专利名称：一种气动装置及真空检测设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及可提供动力的气动装置技术领域，尤其涉及一种气动装置及真空检测设备。
背景技术：
液晶显示面板是由阵列基板和彩膜基板对盒后填充液晶而形成，其中阵列基板是单独制作而成，通常在制作完阵列基板后，为了检测阵列基板的一些性能是否符合要求，还需要利用真空检测设备对阵列基板进行检测。真空检测设备包括真空腔室，真空腔室的内部设有放置阵列基板的上平台，上平台通过运动机构的动作可以在真空腔室内分别沿X、Y、Z这三个互相垂直的方向运动，其中，沿X、Y方向的运动为平面运动，且通过运动机构中的电机来驱动运动机构的水平运动；沿Z方向的运动为上下运动，且通过运动机构中的气缸来驱动运动机构的上下运动，供给气缸运动的气源装置通过软管将气体输送到气缸内部，由于气源装置位于真空腔室的下部，因此软管从真空腔室的下部经过较长的距离与气缸连接，当运动机构进行平面运动时(X方向或Y方向)软管会随之产生比较复杂的空间运动，如软管会产生扭曲、折叠、挤压、拉长等破坏性动作，这样可使得软管比较容易磨损、折裂等损害，不利于气体的正常输送，而且还可能发生漏气，破坏真空腔室内的真空环境，从而影响真空检测设备检测的准确性。
实用新型内容本实用新型的实施例提供一种气动装置及真空检测设备，能够保证真空检测设备检测的准确性。为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案一种气动装置，包括第一导轨，所述第一导轨上设有可滑动的第二导轨，所述第二导轨上设有可滑动的第一平台，所述第一平台上通过气缸连接有第二平台，其中，所述第一导轨与所述第二导轨之间沿所述第一导轨的方向连接有可伸缩的第一气管，且所述第一导轨设有连通所述第一气管和气源装置的第一管道；所述第二导轨与所述第一平台之间沿所述第二导轨的方向连接有可伸缩的第二气管，且所述第二导轨设有连通所述第一气管和所述第二气管的第二管道，所述第二气管与所述气缸的进气端的连通。优选地，所述可伸缩的第一气管和/或所述可伸缩的第二气管为金属波纹管。优选地，所述第一导轨和所述第二导轨分别通过第一连接法兰连接所述第一气管；所述第二导轨和所述第一平台分别通过第二连接法兰连接所述第二气管。进一步地，所述第一导轨和第二导轨与所述第一气管的接触面上分别设有第一密封片。进一步地，所述第二导轨和第一平台与所述第二气管的接触面上分别设有第二密封片。[0012]此外，所述第一管道可以安装在所述第一导轨的内部；所述第二管道可以安装在所述第二导轨的内部。 所述第一管道还可以一体成型于所述第一导轨的内部；所述第二管道也可以一体成型于所述第二导轨的内部。本实用新型还提供了一种真空检测设备，所述真空检测设备包括真空腔室，所述真空腔室内设置有上述的气动装置。本实用新型实施例提供的真空检测设备的气动装置，其中所述气动装置中的所述第一导轨与所述第二导轨之间沿所述第一导轨的方向连接有可伸缩的第一气管，且所述第一导轨设有连通所述第一气管和气源装置的第一管道；所述第二导轨与所述第一平台之间沿所述第二导轨的方向连接有可伸缩的第二气管，且所述第二导轨设有连通所述第一气管和所述第二气管的第二管道，所述第二气管与所述气缸的进气端的连通，这样气源装置中的气体传送到气缸进气端的路径依次为第一管道、第一气管、第二管道以及第二气管，进而可以实现气缸的运动，并可以带动第二平台上下运动。进一步地，当第二导轨沿第一导轨滑动时，第一气管可随第二导轨沿第一导轨的方向伸长或压缩，同理，第一平台沿第二导轨滑动时，第二气管可随第一平台沿第二导轨的方向伸长或压缩，因此这种可伸缩的第一气管和第二气管在第二导轨或第一平台水平运动时不易发生磨损或折裂等，可以使输送气体的装置不易破坏，进而使得气体不易发生泄漏，从而可以较好地避免真空腔室内真空环境被破坏，保证真空检测设备检测的准确性。
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图I为本实用型新实施例真空检测设备的气动装置的示意图；图2为本实用型新实施例真空检测设备的气动装置中第一导轨与第二导轨之间连接第一气管的示意图；图3为图2中A-A的剖视示意图；图4为图3中B-B的剖视示意图；图5为本实用型新实施例真空检测设备的气动装置中第二导轨与第一平台之间连接第二气管的示意图；图6为本实用型新实施例真空检测设备的气动装置中第二导轨的主视图；图7为图6中C-C的剖视示意图。附图标记I-第一导轨，10-第一管道，2-第二导轨，20-第二管道，3_第一平台，4_第二平台，12-第一气管，23-第二气管。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。如图I所示，为本实用新型真空检测设备的气动装置的一个具体实施例。所述气动装置包括第一导轨1，所述第一导轨I上设有可滑动的第二导轨2，所述第二导轨2上设有可滑动的第一平台3，所述第一平台3上通过气缸(图中未示)连接有第二平台4，其中，如图2和4所示，所述第一导轨I与所述第二导轨2之间沿所述第一导轨I的方向连接有可伸缩的第一气管12，且所述第一导轨I设有连通所述第一气管12和气源装置(图中未示)的第一管道10。如图5-图7所示，所述第二导轨2与所述第一平台3之间沿所述第二导轨2的方向连接有可伸缩的第二气管23，且所述第二导轨2设有连通所述第一气管12和所述第二气管23的第二管道20，所述第二气管23与所述气缸(图中未示)的进气端的连通。需要说明的是，本实用新型实施例中可以沿平面的任意方向设置第一导轨I和第二导轨2，而由于第一平台3通过气缸(图中未示)连接第二平台4，因此气缸可以通过气源装置供给的N2或其它气体驱动第二平台4沿垂直于该平面的方向运动，但是为了便于清楚的说明，可以将本实用新型实施例中的平面方向设为水平方向，且水平方向包括相互垂直的X方向和Y方向，第二平台4的运动方向则为竖直方向，其中第一导轨I的方向设为Y方向，第二导轨2的方向设为X方向，第二平台4的运动方向设为Z方向，通常在Y方向设有可以驱动第二导轨2沿第一导轨I滑动的电机(图中未示)，同理，X方向设有可以驱动第一平台3沿第二导轨2滑动的电机(图中未示)。本实用新型实施例提供的真空检测设备的气动装置，其中所述气动装置中的所述第一导轨I与所述第二导轨2之间沿所述第一导轨I的方向连接有可伸缩的第一气管12，且所述第一导轨I设有连通所述第一气管12和气源装置的第一管道10 ;所述第二导轨2与所述第一平台3之间沿所述第二导轨2的方向连接有可伸缩的第二气管23，且所述第二导轨2设有连通所述第一气管12和所述第二气管23的第二管道20，所述第二气管23与所述气缸的进气端的连通，这样气源装置中的气体传送到气缸进气端的路径依次为第一管道10、第一气管12、第二管道20以及第二气管23，进而可以实现气缸的运动，并可以带动第二平台4上下运动。当第二导轨2沿第一导轨I (Y方向)滑动时，第一气管12可随第二导轨2沿第一导轨I的方向(Y方向)伸长或压缩，同理，第一平台3沿第二导轨2 (X方向)滑动时，第二气管23可随第一平台3沿第二导轨2的方向(X方向)伸长或压缩，因此这种可伸缩的第一气管12和第二气管23在第二导轨2或第一平台3水平运动时不易发生磨损或折裂等，可以使输送气体的装置不易破坏，进而使得气体不易发生泄漏，从而可以较好地避免真空腔室内真空环境被破坏，保证真空检测设备检测的准确性。进一步地，所述可伸缩的第一气管12和/或所述可伸缩的第二气管23可以为金属波纹管。但是由于真空腔室内产生的真空压力比较大，因此为了使可伸缩的第一气管12和第二气管23能够承受较大的真空压力，本实用新型实施例优选地方案为，所述可伸缩的第一气管12和所述可伸缩的第二气管23均为金属波纹管。优选地，参照图2和图3，本实用新型实施例中所述第一导轨I和所述第二导轨2可以分别通过第一连接法兰(图中未示)连接所述第一气管12 ;所述第二导轨2和所述第一平台3也可以分别通过第二连接法兰(图中未示)连接所述第二气管23，但第一气管12和第二气管23的连接方式也并不限于法兰连接方式，例如还可以通过焊接的连接方式等。进一步地，所述第一导轨I和第二导轨2可以与所述第一气管12的接触面上分别设有第一密封片(图中未示)，这样可以进一步地防止气体泄漏到真空腔室内，起到较好的S封效果。进一步地，所述第二导轨2和第一平台3也可以与所述第二气管23的接触面上分别设有第二密封片(图中未示)。这样可以更进一步地防止气体泄漏到真空腔室内，再通过结合上述内容，第一密封片和第二密封片同时使用，可以起到更好的密封效果，进而可以提高真空检测设备检测的准确度。本实用新型实施例中的第一气管12(例如金属波纹管)的数量和第二气管23(例如金属波纹管)的数量均可以根据实际的应用情况而设定，但是由于第一气管12和第二气管23均在真空腔室的内部，第一气管12和第二气管23的数量越多，所用到的第一连接法兰和第二连接法兰也比较多，这样产生漏气的概率可能会增大，因此第一气管12和第二气管23的数量应在适当的范围内，保证真空检测设备检测的准确度。此外，所述第一管道10可以为单独制作的管道，并且可以安装在所述第一导轨I的内部，或者还可以安装在第一导轨I的外部；同样地，所述第二管道20也可以为单独制作的管道，且安装在所述二导轨2的内部，或者也可以安装在第二导轨2的外部。但是本实用新型实施例可以优选地将所述第一管道10 —体成型于所述第一导轨I的内部，所述第二管道20—体成型于所述第二导轨2的内部，这样不但工艺上比较容易实现，而且制作简单，可以节约制作成本。本实用新型还提供了一种真空检测设备，所述真空检测设备包括真空腔室(图中未示)，所述真空腔室内设置有气动装置。如图I所示，为本实用新型真空检测设备的气动装置可以包括第一导轨1，所述第一导轨I上设有可滑动的第二导轨，所述第二导轨上设有可滑动的第一平台3，所述第一平台3上通过气缸(图中未示)连接有第二平台4，其中，如图2和4所示，所述第一导轨I与所述第二导轨2之间沿所述第一导轨I的方向连接有可伸缩的第一气管12，且所述第一导轨I设有连通所述第一气管12和气源装置(图中未示)的第一管道10。如图5-图7所示，所述第二导轨2与所述第一平台3之间沿所述第二导轨2的方向连接有可伸缩的第二气管23，且所述第二导轨2设有连通所述第一气管12和所述第二气管23的第二管道20，所述第二气管23与所述气缸(图中未示)的进气端的连通。本实用新型真空检测设备的气动装置可以是前文所述的任何一种形式，在此不再详述。所述气动装置中的第二导轨2沿第一导轨I方向运动时，或第一平台3沿第二导轨方向运动时，由于第一气管12和第二气管23可以进行伸缩，因此不容易使输送气体的装置发生破坏，进而不易发生气体泄漏的现象，从而可以较好地避免真空腔室内的真空环境被破坏，保证真空检测设备检测的准确性。例如，本实用新型实施例中的真空检测设备可以检测液晶面板中的阵列基板，具体地，薄膜晶体管(TFT)液晶显示器的液晶面板包括阵列基板和彩膜基板，在薄膜晶体管液晶显示器的制程中可以分别单独制作阵列基板和彩膜基板，然后再将阵列基板和彩膜基板对盒并填充液晶，以便形成液晶面板。其中在对盒之前，通常要对阵列基板进行检测，其中，阵列基板的一些检测需要在真空环境下进行，因此将阵列基板放置在真空检测设备中真空腔室内的第二平台4上，经过真空检测设备的执行机构、电控装置等系统的同时运行，最后可以比较准确地检测出阵列基板的实际参数，然后根据标准参数来判断阵列基板是否合格，检测合格的阵列基板可以进入对盒车间继续加工，检测不合格的阵列基板则需要进行检修。·以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式
，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
权利要求1.一种气动装置，其特征在于，包括第一导轨，所述第一导轨上设有可滑动的第二导轨，所述第二导轨上设有可滑动的第一平台，所述第一平台上通过气缸连接有第二平台；所述第一导轨与所述第二导轨之间沿所述第一导轨的方向连接有可伸缩的第一气管，且所述第一导轨设有连通所述第一气管和气源装置的第一管道；所述第二导轨与所述第一平台之间沿所述第二导轨的方向连接有可伸缩的第二气管，且所述第二导轨设有连通所述第一气管和所述第二气管的第二管道，所述第二气管与所述气缸的进气端的连通。
2.根据权利要求I所述的气动装置，其特征在于，所述可伸缩的第一气管和/或所述可伸缩的第二气管为金属波纹管。
3.根据权利要求I或2所述的气动装置，其特征在于，所述第一导轨和所述第二导轨分别通过第一连接法兰连接所述第一气管；所述第二导轨和所述第一平台分别通过第二连接法兰连接所述第二气管。
4.根据权利要求3所述的气动装置，其特征在于，所述第一导轨和第二导轨与所述第一气管的接触面上分别设有第一密封片。
5.根据权利要求3所述的气动装置，其特征在于，所述第二导轨和第一平台与所述第二气管的接触面上分别设有第二密封片。
6.根据权利要求I所述的气动装置，其特征在于，所述第一管道安装在所述第一导轨的内部；所述第二管道安装在所述第二导轨的内部。
7.根据权利要求I所述的气动装置，其特征在于，所述第一管道一体成型于所述第一导轨的内部；所述第二管道一体成型于所述第二导轨的内部。
8.一种真空检测设备，所述真空检测设备包括真空腔室，其特征在于，所述真空腔室内设置有权利要求I至7任一项所述的气动装置。
专利摘要本实用新型公开了一种气动装置及真空检测设备，涉及可提供动力的气动装置技术领域，为能够保证真空检测设备检测的准确性而设计。所述气动装置包括第一导轨，所述第一导轨上设有可滑动的第二导轨，所述第二导轨上设有可滑动的第一平台，所述第一平台上通过气缸连接有第二平台，其中，所述第一导轨与所述第二导轨之间沿所述第一导轨的方向连接有可伸缩的第一气管，且所述第一导轨设有连通所述第一气管和气源装置的第一管道；所述第二导轨与所述第一平台之间沿所述第二导轨的方向连接有可伸缩的第二气管，且所述第二导轨设有连通所述第一气管和所述第二气管的第二管道，所述第二气管与所述气缸的进气端的连通。
文档编号G01R31/00GK202735443SQ20122042049
公开日2013年2月13日 申请日期2012年8月22日 优先权日2012年8月22日
发明者郭世波, 朱承达, 陈庆友, 刘静, 孙纬伟 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 合肥京东方光电科技有限公司