一种阵列基板及触控显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明实施例涉及液晶显示器技术领域，尤其涉及一种阵列基板及触控显示装置。
【背景技术】
[0002]液晶显示屏，英文通称为LCD (Liquid Crystal Display)，是属于平面显示器的一种。随着科技的发展，LCD也朝着轻、薄的目标发展，无论是广视角显示、低耗电量、厚度薄、还是零辐射等优点，都能让使用者享受最佳的视觉效果。
[0003]具有触控功能的显示器是基于功能丰富化的技术产生的，比较常见的触控技术有In-cell触控技术和On-cell触控技术。其中，In-cell触控技术是指将触摸面板功能嵌入到液晶显示面板内部的技术，On-cell触控技术是指将触摸面板功能嵌入到彩膜基板和偏光板之间的技术。由于In-cell触控技术能够使显示器更轻薄，因此更被关注。
[0004]现有技术的触控显示装置的阵列基板，由于需要单独设置触控走线，增加了装置的厚度、降低了透过率并且增加了制程的时间，降低了生产效率。
【发明内容】
[0005]本发明实施例提供一种阵列基板及触控显示装置，以实现减少制程数量，提高生产效率的效果。
[0006]第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括:
[0007]基板；
[0008]设置在所述基板上的绝缘相交的多条扫描线和多条数据线，所述多条扫描线沿第一方向延伸，所述数据线沿第二方向延伸；
[0009]位于所述数据线所在膜层上方的公共电极层，所述公共电极层包括多个间隔设置且以阵列方式排列的触控电极块；
[0010]多条触控电极线，每条所述触控电极线通过一第一连接结构与一个对应的触控电极块连接；
[0011]所述扫描线或所述数据线包括:与所述触控电极线同层的走线部，以及与所述触控电极线异层的跨接部，相邻的走线部通过一第二连接结构与所述跨接部连接。
[0012]第二方面，本发明实施例还提供一种触控显示装置，包本发明第一方面所提供的阵列基板。
[0013]本发明提供的技术方案，将所述扫描线或所述数据线设置为包括与所述触控电极线同层的走线部，以及与所述触控电极线异层的跨接部的结构，且相邻的走线部通过一第二连接结构与所述跨接部连接，每条所述触控电极线通过一第一连接结构与一个对应的触控电极块连接，相对于现有技术，该技术方案可以将触控电极线与扫描线或数据线在同一制作工艺中完成，能够减少一道专门制作触控电极线的工艺制程，进而能够提高生产效率。
[0014]再者，本发明实施例将触控电极线与扫描线走线部或数据线走线部在同一制作工艺中完成，使其不需要再设置在平坦化层之上，提高了像素电极和公共电极的平整度，提高了显示装置的显示效果。
【附图说明】
[0015]图1为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视图；
[0016]图2为本发明实施例提供的扫描线跨接部与遮光层同层绝缘设置的结构示意图；
[0017]图3为本发明实施例提供的一种第一连接结构的结构示意图；
[0018]图4为本发明实施例提供的另一种第一连接结构的结构示意图；
[0019]图5为本发明实施例提供的扫描线跨接部与触控电极块同层绝缘设置的结构示意图；
[0020]图6为扫描线跨接部与触控电极块同层绝缘设置时，第二连接结构的又一种结构示意图；
[0021]图7为本发明实施例提供的扫描线跨接部与像素电极同层绝缘设置的结构示意图；
[0022]图8为扫描线跨接部与像素电极同层绝缘设置时，第二连接结构的又一种结构示意图；
[0023]图9为扫描线跨接部与像素电极同层绝缘设置时，第二连接结构的又一种结构示意图；
[0024]图10本发明实施例提供的当像素电极位于触控电极块的下方时第一连接结构的结构示意图；
[0025]图11为本发明实施例提供的当像素电极位于触控电极块的下方时第二连接结构的结构不意图；
[0026]图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板的俯视图；
[0027]图13为数据线包括走线部和跨接部时，数据线跨接部与遮光层同层绝缘设置的结构示意图；
[0028]图14为本发明实施提供的一种第一连接结构的结构示意图；
[0029]图15为数据线跨接部与遮光层同层绝缘设置时，第二连接结构的又一种结构示意图；
[0030]图16为本发明实施例提供的数据线跨接部与触控电极块同层绝缘设置的结构示意图；
[0031]图17为本发明实施例提供的数据线跨接部与像素同层绝缘设置的结构示意图；
[0032]图18为数据线跨接部与像素电极同层绝缘设置时，第二连接结构的又一种结构示意图。
【具体实施方式】
[0033]下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
[0034]图1为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视图，如图1所示，该阵列基板具体包括:基板11 ;设置在所述基板11上的绝缘相交的多条扫描线12和多条数据线13，所述多条扫描线12沿第一方向延伸，所述数据线13沿第二方向延伸；位于所述数据线13所在膜层上方的公共电极层14，所述公共电极层14包括多个间隔设置且以阵列方式排列的触控电极块141 ;多条触控电极线15，每条所述触控电极线15通过一第一连接结构与一个对应的触控电极块141连接。
[0035]为了节省制程，提高生产效率，将所述扫描线设置为下列结构:
[0036]所述扫描线12包括:与所述触控电极线15同层的走线部121，以及与所述触控电极线15异层的跨接部122，相邻的走线部121通过一第二连接结构与所述跨接部122连接。具体的，在制作工艺中，可以在基板11上形成一金属层之后，采用构图工艺同时形成多条沿第一方向延伸的扫描线12和多条沿第二方向延伸的触控电极线15，沿第一方向延伸的多条扫描线12被触控电极线15间隔开形成走线部121。为实现扫描线能够成功输送扫描信号，则需要将沿第一方向相互断开的走线部121连接在一起，即需要设置与触控电极线15非同层的跨接部122，形成多条完整的扫描线12。
[0037]相对于现有技术，本实施例所提供的技术方案，通过将触控电极线15与扫描线12的走线部121在同一制作工艺中完成，无需因制作触控电极线而单独增加制程，减少了一道制作工艺，进而提高了生产效率。
[0038]再者，现有技术中，为了提高像素电极和公共电极的平整度，在数据线层上会设置一层厚度较大的平坦化层。但是由于触控电极线需要设置在平坦化层之上，以和触控电极块连接，触控电极线的存在降低了像素电极和公共电极的平整度，影响了显示效果。本发明实施例将触控电极线15与扫描线12的走线部121在同一制作工艺中完成，使其不需要再设置在平坦化层之上，提高了像素电极和公共电极的平整度，提高了显示装置的显示效果。
[0039]在上述实施例的基础上，设置所述多条触控电极线15沿第二方向延伸，在所述第一方向上，相邻的所述扫描线12的走线部121之间具有间隔，所述间隔121处设置有所述触控电极线15。进一步的，所述触控电极线15在基板11上的正投影与所述数据线13在所述基板11上的正投影重叠。这样设置的好处是，保证触控电极线15不影响各像素单元的开口率。
[0040]对于上述实施例中，将所述扫描线设置为包括与所述触控电极线同层的走线部，以及与所述触控电极线异层的跨接部，相邻的走线部通过一第二连接结构与所述跨接部连接，具体有多种实现方式，例如跨接部的位置设置、相邻的走线部通过一第二连接结构与所述跨接部连接的方式等。此外，所述触控电极线通过一第一连接结构与一个对应的触控电极块连接也有多种实现方式，下面就各优选实施方式进行详细描述。
[0041]本发明实施例提供的阵列基板中所述扫描线包括:与所述触控电极线同层的走线部，以及与所述触控电极线异层的跨接部，相邻的走线部通过一第二连接结构与所述跨接部连接。由于扫描线走线部之间具有间隔，间隔处设置有触控电极线，因此需要设置与扫描线走线部以及触控电极线异层的跨接部，具体的，所述跨接部可以与阵列基板的遮光层同层绝缘设置，还可以与触控电极块同层绝缘设置，或者与像素电极同层绝缘设置。
[0042]图2为本发明实施例提供的扫描线跨接部与遮光层同层绝缘设置的结构示意图，该结构示意图为沿图1中A-A'线的剖视图，如图2所示，所述阵列基板包括:基板21 ;设置在所述基板21上的绝缘相交的多条扫描线22和多条数据线23，所述多条扫描线22沿第一方向延伸，所述数据线23沿第二方向延伸；位于所述数据线23所在膜层上方的公共电极层24，所述公共电极层24包括多个间隔设置且以阵列方式排列的触控电极块241 ;多条触控电极线25，每条所述触控电极线25通过一第一连接结构与一个对应的触控电极块241连接。所述扫描线22包括:与所述触控电极线25同层的走线部221，以及与所述触控电极线25异层的跨接部222，相邻的走线部221通过一第二连接结构与所述跨接部222连接。所述阵列基板还包括位于所述基板21和所述扫描线22的走线部221所在膜层之间的遮光层26，所述扫描线22的跨接部222与所述遮光层26同层绝缘设置。
[0043]具体地，多条扫描线22和多条数据线23绝缘相交限定出多个矩阵排列的像素单元，每个像素单元包括一个薄膜晶体管开关27，所述遮光层26位于所述薄膜晶体管开关27的半导体层271朝向基板21的一侧，用于遮挡背光模组产生的光线，防止光线照射导致薄膜晶体管开关27的半导体层271退化以及防止薄膜晶体管开关27产生漏电流。具体的，本实施例的阵列基板可以是在制作工艺过程中，在基板21上形成遮