负载锁定装置和真空处理系统的制作方法

专利名称：负载锁定装置和真空处理系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及负载锁定装置和真空处理系统，详细来说，涉及向在真空条件下对基
板进行处理的真空处理装置搬送该基板用的，构成为能够切换大气压状态和真空状态的负 载锁定装置和具备该负载锁定装置的真空处理系统。
背景技术：
为了在真空条件下对FPD(平板显示器)用的玻璃基板等的基板进行等离子体蚀 刻、等离子体灰化、等离子体成膜等的处理，使用真空处理装置。从外部向这样的真空处理 装置进行的基板的搬送，通过具备使基板待机的待机平台(缓冲平台)、并且具备能够将内 部压力在大气压状态和真空状态之间切换的真空预备室的负载锁定装置进行。作为涉及负 载锁定装置的技术，提案有为了提升向真空处理装置的基板搬送的生产能力并减小设置空 间而在上下多段形成多个真空预备室的结构(例如，专利文献1、专利文献2)。在多段配置 真空预备室的情况下，也有仅叠层多个真空预备室的结构，但考虑到负载锁定装置自身的 小型化、轻量化，希望是将一个壳体的内部使用隔板分割、在壳体中形成多个真空预备室的 结构。 专利文献1 :日本专利特开2004-216982号
专利文献2 :日本专利特开2004-273949号

发明内容
近年来，对FPD用基板的大型化要求更为强烈，也存在以一个边超过2m的巨大的
基板为处理对象的情况。对应于基板的大型化，负载锁定装置也大型化，在上述的由隔壁形
成多个真空预备室的负载锁定装置中，隔开多个真空预备室的隔壁也大型化。 在多段的真空预备室中，相邻的真空预备室内的压力不同的情况下，由于虽然小
但也存在的压力差，隔壁会产生变形(弯曲)。例如，在真空预备室构成为上下2段的类型
的负载锁定装置中，上段的真空预备室为真空状态、下段的真空预备室为大气压状态的情
况下，由于压力差在隔壁上施加大的力，隔壁会向上凸起变形为弓形。此外，上段的真空预
备室为大气压状态、下段的真空预备室为真空状态的情况下，与上述相反，隔壁会向下变形
为凸状。这样的压力差造成的变形使得隔壁端部的密封面产生变位。隔壁端部的密封面夹
着0形环等的密封部件与门阀的阀体密封面等相接触，因此隔壁端部的密封面变位时，两
个密封面所夹的O形环等的密封部件被摩擦损耗，成为颗粒产生的原因。虽然为了不产生
由于压力差造成的变形，加厚隔壁使用的铝等的金属部件来提高刚性，能够改善上述问题，
但对应于隔壁变厚，就需要增大负载锁定装置整体的高度，会产生大型化、重量增加、材料
成本增加等问题。 因此，本发明的目的在于，提供在具有多段真空预备室的负载锁定装置中能够防 止隔壁的变形引起的颗粒发生的技术。 鉴于上述事实，本发明者经过潜心研究的结果，发现与其提高隔壁的刚性使变形消失，不如相反的在某种程度内容许隔壁变形，同时使得该变形造成的影响不传递到密封 面，由此解决上述课题，至此完成了本发明。 S卩，本发明的第一观点的负载锁定装置，是在真空条件下对基板进行处理的真空
处理系统内，将使基板待机并且能够在大气压状态和真空状态之间进行切换的真空预备室
通过隔壁隔开而配置成多个的负载锁定装置，其特征在于， 上述真空预备室包括 对基板进行搬入搬出用的开口部；禾口 以能够开闭的方式对上述开口部进行密封的门阀装置， 上述隔壁具有在与上述门阀装置之间隔着密封部件保持气密性的密封面，在上述
隔壁的中央部分和上述密封面之间具备在由于相邻的真空预备室之间的压力差而对上述
隔壁施加了应力时对从上述隔壁的中央部向上述密封面传递的上述应力进行缓和的机构。 此外，本发明的第二观点的负载锁定装置，是在真空条件下对基板进行处理的真
空处理系统内，将使基板待机并且能够在大气压状态和真空状态之间进行切换的真空预备
室通过隔壁隔开而配置成多个的负载锁定装置，其特征在于， 上述真空预备室包括 对基板进行搬入搬出用的开口部；禾口 以能够开闭的方式对上述开口部进行密封的门阀装置， 上述隔壁具有 在与上述门阀装置之间隔着密封部件保持气密性的密封面； 在上述密封面附近形成的贯通开口部；禾口 对上述贯通开口部的开口部分进行密封的弹性部件。 本发明第二观点的负载锁定装置中，优选在上述隔壁的中央部分与在上述隔壁的 端部形成的上述密封面之间，以上述中央部分为中心对称设置有一对上述贯通开口部。此 外，更优选上述贯通开口部形成为长条形，该贯通开口部的长边方向相对于上述密封面平 行。 此外，在本发明第二方面的负载锁定装置中，优选在上述贯通开口部内设置有加 强部件，用于抵抗施加在上述贯通开口部上的压縮力。在这种情况下，优选上述加强部件具 备与贯通开口部内部的壁面抵接的旋转体。 此外，在本发明第二方面的负载锁定装置中，优选在上述隔壁设置有从上述密封 面连通到上述贯通开口部的内部的压力调整孔，用于对上述贯通开口部内的压力进行调 整。 本发明的第三观点的基板处理系统，包括在真空条件下对基板进行处理的真空 处理室；在真空条件下向上述真空处理室搬送基板的真空搬送室；和上述第一观点或第二 观点的负载锁定装置。 本发明的负载锁定装置，设置有在由于相邻的真空预备室之间的压力差而对隔壁 施加了应力时对从隔壁的中央部分向密封面传递的应力进行缓和的机构(例如，贯通开口 部；和塞住其开口部分的弹性部件)，因此，能够将隔壁的变形仅限制在其中央部，能够抑 制隔壁的两端的密封面的变位。其结果，具有能够防止密封部件的损耗造成的颗粒产生的 效果。
本发明的真空处理系统，能够抑制在负载锁定装置内的颗粒的产生，因此能够防 止对在负载锁定装置内待机的基板的颗粒污染，能够提高在真空处理系统内制造的产品的 可靠性。


图1为示意表示真空处理系统的立体图。图2为表示图1的真空处理系统的内部结构的平面图。图3为表示第一实施方式的负载锁定装置的概略结构的截面图。图4为表示负载锁定装置的主要结构部件的分解立体图。图5为隔壁的外观立体图。图6为表示图3中缝隙部分结构的要部放大截面图。图7为说明不设置缝隙时和设置缝隙时的隔壁变形状态的图。图8为说明加强部件作用的图。图9为表示第二实施方式的负载锁定装置的概略结构的截面图。图10为表示图9中缝隙部分的机构的要部放大截面图。附图标记说明la、lb、lc处理腔室3搬送腔室5负载锁定装置7、8、9门阀装置27a、27b真空预备室28缓冲器41底壁43顶壁44肋47隔壁50压力调整孔51 570形环61弹性板71加强部件100真空处理系统101、 102缝隙基板s
具体实施例方式以下，参照附图，对本发明的实施方式进行详细说明。在此，以本发明的一个实施
方式的负载锁定装置的真空处理系统为例进行说明。[第一实施方式] 图1为示意表示真空处理系统100的立体图。图2为示意表示在各腔室的上盖开放的状态下内部的平面图。该真空处理系统100构成为具有多个处理腔室la、lb、lc的 多腔室结构。真空处理系统100例如构成为对FPD用的玻璃基板(以下，简称为"基板") S进行等离子体处理用的处理系统。其中，作为FPD，可以示例液晶显示器(LCD)、电致发光 (Electro Luminescence ;EL)显示器、等离子体显示器(PDP)等。 真空处理系统100中，多个大型腔室连结为十字形。在中央部配置有搬送腔室3，
与其三个侧面相邻配设有对基板S进行等离子体处理的3个处理腔室la、lb、lc。 处理腔室la、lb、lc，构成为能够将其内部空间维持在规定的减压气氛(真空状
态)。各处理腔室la、 lb、 lc内，如图2所示，配备有作为对基板S进行载置的载置台的基座2。 此外，与搬送腔室3余下的一个侧面相邻配设有负载锁定装置5。 3个处理腔室la、lb、lc、搬送腔室3和负载锁定装置5均作为真空腔室被构成。 在搬送腔室3和各处理腔室la、lb、lc之间分别配设有具有开关功能的门阀装置
7。此外，在搬送腔室3和负载锁定装置5之间配设有门阀装置8。门阀装置7、8能够在关
闭状态下对各腔室之间进行气密密封，并且在打开状态下使腔室之间连通，进行基板S的移送。 此外，在负载锁定装置5和外部的大气氛围之间也配备有门阀装置9，能够在关闭 状态下维持负载锁定装置5的气密性，并且在打开状态下使负载锁定装置5与外部之间进 行基板S的移送。 在负载锁定装置5的外侧，设置有2个盒指示器(indexer) 11a、llb。各盒式指示 器11a、llb之上载置收容各个基板S的盒C1、 C2。各盒C1、 C2内，上下空出间隔多段配置 基板S。此外，各盒Cl、C2分别构成为通过升降机构部13a、13b自由升降。在本实施方式 中，例如，能够构成为在一个盒C1中收容未处理基板，在另一个盒C2中收容处理完成的基 板。 在这2个盒C1、C2之间设置有用于搬送基板S的搬送装置15。该搬送装置15具 备上下2段设置的作为基板保持工具的叉17a和叉17b ;对这些叉17a、叉17b进行支承使 其能够进出、退避和旋转的支承部19 ;和具备对该支承部19进行驱动的驱动机构的驱动部 21。 各处理腔室la、 lb、 lc，在将基板S载置在基座2上的状态下，对基板S进行例如在 真空条件下的蚀刻处理、灰化处理、成膜处理等的等离子体处理。在本实施方式中，3个处理 腔室la、lb、lc可以进行同种处理，也可以进行各处理腔室不同种类的处理。其中，处理腔 室的数目不限为3个，也可以为4个以上。 搬送腔室3构成为与作为真空处理室的处理腔室la lc同样能够保持为规定 的减压气氛。搬送腔室3中，如图2所示，配设有搬送装置23。搬送装置23能够旋转，具 备通过进出、退避来搬送基板S的锯齿状的叉25。由此，通过搬送装置23，在3个处理腔室 la、lb、lc和负载锁定装置5之间进行基板S的搬送。 搬送装置23省略了图示，具备设置为上下2段的搬送机构，分别独立进行基板S 的搬送。 负载锁定装置5构成为与处理腔室la lc和搬送腔室3同样能够保持在规定的 减压气氛。负载锁定装置5用于在大气压下的盒C1、C2和减压气氛下的搬送腔室3之间进行基板S的交接。 负载锁定装置5以上下2段设置有真空预备室27a、27b (图2中仅图示了上段)。 真空预备室27a、27b由于要反复切换为大气压状态和真空状态，所以尽可能縮小其内容 积。各真空预备室27a、27b上隔着间隔配设有支承基板S的多个缓冲器28。这些缓冲器 28之间的间隙形成为锯齿状的叉(例如叉25)的退避槽。 如图2所示，真空处理系统100的各结构部构成为与控制部30连接而被控制(图 l中省略了图示)。控制部30包括具备CPU的控制器31、用户界面32和存储部33。控制 器31具有计算机功能，在真空处理系统100中，总括控制例如处理腔室la lc、负载锁定 装置5、搬送装置15、搬送装置23等的各结构部。用户界面32由工程管理者为管理真空处 理系统100而进行指令的输入操作等的键盘、将真空处理系统100的工作状况可视化显示 的显示器等构成。存储部33保存有用于通过控制器31的控制实现在真空处理系统100中 执行的各种处理的控制程序(软件)、存储有处理条件数据等的方案。用户界面32和存储 部33与控制器31连接。 而且，根据需要，根据来自用户界面32的指示等从存储部33调出任意的方案，由 控制器31执行，在控制器31的控制下，在真空处理系统100中进行期望的处理。
上述控制程序、处理条件数据等的方案，能够利用存储于计算机可读取的存储介 质例如CD-ROM、硬盘、软盘、闪存等的状态的程序和方案。或者，能够从其它装置，例如通过 专用线随时传送，以在线的方式利用。 接着，对以上结构的真空处理系统100的动作进行说明。 首先，进行驱动使搬送装置15的2个叉17a、 17b进退，从盒Cl接受未处理的基板 S，分别载置在负载锁定装置5的上下2段的各真空预备室27a、27b的缓冲器28上。
使叉17a、17b退避后，关闭负载锁定装置5的大气侧的门阀装置9。然后，对负载 锁定装置5内进行排气，将内部减压到规定的真空度。接着，打开搬送腔室3和负载锁定装 置5之间的门阀装置8，通过搬送装置23的叉25，接受收容于负载锁定装置5的真空预备 室27a或27b的基板S。 接着，通过搬送装置23的叉25，将基板S搬入处理腔室la、lb、lc中的任一个，转 送到基座2。然后，在处理腔室la、lb、lc内对基板S进行蚀刻等的规定的处理。接着，将处 理完成的基板S从基座2转送到搬送装置23的叉25，从处理腔室la、lb、lc搬出。
然后，基板S，以与上述相反的路径，经过负载锁定装置5，由搬送装置15收容于盒 C2。其中，处理完成的基板S也可以返回原先的盒C1。 在上述顺序中，对应于基板S的处理顺序、处理腔室la、lb、lc的处理状况，上段的 真空预备室27a和下段的真空预备室27b同时处于不同的压力状态(真空状态和大气压状 态)。在这种情况下，如上所述，在现有的负载锁定装置中，由于隔开真空预备室27a、27b的 隔壁的变形，密封部件被摩擦从而发生损耗，成为颗粒产生的原因。 接着，参照图3到图8，对解决上述问题的本实施方式的负载锁定装置5的结构进 行详细说明。首先，图3为表示本发明一实施方式的负载锁定装置5的结构的截面图。图 4为用于明确表示负载锁定装置5的主要结构部件的分解立体图。负载锁定装置5具备底 壁41、与该底壁41成对的顶壁43、一对侧壁45a、45b。底壁41、顶壁43、侧壁45a、45b均 铝等的金属部件构成，通过熔接等方法接合。其中，底壁41、顶壁43和侧壁45a、45b可以一体成型为筒状体，也可以在底壁41、顶部43上设置盖。 在顶壁43和底壁41之下安装有加强用的肋44，使得能够得到足够的耐压强度。 肋44例如为H型钢，用熔接、螺栓紧固等的方法固定在顶壁43和底壁41上。肋44以架设 在侧壁45a、45b上的方式并列设置，在真空预备室27a、27b为高真空状态时，防止顶壁43 和底壁41 (特别是它们的中央部分)分别由于大气压而向真空预备室27a、27b的内侧变形 为弓状。 此外，如图3所示，在负载锁定装置5中，上下2段的真空预备室27a、27b由隔壁 47隔开。SP，由上述底壁41或顶壁43、侧壁45a、45b和隔壁47构成在基板S的搬送方向 前后开口的真空预备室27a、27b。该隔壁47由铝等的金属部件构成为比其它壁稍厚的板 状。 如图5所示，在隔壁47上形成有作为上下贯通隔壁47的贯通开口部的一对缝隙 101、102。此外，厚的隔壁47的与长边方向(Y方向)平行的2个侧面(端部)与侧壁45a、 45b以熔接等的方法接合而固定。隔壁47的其它的2个侧面(端部)为0形环51 54抵 接的密封面47a、47b。 隔壁47的2个缝隙101、102，形成为长条形，其长边方向(X方向)相互平行，并且 与密封面47a、47b(与0形环51 54的配设方向相同)也平行。 真空预备室27a、27b的搬送腔室侧的开口部11 la、 11 lb由门阀装置8 (符号8a、8b 为阀体)以能够开闭的方式密封，大气侧的开口部112a、112b由门阀装置9(符号9a、9b为 阀体)以能够开闭的方式密封。真空预备室27a、27b和门阀装置8之间，夹着作为密封部 件的O形环51、52，确保开口部111a、lllb的周围的气密性。S卩，O形环51配设在顶壁43、 侧壁45a、45b、隔壁47的各端面和门阀装置8的侧面之间，能够气密密封真空预备室27a的 开口部llla。 0形环52配置在隔壁47、侧壁45a、45b、底壁41的各端面和门阀装置8的侧 面之间，能够气密密封真空预备室27b的开口部lllb。 此外，真空预备室27a、27b和门阀装置9的阀体9a、9b之间，夹着作为密封部件的 0形环53、54，确保开口部112a、112b的周围的气密性。S卩，0形环53配设在顶壁43、侧壁 45a、45b、隔壁47的各端面和阀体9a之间，能够气密密封真空预备室27a的开口部112a。 0形环54构成为配置在隔壁47、侧壁45a、45b、底壁41的各端面和门阀装置9的阀体9b 之间，能够气密密封真空预备室27b的开口部112b。 此夕卜，阀体8a、8b上配备有0形环55、56，构成为能够对基板搬入搬出口 113a、 113b进行气密密封。此外，门阀装置8和搬送腔室3之间配设有0形环57，构成为能够确 保搬送腔室3的基板搬入搬出口 114a、114b的周围的气密性。 对隔壁47的密封面47a、47b实施镜面研磨加工处理和氟树脂涂覆处理，使其中心 线平均表面粗糙度(Ra)在0.4以下。此外，对门阀装置8的密封面8s、门阀装置9的阀体 9a、9b的密封面9s也实施镜面研磨加工和氟树脂涂覆，使其Ra在0. 4以下。由此，能够降 低由于0形环51 54的损耗造成的颗粒的产生。其中，为了防止损耗，也可以对0形环 51 54本身实施氟树脂涂覆。 图6为放大表示隔壁47的缝隙102的截面图。其中，缝隙101为同样的结构，因 此在此以缝隙102为例进行说明。缝隙102的内部为空洞，缝隙102的上下的开口部分由 作为弹性部件的弹性板61闭塞。弹性板61由固定部件63固定。固定部件63例如使用螺钉65固定在隔壁47上。其中，弹性板61和隔壁47之间用0形环67密封。 从能够弹性变形的观点出发，弹性板61的材质，优选例如PTFE(聚四氟乙烯)等
的合成树脂。 在形成为空洞的缝隙102内，配备有加强部件71以抵抗施加在其宽度方向(Y方 向)上的压縮力。加强部件71具有与缝隙101的内壁面抵接的辊73和轴支承该辊73使 之能够转动的基部75。辊73由例如SUS等的金属构成。基部75由未图示的螺钉等的固定 机构固定在缝隙102内的壁上。 此外，在隔壁47的内部，在横方向设置有从密封面47a、47b到缝隙101U02内连 通的压力调整孔50。 接着，参照图7和图8，对缝隙101、102的作用进行说明。首先，图7的(a)除了 使用没有缝隙101U02的隔壁48以外，还示出了与图3相同结构的负载锁定装置。图7的 (a)中，假设上段的真空预备室27a为真空状态、下段的真空预备室27b为大气压状态的情 况下，由于压力差，如箭头所示，在隔壁48施加大的力，如双点划线所示隔壁48的中央部 48c向上变形为凸状。上段的真空预备室27a为大气压状态，下段的真空预备室27b为真空 状态的情况下，隔壁48向与图7的(a)相反的方向变形。由于这样的压力差使隔壁48的 变形反复发生，造成隔壁48的密封面(隔壁48左右的端面48a、48b)反复发生上下变位。 其结果，作为密封部件的0形环51 54被摩擦、损耗，成为产生颗粒的原因。为了不因为 压力差造成变形，增加作为隔壁48的铝板的厚度来提高刚性，能够改善上述问题，但是与 隔壁48变厚相对应，负载锁定装置整体的高度就要增加，会导致大型化、重量的增加、材料 成本的增加。 本实施方式的负载锁定装置，如上所述，在隔壁47上设置有缝隙101、 102。在这种 情况下，塞住缝隙101 、102的开口的弹性板61，由于其弹性变形能，吸收隔壁47的弯曲。因 此，真空预备室27a和27b存在压力差时，一对缝隙101、 102之间(隔壁47的中央部47c) 由于压力差应力增加，如图7的(b)所示，隔壁47仅发生少量变形，但该应力在缝隙101、 102被抑制，缝隙101、 102的外侧(密封面47a、47b侧)有大幅度缓和。因此，密封面47a、 47b几乎没有发生变位。 g卩，由于压力差在隔壁47上施加的应力，通过2个缝隙101、 102被化解，因此应力 几乎不会传递到缝隙101、 102的外侧(密封面47a、47b侧)。其中，如果弹性板61的刚性 过高，则隔壁47的中央部47c的应力原样传递到密封面47a、47b，使密封面47a、47b发生上 下移动。此外，如果弹性板61的刚性过低，则不能耐受上下的真空预备室27a、27b压力差， 成为在缝隙101U02的部分发生泄漏的原因。 如上所述，缝隙101、102和闭塞缝隙101、 102的弹性板61作为抑制施加于隔板47 的应力向上述密封面47a、47b传递的应力缓和机构发生作用。缝隙101、102和弹性板61构 成的应力缓和机构发挥作用使得容许隔壁47的中央部47c的变形，但抑制缝隙101外侧的 变形。其结果，隔壁47的密封面47a、47b的变位被抑制，能够可靠防止由于0形环51、52、 53、54被摩擦损耗造成的颗粒的产生。 接着，对配设于缝隙101U02的加强部件71的作用进行说明。在隔壁47上，从成 为大气压的门阀装置9的外侧由大气压施加横(水平)方向的压縮力。但是，通过在隔壁 47上设置缝隙101、102，对横方向压縮力的机械强度下降。因此，在本实施方式中，设置有加强部件71，对抗长条形的缝隙101、102的宽度方向(Y方向)上的压縮力。如图8所示，辊73构成为即使缝隙101U02的内壁面W由于隔壁47的中央部47c的变形而上下移动，也能通过与缝隙101U02的内壁面W抵接的同时进行转动来维持加强功能。因此，能够预先防止在缝隙101U02部分由于压縮力使隔壁47翘起。 此外，由于压力调整孔50，缝隙101的内部与搬送腔室3同样为真空状态，缝隙102的内部与外部同样为大气压。通过使缝隙101U02内部的压力为真空状态或大气压，能够降低在缝隙101、102的宽度方向(Y方向)上施加的压縮力。其中，如果不损害缝隙IOI、102的应力缓和功能，缝隙101U02的内部也可以不为空洞，例如也可以紧密填充橡胶、树脂等的能够弹性变形的部件。 如上所述，本实施方式的负载锁定装置5，由于在隔开上下配置的真空预备室27a和真空预备室27b的隔壁47上设置有作为贯通开口部的缝隙101U02和塞住这些缝隙101、102的开口部分的弹性板61，即使在上下的真空预备室27a、27b产生压力差，也能够将隔壁47的变形仅限制在其中央部47c，能够抑制隔壁47的两端密封面47a、47b的变位。其结果，能够可靠防止0形环51 54的损耗造成的颗粒的产生。
[第二实施方式] 接着，参照图9和图IO，对本发明第二实施方式进行说明。图9为表示第二实施方式的负载锁定装置5a的概略结构的截面图。图10为负载锁定装置5a的隔壁47的要部放大图。其中，图9和图10中，与第一实施方式相同的结构，标记相同的符号省略说明。在本实施方式中，在隔壁47上形成有作为贯通上下的贯通开口部的一对缝隙101、102。缝隙101U02的机构与第一实施方式相同，缝隙101U02形成为长条形，其长边方向相互平行，并且与密封面47a、47b(与0形环51 54的配设方向相同)也平行。
图10是放大表示隔壁47的缝隙102的图。其中，缝隙101也具有相同的结构，因此这里以缝隙102为例进行说明。缝隙102的内部为空洞，缝隙102的上下方向(隔壁47的厚度方向)的大致中央附近由作为弹性部件的弹性板62闭塞。弹性板62由从缝隙102的相对置的内壁面向缝隙102的内空间突出设置的一对支承突部64和固定部件66固定。支承突部64可以与隔壁47 —体形成，也可以例如使用熔接、用密封部件和螺钉等紧固机构的方法气密固定在隔壁47上。固定部件66使用例如螺钉68固定在支承突部64上。其中，弹性板62和支承突部64之间通过0形环70密封。 弹性板62的材质与第一实施方式相同，从能够弹性变形的观点出发，例如优选PTFE(聚四氟乙烯)等的合成树脂。 在本实施方式中，在形成为空洞的缝隙102内，在弹性板62的上下分别配备加强部件71a、71b，以抵抗施加在缝隙102的宽度方向上的压縮力。加强部件71a、71b具有与缝隙101的内壁面抵接的辊73和轴支承该辊73使之能够转动的基部75。辊73例如由SUS等的金属构成。基部75由未图示的螺钉等的固定机构固定在缝隙102内的壁上。
缝隙101U02具有与第一实施方式相同的作用。即，由于上下的真空预备室27a、27b的压力差施加在隔壁47上的应力，通过2个缝隙101U02化解，因此不会传递到缝隙101、 102外侧(密封面47a、47b侧)。缝隙101、 102和弹性板62构成的应力缓和机构发挥作用使得容许隔壁47的中央部的变形，但抑制缝隙101外侧的变形。其结果，隔壁47的密封面47a、47b的变位被抑制，能够可靠防止0形环51、52、53、54被摩擦损耗造成的颗粒的产生。 此外，在缝隙101、102上配设的加强部件71a、71b具有对抗长条形的缝隙101、102的宽度方向上的压縮力的作用，并且即使隔壁47的中央部的变形造成缝隙101、102的内壁面上下移动，也能通过与缝隙101U02的内壁面抵接的同时进行转动来维持加强功能。因此，能够预先防止在缝隙101U02部分由于压縮力使隔壁47翘起。 此外，在本实施方式中，通过将弹性板62配置在缝隙101、 102的上下方向的大约中央附近，缝隙101U02内与上下的真空预备室27a、27b连通，形成相同的压力，因此不必如第一实施方式那样设置压力调整孔50。 如上所述，本实施方式的负载锁定装置5a在隔开上下配置的真空预备室27a和真空预备室27b的隔壁47上设置有作为贯通开口部的缝隙101、102和塞住这些缝隙101、 102的开口部分的弹性板62，由此，即使上下的真空预备室27a、27b产生压力差，也能够将隔壁47的变形仅限制在其中央部，能够抑制隔壁47的两端的密封面47a、47b的变位。其结果，能够可靠防止0形环51 54的损耗造成的颗粒的产生。
本实施方式的其它作用和效果与第一实施方式相同。 以上，阐述了本发明的实施方式，但本发明不限于上述实施方式，能够进行各种变形。例如，在上述实施方式中，示例了具有上下2段真空预备室的负载锁定装置，但是在设置3段以上负载锁定装置的真空预备室的情况下也可以适用本发明的技术思想。
此外，上述实施方式中，是在隔壁47上设置一对缝隙101、 102的结构，但是不限于l对(2处)缝隙。
权利要求
一种负载锁定装置，是在真空条件下对基板进行处理的真空处理系统内，将使基板待机并且能够在大气压状态和真空状态之间进行切换的真空预备室通过隔壁隔开而配置成多个的负载锁定装置，其特征在于，所述真空预备室包括对基板进行搬入搬出用的开口部；和以能够开闭的方式对所述开口部进行密封的门阀装置，所述隔壁具有在与所述门阀装置之间隔着密封部件保持气密性的密封面，在所述隔壁的中央部分和所述密封面之间具备在由于相邻的真空预备室之间的压力差而对所述隔壁施加了应力时对从所述隔壁的中央部向所述密封面传递的所述应力进行缓和的机构。
2. —种负载锁定装置，是在真空条件下对基板进行处理的真空处理系统内，将使基板 待机并且能够在大气压状态和真空状态之间进行切换的真空预备室通过隔壁隔开而配置 成多个的负载锁定装置，其特征在于，所述真空预备室包括 对基板进行搬入搬出用的开口部；禾口 以能够开闭的方式对所述开口部进行密封的门阀装置， 所述隔壁具有在与所述门阀装置之间隔着密封部件保持气密性的密封面； 在所述密封面附近形成的贯通开口部；禾口 对所述贯通开口部的开口部分进行密封的弹性部件。
3. 如权利要求2所述的负载锁定装置，其特征在于，在所述隔壁的中央部分与在所述 隔壁的端部形成的所述密封面之间，以所述中央部分为中心对称设置有一对所述贯通开口 部。
4. 如权利要求2或3所述的负载锁定装置，其特征在于，所述贯通开口部形成为长条 形，该贯通开口部的长边方向相对于所述密封面平行。
5. 如权利要求2或3所述的负载锁定装置，其特征在于，在所述贯通开口部内设置有加 强部件，用于抵抗施加在所述贯通开口部上的压縮力。
6. 如权利要求5所述的负载锁定装置，其特征在于，所述加强部件包括与贯通开口部 内部的壁面抵接的旋转体。
7. 如权利要求2或3所述的负载锁定装置，其特征在于，在所述隔壁设置有从所述密 封面连通到所述贯通开口部的内部的压力调整孔，用于对所述贯通开口部内的压力进行调 整。
8. —种真空处理系统，其特征在于，包括 在真空条件下对基板进行处理的真空处理室； 在真空条件下向所述真空处理室搬送基板的真空搬送室；禾口 权利要求1 7中任一项所述的负载锁定装置。
全文摘要
本发明提供一种负载锁定装置和真空处理系统。在具有多段的真空预备室的负载锁定装置中，防止由隔壁的变形造成的颗粒的发生。负载锁定装置(5)具有通过隔壁(47)隔开的上下2段的真空预备室(27a、27b)。在隔壁(47)形成有上下贯通的一对缝隙(101、102)。缝隙(101)的内部为空洞，缝隙(101)的上下的开口部分由弹性板(61)密封。在缝隙(101)内配备有抵抗对缝隙(101)的宽度方向施加的压缩力的加强部件(71)。在隔壁(47)设置有分别从缝隙(101、102)的内部到达密封面(47a、47b)的压力调整孔(50)。
文档编号H01L21/00GK101752220SQ20091025292
公开日2010年6月23日 申请日期2009年12月4日 优先权日2008年12月4日
发明者若森勤, 锅山裕树, 雨野勉 申请人:东京毅力科创株式会社