一种触控面板及显示装置的制作方法

文档序号:11153982阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种触控面板,其特征在于,包括阵列基板与彩膜基板,及设于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶;其中,

所述阵列基板包括第一基板、设于所述第一基板上的TFT结构层、设于所述TFT结构层上的绝缘层及设于所述绝缘层上的像素电极层与共电极层;

其中,所述阵列基板包括相互交叉排列的多条水平方向的栅极线与多条竖直方向的数据线,所述共电极层包括多条交叉连接的水平共电极线及多条竖直共电极线,多条所述水平共电极线与多条所述竖直共电极线间隔形成多个相互独立的触控网格单元,且任意两个所述触控网格单元相互隔开,每个所述触控网格单元分别与触控芯片连接;

其中,多条所述竖直共电极线与多条所述数据线一一对应,且每条所述竖直共电极线均对与其对应的所述数据线进行遮光;

所述彩膜基板包括第二基板及设于所述第二基板上的多个黑色矩阵层,多个所述黑色矩阵层与多条所述栅极线一一对应,且每个所述黑色矩阵层均对与其对应的所述栅极线进行遮光;

其中,在竖直方向相邻两个所述触控网格单元互相隔开形成间断区域,所述间断区域位于所述黑色矩阵层下方对应位置,每个所述黑色矩阵层对与其对应的所述间断区域进行遮光。

2.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,每条所述栅极线上方对应的每个所述触控网格单元均设有所述间断区域。

3.根据权利要求1或2所述的触控面板,其特征在于,沿竖直方向,每个所述间断区域的宽度小于所述黑色矩阵层的宽度,每个所述间断区域的面积小于其上方对应的所述黑色矩阵层的面积。

4.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,所述黑色矩阵层为不透光材料,所述共电极层的制作材料为ITO材料,所述黑色矩阵层设于所述彩膜基板上。

5.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,每个所述触控网格单元均为一体化结构。

6.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,多个所述触控网格单元形成多行多列的矩阵排布,相邻两行的所述触控网格单元中,每列相邻的两个所述触控网格单元之间均互相隔开形成所述间断区域。

7.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,沿水平方向,相邻两列所述触控网格单元的间距为相邻两条所述数据线之间的间距。

8.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,所述像素电极层与所述共电极层处于同一层面。

9.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,所述水平共电极线与所述竖直共电极线处于同一层面,并通过同一制作步骤制成。

10.一种显示装置,其特征在于,其包括权利要求1~9任一项所述的触控面板。

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