32]为了形成孔板1200，在一些示例中，心轴500位于和/或浸入电镀液中以形成金属外壳和/或孔板104、201和/或用例如金、钯和/或铑进行电镀(块1320)。在一些示例中，外壳104、201的导电性使得外壳104、201能够充当用于采样的电子端子。电镀液可以包括诸如镍、金和/或铂之类的金属。在一些示例中，电镀液的金属不针对碳化娃进行电镀，因为碳化硅不导电。因此，外壳104、201的孔130被限定在碳化硅所在之处，并且碳化硅因此可以用来控制孔130的尺寸。
[0033]在特定量的时间之后，在一些示例中，从电镀液中移除心轴500和外壳104、201、1302并且从心轴500移除和/或剥离外壳104,201 (块1322)。传感器108和加热器110位于邻近衬底102的表面115处(块1323)。所图示的示例的外壳104、201然后被耦接到衬底102以使得传感器108、加热器110和纳米颗粒114位于由外壳104、201所限定的腔室106内(±夬1324)。为了围起腔室106和/或覆盖由外壳104、201所限定的孔130，将密封物132耦接到外壳104,201,1302 (块1326)。方法1300然后终止或者返回块1302。
[0034]图14描绘了根据本公开的教导可以用于分析电路中的示例衬底、墨和/或化学模型1400。该模型1400包括第一电阻器1402、第二电阻器1404、第三电阻器1406、电极1408、1410和电容器1412。在一些示例中，电容器1412的电容对应于腔室106中的物质和/或化学品的电双层电容器的电容。在一些示例中，第一电阻器1402对应于腔室106中的物质和/或化学品的块体的电阻。在一些示例中，第一电阻器1402的电阻由离子浓度和/或量值确定并且与化学路径长度和/或横截面面积成比例。在一些示例中，第二电阻器1404的电阻对应于腔室106中的物质和/或化学品的块体和/或具有直接导电路径的路径的泄露路径电阻。在一些示例中，第三电阻器1410对应于传感器电路中的寄生电阻，其可以与金属层导电路径、触点等等相关联。
[0035]基于模型1400，在一些示例中，针对增益(Vout/Vin)提出传递函数。在一些示例中，腔室106中的物质和/或化学品的不同电阻和/或性质提供频率响应和/或信号。在一些示例中，可以分析该频率响应以标识腔室106中的物质和/或化学品的参数和/或特性。
[0036]如本文中阐述的，检测物质的示例设备包括限定第一腔室的外壳。衬底被耦接到外壳。衬底包括位于第一腔室内的纳米结构。纳米结构用于在暴露于物质时对该物质作出反应。设备包括位于第一腔室内的第一加热器。该加热器用于加热物质的至少一部分以使设备准备好用于分析。在一些示例中，第一加热器包括电阻器。在一些示例中，设备包括位于第一腔室内的传感器。该传感器用于测量物质的参数值。传感器不同于纳米结构。在一些示例中，传感器包括电容器。在一些示例中，参数值包括阻抗或电容中的至少一个。
[0037]在一些示例中，设备包括围起第一腔室的至少一部分以保护纳米结构免于过早暴露的密封物。在一些示例中，该密封物包括透明材料、柔性材料、可移除材料或聚合物材料中的至少一个。在一些示例中，外壳包括镍、金、铀、钯或铭。在一些示例中，外壳包括孔板。在一些示例中，外壳用金、钯或铑中的至少一个进行电镀。在一些示例中，衬底包括表面增强拉曼光谱法衬底、自激表面增强拉曼光谱法衬底、增强荧光光谱法衬底或增强发光光谱法衬底中的至少一个。在一些示例中，外壳限定外部可访问的第二腔室。纳米结构附加地位于第二腔室内。在一些示例中，设备包括位于第二腔室内的第二加热器。第二加热器用于加热物质的至少一部分以缩短直到第二腔室准备好用于分析的时间。
[0038]检测物质的示例设备包括限定腔室的外壳。衬底被耦接到外壳。衬底包括位于腔室内的纳米结构。纳米结构用于在暴露于物质时对该物质作出反应。设备包括位于腔室内的传感器。传感器用于测量物质的参数值。传感器不同于纳米结构。
[0039]制造检测物质的设备的示例方法包括将心轴浸入电镀液中以形成外壳。心轴包括与外壳的期望的孔或结构对应的图案或结构。该方法包括将外壳从心轴移除并且将外壳耦接到衬底。外壳用于限定加热器和衬底的纳米结构所位于其中的腔室。纳米结构用于在暴露于物质的情况下证明对物质的暴露。
[0040]尽管本文中已经描述了某些示例方法、装置和制品，但是本专利的覆盖范围不限于此。相反，本专利覆盖清晰地落入本专利的权利要求范围内的所有方法、装置和制品。
【主权项】
1.一种检测物质的设备，包括: 外壳，限定第一腔室； 衬底，親接到所述外壳，所述衬底包括位于所述第一腔室内的纳米结构，所述纳米结构用于当暴露于物质时对所述物质作出反应；以及 第一加热器，位于所述第一腔室内，所述加热器用于加热所述物质的至少一部分以使所述设备准备好用于分析。2.权利要求1所述的设备，其中所述第一加热器包括电阻器。3.权利要求1所述的设备，进一步包括位于所述第一腔室内的传感器，所述传感器用于测量所述物质的参数值，所述传感器不同于所述纳米结构。4.权利要求3所述的设备，其中所述传感器包括电容器。5.权利要求3所述的设备，其中所述参数值包括阻抗或电容中的至少一个。6.权利要求1所述的设备，还包括围起所述第一腔室的至少一部分以保护所述纳米结构免于过早暴露的密封物。7.权利要求6所述的设备，其中所述密封物包括透明材料、柔性材料、可移除材料或聚合物材料中的至少一个。8.权利要求1所述的设备，其中所述外壳包括镍、金、铂、钯或铑。9.权利要求1所述的设备，其中所述外壳包括孔板。10.权利要求1所述的设备，其中所述外壳用金、钯或铑中的至少一个进行电镀。11.权利要求1所述的设备，其中所述衬底包括表面增强拉曼光谱法衬底、自激表面增强拉曼光谱法衬底、增强荧光光谱法衬底或增强发光光谱法衬底中的至少一个。12.权利要求1所述的设备，其中所述外壳限定第二腔室，所述纳米结构附加地位于所述第二腔室内。13.权利要求12所述的设备，进一步包括位于所述第二腔室内的第二加热器，所述第二加热器用于加热所述物质的至少一部分以缩短直到所述第二腔室准备好用于分析的时间。14.一种检测物质的设备，包括: 外壳，限定腔室； 衬底，親接到外壳，所述衬底包括位于所述腔室内的纳米结构，所述纳米结构用于在暴露于物质时对所述物质作出反应；以及 传感器，位于所述腔室内，所述传感器用于测量所述物质的参数值，所述传感器不同于所述纳米结构。15.一种制造检测物质的设备的方法，包括: 将心轴浸入电镀液中以形成外壳，所述心轴包括与所述外壳的期望的孔或结构对应的图案或结构； 将所述外壳从所述心轴移除；以及 将所述外壳耦接到所述衬底，所述外壳用于限定加热器和衬底的纳米结构所位于其中的腔室，所述纳米结构用于在暴露于所述物质的情况下证明对所述物质的暴露。
【专利摘要】公开了检测物质的设备和制造这样的设备的方法。检测物质的示例设备包括限定第一腔室的外壳和耦接到外壳的衬底。衬底包括位于第一腔室内的纳米结构。该纳米结构用于在暴露于物质时对该物质作出反应。设备包括位于第一腔室内的第一加热器。该加热器用于加热物质的至少一部分以使设备准备好用于分析。
【IPC分类】B82B1/00, G01N21/65, G01N27/00
【公开号】CN105143859
【申请号】CN201380076209
【发明人】李智勇, 葛宁, S.J.巴塞罗, 郭惠沛
【申请人】惠普发展公司，有限责任合伙企业
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2013年3月14日
【公告号】WO2014142913A1