧的读数是相同的，图形保护膜202的尺寸可以通过零点任意一侧的读数的两倍得出。本发明中两直角卡槽301垂直安装在所述测量工具30上，两直角卡槽301之间的间距可调节，对两直角卡槽301的之间的间距进行调节，使得两直角卡槽301与底座板102 相固定，进而将测量工具30固定在底座板102上。综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明测量掩模板保护膜的工具及方法解决了现有技术中由于无法检测保护膜尺寸导致的由于保护膜尺寸错误造成掩模板或设备损坏的问题，通过在掩模板盒上固定测量工具实现掩模板的图形保护膜尺寸的精确测量， 并且省略了使用其他设备进行判断的步骤，进一步节约了成本。本领域技术人员应该理解，本领域技术人员结合现有技术以及上述实施例可以实现所述变化例，在此不予赘述。这样的变化例并不影响本发明的实质内容，在此不予赘述。以上对本发明的较佳实施例进行了描述。需要理解的是，本发明并不局限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例，这并不影响本发明的实质内容。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。
权利要求
1.一种测量掩模板保护膜的工具及方法，一掩模板盒具有一盒盖、一底座板和一支架， 所述支架固定在底座板上，将一掩模板固定在所述支架上，其特征在于，一测量工具的一侧表面形成有刻度，所述测量工具的另一侧表面具有两直角卡槽，通过两直角卡槽将测量工具固定在底座板上，使测量工具位于掩模板的一侧，且使测量工具与掩模板的一侧边缘平行，以对掩模板的图形保护膜进行测量。
2.根据权利要求1所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其特征在于，所述掩模板包括石英板主体和所述图形保护膜。
3.根据权利要求1所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其特征在于，采用直尺作为所述测量工具。
4.根据权利要求1所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其特征在于，将测量工具固所述底座板上使所述测量工具的刻度的零点位置与所述掩模板的中心保持一致。
5.根据权利要求1所述的测量掩模板保护膜的工具及方法，其特征在于，所述两直角卡槽垂直安装在所述测量工具上，对两垂直卡槽的间距进行调节，使得两垂直卡槽与底座板相固定，进而将测量工具固定在底座板上。
全文摘要
本发明测量掩模板保护膜的工具及方法解决了现有技术中由于无法检测保护膜尺寸导致的由于保护膜尺寸错误造成掩模板或设备损坏的问题，通过在掩模板盒上固定测量工具实现掩模板的图形保护膜尺寸的精确测量。
文档编号G01B5/00GK102445124SQ20111025024
公开日2012年5月9日 申请日期2011年8月29日 优先权日2011年8月29日
发明者戴韫青, 毛智彪, 王剑 申请人:上海华力微电子有限公司