图案的不可见性优异的透明导电光学片的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种包含氧化铟锡（indiumtinoxide，IT0)的透明导电光学片，更 具体地，涉及一种在触摸屏面板等上使用的包含蚀刻形成图案等的IT0层的透明导电光学 片。
【背景技术】
[0002] 最近，触摸屏面板（touchscreenpanel，TSP)普遍应用于手机、平板仪器、监视器 等的显示器上。作为这种TSP的关键材料，主要使用包含作为透明导电材料的IT0的光学 片。
[0003] 包含IT0的光学片使用于触摸屏面板时，一般对IT0层进行部分蚀刻来形成感应 图案。然而，由于IT0具有从可视光波长区域（380~730nm)越向短波长方向移动折射率 越高的固有的分散（dispersion)特性，特别是，IT0层反射的光在450nm以下的波长情况 下反射更多的光，因此反射率高且反射色呈绿色。根据这种特性，在形成有图案等的IT0层 中，非蚀刻部和蚀刻部的反射率和反射色会存在很大差别，这会使IT0层的图案被用户的 肉眼识别而导致在下部显示器上所要显示的图像清晰度下降。
[0004] 由此，正在开发旨在改善图像清晰度的光学片（参照韩国公开专利公报第 2010-0008758号），该薄片在透明基层与IT0层之间具备折射率匹配层（refractiveindex matchinglayer)，由此通过薄膜干涉效果对IT0层的非蚀刻部和蚀刻部之间的光学特性进 行修正来改善图像清晰度。
[0005] 然而，现有的透明导电光学片在光学/电学/机械特性方面还存在需要改进的地 方。
【发明内容】
[0006] (一）要解决的技术问题
[0007] 因而，本发明的目的在于提供一种透明导电光学片，该透明导电光学片通过对IT0 层的非蚀刻部与蚀刻部之间的反射光的差异进行修改来提高不可见性，由此使所要显示的 图像清晰度不会下降。
[0008] (二）技术方案
[0009] 为了实现上述目的，本发明提供一种透明导电光学片，该透明导电光学片具有依 次层叠透明基层、第一折射率匹配层、第二折射率匹配层、第三折射率匹配层及氧化铟锡 (IT0)层的结构，所述IT0层包括非蚀刻部和蚀刻部，所述第一折射率匹配层和第三折射 率匹配层对550nm波长的折射率均等于或者小于所述透明基层及IT0层，所述第二折射率 匹配层的厚度大于所述第一折射率匹配层和第三折射率匹配层的厚度，所述透明导电光学 片，测量对可视光区域的各波长的IT0层的非蚀刻部及蚀刻部的反射率时，以下数学式1的 AR值为0~1. 0,利用对D65光源的2°视野的反射光测量L*a*b*颜色坐标系的反射色 时，由以下数学式2表示的AER值为0~6. 0，
[0010] 数学式1
[0011]
[0012] 在所述数学式1中，i表示可视光区域的各波长，表示各波长的IT0层的非蚀 刻部的反射率，:r2i表不各波长的IT0层的蚀刻部的反射率，n表不测量波长的总数，
[0013] 数学式2
[0014]
[0015] 在所述数学式2中，[^^七及b*i分别为IT0层的非蚀刻部的反射色的L*、a*及 b*，L*2、8*2及b* 2分别为IT0层的蚀刻部的反射色的L*、a*及b*。
[0016] (三）有益效果
[0017] 所述透明导电光学片通过所具有的各折射率匹配层的薄膜干涉效果，对IT0层的 非蚀刻部和蚀刻部的反射率和反射色的差进行修正，使用户无法通过视觉识别非蚀刻部和 蚀刻部，从而能够使下部显示器上所要显示的图像清晰度不会下降。并且，由于所述透明导 电光学片在进行热处理时，IT0层的结晶率优异且尺寸变化率小，因此稳定性和可靠性高， 且由于具有优异的表面硬度，因此操作性高。因而，所述透明导电光学片能够广泛利用于各 种电子仪器的显示器面板中应用的触摸屏面板领域。
【附图说明】
[0018] 图1是表示本发明的透明导电光学片结构的一个典型例子的图。
[0019] 图2是表示应用于显示面板的透明导电光学片的一个例子及反射光的图。
【附图说明】 [0020] 标记
[0021] 100 :透明基层 200:IT0 层
[0022] 210 :非蚀刻部 220 :蚀刻部
[0023] 300:显示面板 400 :第一折射率匹配层
[0024] 410:第二折射率匹配层 420 :第三折射率匹配层
[0025] 610:非蚀刻部的反射光 620 :蚀刻部的反射光
【具体实施方式】
[0026] 下面，根据本发明的具体实施例更加具体地说明。
[0027] 参照附图1，本发明的一个实施例的透明导电光学片具有在透明基层100上依次 层叠第一折射率匹配层400、第二折射率匹配层410、第三折射率匹配层420及IT0层200 的结构。
[0028] 并且，所述IT0层200包括非蚀刻部210和蚀刻部220。
[0029] 根据本发明的另一实施例，在所述透明基层与第一折射率匹配层之间可以包括一 层或者两层以上的附加的折射率匹配层。
[0030] 根据本发明的又一实施例，在所述IT0层与第三折射率匹配层之间可以包括一层 或者两层以上的附加的折射率匹配层。
[0031] 下面，具体说明各结构层。
[0032] 透明基层
[0033] 透明基层是在本发明的透明导电光学片中位于最外围的层，起到支撑体的作用。
[0034] 对550nm波长的透明基层的折射率可以为1. 50至1. 70,还可以进一步限定为 1. 60至1. 70,可以再限定为1. 63至1. 67。折射率处于所述范围时，折射率匹配层的薄膜干 涉效果会更加优异。
[0035] 并且，透明基层的厚度可以为2至250ym，还可以进一步限定为2至188ym，可以 再限定为2至125ym。厚度处于所述范围时，作为TSP薄板使用时，由于厚度薄且加工型良 好，因此实用性会更高。
[0036] 并且，作为透明基层的主要成分可以为聚酯树脂、纤维素树脂、丙烯树脂、聚碳酸 酯树脂、环烯烃高分子（C0P)树脂及这些树脂的组合，作为更具体的例子，可以为聚对苯二 甲酸乙二醇酯（PET)树脂、三醋酸纤维素（TAC)树脂、聚碳酸酯（PC)树脂、聚甲基丙烯酸甲 酯（PMMA)树脂、环烯烃高分子（C0P)树脂及这些树脂的组合。
[0037] 折射率匹配层
[0038] 本发明的透明导电光学片包括具备不同折射率的三层折射率匹配层（refractive indexmatchinglayers)，从而诱发薄膜干涉现象（thinfilminterference)，对IT0层的 非蚀刻部和蚀刻部的反射率和反射光的差进行修正，从而降低其可见性，能够使下部显示 面板上所要显示的图像清晰度不会下降。
[0039] 三层的折射率匹配层是在透明基层上依次层叠第一折射率匹配层、第二折射率匹 配层和第三折射率匹配层。
[0040] 所述三层折射率匹配层中的所述第一折射率匹配层及第三折射率匹配层对550nm 波长的折射率均等于或者小于所述透明基层及IT0层。并且，优选地，所述第二折射率匹配 层的折射率高于第一折射率匹配层及第三折射率匹配层的折射率。
[0041] 更加具体地，基层、第一折射率匹配层、第二折射率匹配层、第三折射率匹配层及 IT0层的折射率之间关系如下。
[0042] 首先，所述第一折射率匹配层及第三折射率匹配层对550nm波长的折射率可以相 近或者相同，例如，其折射率差可以为〇.15以下。
[0043] 并且，优选地，所述第二折射率匹配层对550nm波长的折射率，分别与所述第一折 射率匹配层和第三折射率匹配层的折射率相比，其折射率差为0. 01至0. 165。
[0044] 并且，所述透明基层与所述第一折射率匹配层及第三折射率匹配层比较时，与对 550nm波长的折射率可以相同或者比其大0. 01至0. 16。
[0045] (1)第一折射率匹配层
[0046] 第一折射率匹配层层叠在透明基层上，起到诱发薄膜干涉现象同时提高透明基层 和第二折射率匹配层的粘结力的作用。
[0047] 优选地，第一折射率匹配层对550nm波长的折射率低于透明基层的折射率。
[0048] 例如，第一折射率匹配层的折射率可以为1. 5至1. 66,还可以进一步限定为1. 52 至1. 66,可以再限定为1. 63至1. 66。折射率处于所述范围时，薄膜干涉效果会更好。
[0049] 并且，第一折射率匹配层的厚度可以为50nm至150nm，还可以进一步限定为60nm 至120nm，可以再限定为70nm至90nm。厚度处于所述范围时，薄膜干涉效果会更好，而且与 第二折射率匹配层的粘结会更好。
[0050] 并且，可用于第一折射率匹配层的主要成分的树脂有胺基甲酸酯丙烯酸酯树脂、 环氧丙烯酸酯树脂、聚酯树脂及这些树脂的混合树脂等。
[0051] 为了调节折射率，在所述第一折射率匹配层上还可以进一步添加选自Zr02、 Ti02、Zn02、Sb203、Sb205、ATO(antimonytinoxide)、AZO(antimonyzincoxide)、 PT0(phosphoroustinoxide)及这些成分的组合的粒子。以第一折射率匹配层中使用的原 料树脂的固体含量100重量份计，所述添加的粒子含量可以为30至100重量份。
[0052] 并且，在所述第一折射率匹配层上可以添加硅类流平剂，以第一折射率匹配层中 使用的原料树脂的固体含量1〇〇重量份计，所述硅类流平剂的含量可以为〇. 1至2. 0重量 份。
[0053] (2)第二折射率匹配层
[0054] 第二折射率匹配层层叠在所述第一折射率匹配