磨机，磨料采用粒度W14金刚砂，粗磨底模采用铸铁底板，压力采用先轻压，压力为100kg，保持5分钟，磨盘的转速为15RPM，再重力，压力为300kg，保持30分钟，磨盘的转速为30RPM，然后再轻压，压力为80kg，保持10分钟，磨盘的转速为10RPM ；
[0026]进行初抛工序时，采用双面精密抛光机，磨料采用粒度小于l.0ym的氧化铈抛光粉，抛光垫的材料采用聚氨酯抛光皮，压力采用先轻压，压力为100kg，保持5分钟，磨盘的转速为10RPM，再重力，压力为280kg，保持60分钟，磨盘的转速为25RPM，然后再轻压，压力为80kg，保持15分钟，磨盘的转速为10RPM ；
[0027]进行精抛工序时，采用双面精密抛光机，磨料采用粒度小于0.5 ym的氧化铈抛光粉，抛光垫的材料采用黑色阻尼布，压力采用先轻压，压力为50kg，保持5分钟，再重力，压力为80kg，保持20分钟，然后再轻压，压力为50kg，保持10分钟，磨盘的转速为25RPM ；
[0028]进行化学强化工序时，先预热强化炉，预热温度为380±10°C，预热时间为100分钟，接着在所述强化炉内加入添加剂，该添加剂为硅酸和硝酸钾的组合物，其中硅酸的含量为0.33 %，再将工件送入强化炉内强化，并将强化炉的温度加热到410 ± 5°C，保持强化时间为4小时土 10分钟，出强化炉之前，将冷却炉的温度加热至390±5°C，然后将工件放入冷却炉内进行缓冷，直至工件温度为50°C以下方可移出冷却炉，最后工件冷却至常温后方可对工件进行清洗。
[0029]本发明的玻璃母盘基片的制造工艺，在进行磨边工序时，采用精密镜片研磨的芯取机，在进行精磨工序、初抛工序和精抛工序，采用特殊的磨料，并配合特定的工艺参数，使产品的表面粗糙度达到纳米级指标，在进行化学强化工序时，采用特制的添加剂配方及特定的工艺参数完成整个强化过程，使玻璃表面形成压缩应力层。经此强化过程，能大大提高玻璃的致密度和预应力，增加玻璃表面的硬度和耐冲击性能，并能保持玻璃表面的光洁度(精抛度)和平整度，且不改变外形尺寸，使玻璃不易刮伤和破碎，提高产品的安全性和可靠性，使产品的各项性能指标能满足蓝光技术光盘的要求。
[0030]以上实施例仅供说明本发明之用，而非对本发明的限制，有关技术领域的技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以作出各种变换或变型，因此所有等同的技术方案也应该属于本发明的范畴，应由各权利要求所限定。
【主权项】
1.一种玻璃母盘基片的制造工艺，包括下列依次进行的工序:成型工序、磨边工序、筛选面型工序、手工面型修正工序、精磨工序、初抛工序、精抛工序、超声波净化工序、化学强化工序及表面净化处理工序，其特征在于， 进行所述成型工序时，采用手工圆镜机，根据图纸要求进行划圆； 进行所述磨边工序时，采用芯取机，一次完成工件的外形和倒角加工； 进行所述筛选面型工序时，根据产品的大小选择相应规格的O级刀口尺，对完成磨边工序的工件进行面型筛选，面型合格品进入所述精磨工序，面型不合格品流入所述手工面型修正工序； 进行所述手工面型修正工序时，采用单轴精磨机，磨料采用W14金刚砂，先手工轻压工件进行面型修正，再用所述刀口尺进行面型检测，面型合格品进入所述精磨工序； 进行所述精磨工序时，采用双面精磨机，磨料采用粒度W14金刚砂，粗磨底模采用铸铁底板，压力采用先轻压，压力为100kg，保持5分钟，磨盘的转速为15RPM，再重力，压力为300kg，保持30分钟，磨盘的转速为30RPM，然后再轻压，压力为80kg，保持10分钟，磨盘的转速为10RPM ； 进行所述初抛工序时，采用双面精密抛光机，磨料采用粒度小于1.0 μ m的氧化铈抛光粉，抛光垫的材料采用聚氨酯抛光皮，压力采用先轻压，压力为100kg，保持5分钟，磨盘的转速为10RPM，再重力，压力为280kg，保持60分钟，磨盘的转速为25RPM，然后再轻压，压力为80kg，保持15分钟，磨盘的转速为10RPM ； 进行所述精抛工序时，采用双面精密抛光机，磨料采用粒度小于0.5 μπι的氧化铈抛光粉，抛光垫的材料采用黑色阻尼布，压力采用先轻压，压力为50kg，保持5分钟，再重力，压力为80kg，保持20分钟，然后再轻压，压力为50kg，保持10分钟，磨盘的转速为25RPM ； 进行所述化学强化工序时，先预热强化炉，预热温度为380±10°C，预热时间为100分钟，再将工件送入强化炉内强化，并将强化炉的温度加热到410±5°C，保持强化时间为4小时±10分钟，出强化炉之前，将冷却炉的温度加热至390±5°C，然后将工件放入冷却炉内进行缓冷，直至工件温度为50°C以下方可移出冷却炉，最后工件冷却至常温后方可对工件进行清洗。
2.根据权利要求1所述的玻璃母盘基片的制造工艺，其特征在于，进行所述成型工序时，所述划圆采用金刚石刀头。
3.根据权利要求1所述的玻璃母盘基片的制造工艺，其特征在于，进行所述磨边工序时，磨料采用水溶性冷却液，磨轮采用380号金刚石砂轮，磨轮的驱动电机的转速为2500转/分钟。
4.根据权利要求1所述的玻璃母盘基片的制造工艺，其特征在于，进行所述化学强化工序时，先要在所述强化炉内加入添加剂，再将工件送入强化炉内强化。
5.根据权利要求4所述的玻璃母盘基片的制造工艺，其特征在于，所述添加剂为硅酸和硝酸钾的组合物，其中硅酸的含量为0.33%。
【专利摘要】本发明公开了一种玻璃母盘基片的制造工艺，包括下列依次进行的工序：成型工序、磨边工序、筛选面型工序、手工面型修正工序、精磨工序、初抛工序、精抛工序、超声波净化工序、化学强化工序及表面净化处理工序。本发明的玻璃母盘基片的制造工艺，采用精密镜片研磨的芯取机进行磨边工序，采用特殊的磨料，并配合特定的工艺参数进行精磨工序、初抛工序和精抛工序，采用特制的添加剂配方及特定的工艺参数完成整个化学强化工序，不仅使产品的表面粗糙度达到纳米级指标，还能大大提高玻璃的致密度和预应力，增加玻璃表面的硬度和耐冲击性能，并能保持玻璃表面的光洁度和平整度，且不改变外形尺寸，使玻璃不易刮伤和破碎，提高产品的安全性和可靠性。
【IPC分类】B24B1-00, G11B7-26
【公开号】CN104616672
【申请号】CN201510032562
【发明人】高为标
【申请人】上海光和光学制造股份有限公司
【公开日】2015年5月13日
【申请日】2015年1月22日