带有改进幅材传输系统的卷对卷沉积设备的制作方法

专利名称：带有改进幅材传输系统的卷对卷沉积设备的制作方法
技术领域：
本发明主要涉及将半导体材料连续沉积在衬底材料的移动幅材上的卷对卷设备。更特别地，本发明涉及包括如下组件的卷对卷系统，所述组件用于随着衬底材料的竖直布置的细长幅材从其中穿过而支持和引导该幅材的一个末端部分。特别地，本发明涉及一种用于连续生产光电装置的系统。
背景技术：
已对于半导体结构如光电装置的大量制造研发出了一些系统和方法。在这样的工艺中，从放出仓室(payout chamber)通过多个沉积站连续进给一个或更多个衬底材料幅材，其中该衬底材料通常为不锈钢或复合材料，在沉积站中半导体材料层被相继沉积在幅材上。然后，被涂覆的幅材缠绕在提取仓室中的卷筒上并被移除以用于进入光电模块的后续工序。在该类型的具体系统中，随着衬底材料幅材穿过沉积设备，其保持在竖直方向。例如在美国专利4，423，701和公开的美国专利申请2004/0040506中示出该类型的一些系统，其全部内容包括在此以供参考。在该类型的沉积系统中，幅材传输(web transport)和引导为关键参数。为了确保高质量半导体层的沉积，必须在运动衬底幅材和沉积系统的活性组件之间保持精确公差。同样，运动幅材必须沿精确路径行进通过各个仓室，以便避免能够危害衬底幅材的完整性或危害沉积系统的沾粘、扭曲或其他变形。所有这些问题都由于以下事实而复杂化，即该类型的沉积系统通常都具有在任何时候都自始至终活跃运动的大约300英尺或更长的衬底幅材长度，并且典型的衬底材料具有每纵尺近似1/4磅的重量。相对重且相对长的衬底能够引起下垂和扭曲的问题，因为重力趋向于使衬底成为悬链线构造，而且这些问题能够由于设备中的幅材外形变化和幅材的不均匀热膨胀而被扩大。在该类型的设备中，衬底幅材的传输系统也必须被设计成避免与沉积在衬底幅材的活性面上的半导体材料接触，因为该接触能够降低半导体装置的运行性能。并且最后，衬底传输系统也必须被设计成避免衬底幅材弯曲、带毛刺或其他变形，因为这样的损坏将阻止被涂覆的衬底材料缠绕在均匀卷筒上。该因素很关键，因为卷筒上的任何不均匀性都能够在后续工序期间损伤敏感的半导体层。在一种现有技术方法中，如在被公开的美国专利申请2006/0278163中所公开的方法，衬底支撑系统包括磁引导组件和许多支撑滚筒，从而将竖直定向的幅材传送经过沉积系统。专利申请‘163中系统的滚筒引导运动幅材的边缘并为该运动幅材的边缘导向。然而，在该类型的系统运行中，已发现能够因为幅材材料自身中的不规则而产生问题，其中所述不规则是由于幅材制造中的外形变化和/或不均匀热膨胀引起的变形引起的。由于这样的变化，运动衬底幅材在任何一个滚筒上施加的力的量可随着该幅材通过其移动而变化。滚筒和幅材之间过多的力能够使幅材的边缘变形，从而产生毛口、起皱或弯曲。滚筒和幅材之间的力减小也能够成为问题，尤其是如果在幅材运动离开滚筒的情况下尤其如此，因为在沉积仓室中遭遇的高真空、相对高温条件下，当重新接触时能够发生衬底和滚筒的冷焊，引起对幅材和/滚筒的损伤。因此需要一种幅材支撑系统，其能够可靠运行，并且精确移动相对重且长的衬底材料幅材通过用于光电装置和其他半导体装置制造的多级高真空沉积系统类型。任何这样的系统都应相对简单并且操作可靠，并且应兼容于高真空、极清洁条件，而且不应将污染物引入系统。如下所述，本发明提供用于连续制备光电和其他半导体装置的大容量系统，该系统包含改进的幅材传输组件。将通过以下附图、讨论和说明使本发明的这些和其他方面以及优点明显。

发明内容
本发明包含一种连续卷对卷沉积半导体材料如光电材料的系统。本系统包括幅材传输件，其移动衬底材料幅材从中通过。幅材传输件包括支撑和引导该幅材的改进幅材支撑组件。幅材支撑组件包括基底、主支撑臂和第一偏压构件，其中主支撑臂枢转安装至基底以便可相对于基底从第一位置移置到第二位置，而第一偏压构件与主支撑臂机械连通。可操作第一偏压构件从而向第一支撑臂施加第一偏压力，以便将其从其第一位置移动至其第二位置。幅材支撑组件进一步包括摆动臂，其枢转安装在主支撑臂上，以便可相对于主支撑臂从第一位置移置到第二位置。第二偏压构件与摆动臂机械连通。可操作第二偏压构件，从而向摆动臂施加第二偏压力，以便将其从其第一位置移动至其第二位置。幅材支撑组件进一步包括幅材支撑滚筒，其由摆动臂转动支撑。该滚筒经配置从而啮合幅材的一部分。在特殊情况下，第一偏压力比第二偏压力大。在特别情况下，偏压构件可为弹簧、弹性体、气压缸、磁性装置、液压缸及其各种组合。在特殊情况下，第一偏压构件为在主支撑臂和基底之间延伸的弹簧。在有些情况下，第二偏压构件可为在摆动臂和主支撑臂之间延伸的弹簧。在特殊情况下，幅材支撑滚筒包括凹槽，其经配置从而啮合幅材，并且该凹槽在特殊情况下可为不对称凹槽。在有些情况下，可配置该不对称凹槽，以便凹槽的两个面形成90度角。在特殊情况下，配置该凹槽，以便衬底的末端表面不接触凹槽的基底。


图I示出本发明的幅材支撑组件的侧视图；图2示出图I中的幅材支撑组件的透视图，其示出与其啮合的衬底材料幅材；图3示出图I中的幅材支撑组件的主支撑臂和摆动臂的透视图；图4示出图I的幅材支撑组件处于下方位置的图，其上施加了高衬底负荷；图5示出图I的幅材支撑组件处于上方位置的图，其中在衬底上施加低水平的接触力；以及图6示出本发明啮合衬底材料幅材的滚筒的一部分的横截面图。
具体实施例方式本发明包含一种卷对卷沉积设备，其包括改进的幅材传输系统，后者包括许多幅材支撑组件，可利用所述幅材支撑组件来支撑并且引导衬底材料通过处理系统。在此方面，本发明将在大量这样的系统中有用，其中材料幅材的传输是处理系统的一方面。将关于具体应用描述本发明，其中使用本发明从而在这样的系统中引导和支撑衬底幅材，该系统用于在连续的卷对卷工艺中大量沉积光电半导体材料。本发明的幅材支撑组件被配置成无论衬底宽度和/或位置如何波动，都保持幅材支撑件的一部分与衬底的边缘连续接触。此外，幅材支撑组件被配置成最小化衬底幅材的边缘和接触的支撑件之间过度力。在例示性实施例中，幅材支撑组件包括多重偏压布置，其被配置成将衬底幅材偏压在第一位置和第二位置之间。在例示性实施例中，多重偏压布置包括偏压力转换区域，其在幅材/支撑件接触位置具有不连续的接触力。在例示性实施例中，与幅材支撑件接触的一部分幅材具有在偏压力转换区域中基本为零的偏斜。在例示性实施例中，与沿第二方向在幅材上施加的偏压力相比，幅材支撑组件沿第一方向以更大的偏压力偏压该幅材。 可在许多实施例中实施本发明的系统。将在此示出特别适合在制造光电装置的设备中使用的一个特殊实施例。在有些实施例中，将利用第一多个幅材支撑组件，从而支撑/引导衬底幅材的第一边缘，而使用一个或更多个幅材支撑组件从而支撑/引导衬底幅材的第二边缘。在某些实施例中，多个幅材支撑组件的一部分将被配置成与沿幅材的第一和/或第二边缘的其他幅材支撑组件不同，例如在结构构造方面、负荷/温度性能、材料等等方面。然而，应理解，也可实施本发明的其他实施例，并且类似地，本发明的系统和设备可被包含在用于制造各种材料的系统中。应进一步理解，本申请的附图未按比例绘制；而是按最清晰地图解在此讨论的本公开的原理的方式来绘制附图。现在参考图I和图2，其示出幅材支撑组件10，其依照本发明的实施例被配置。幅材支撑组件10包括基底部分12，其作用为支撑组件的其余部分并且进一步作用为允许组件被安装至其他结构。基底12，以及幅材支撑组件的其他部分，能够由能承受对其施加的负荷并且不会使得系统工艺降级的材料来制造。例如，将不期望幅材支撑组件的材料释放会使得半导体沉积工艺的完整性降级的气体或其他污染物。在某些实施例中，组件材料包括铝、低碳钢或高强度钢、不锈钢、高强度塑料及其组合。在本实施例中，除非在此另有说明，大部分组件部件都由铝制成。主支撑臂14通过枢轴关节16枢转安装至基底12，其中枢轴关节16允许主支撑臂14可相对于基底从第一位置移动至第二位置。幅材支撑组件也包括偏压构件，在该情况下为安装在基底12和主支撑臂14之间的螺旋弹簧18。螺旋弹簧18操作从而施加试图将主支撑臂从第一位置移动至第二位置的偏压力。在许多实施例中，弹簧18将被预载预定量，例如如图I所示促使主支撑臂向上(例如，第二位置)，从而适合幅材的构造(例如，几何构造和重量)以及处理系统中的幅材运动参数。虽然图I中的偏压实施例由螺旋弹簧18完成，但是也可使用其他的偏压构件，例如弹性体材料如人造或天然橡胶，从而提供偏压力。也可使用在本领域已知的其他偏压机构作为偏压构件，例如充气气压缸、液压缸、称锤、磁性装置(包括电磁装置)等等。同样，虽然示出的弹簧18处于基底12和支撑臂14之间的具体位置，但是应明白，可将其布置在其他位置。例如，可通过关联枢轴16的螺旋弹簧来实现偏压。可替换地，偏压构件不需要与基底产生任何机械连接。例如，可通过在主支撑臂14以及放置本系统的设备的一些其他部分之间延伸的弹簧或弹性体来实现偏压。图1-3的幅材支撑组件10进一步包括摆动臂20，其被枢轴支撑在主支撑臂14上，在该情况下为通过枢轴关节22被支撑。在摆动臂20和主支撑臂14之间布置第二螺旋弹簧24，并且其运行从而将摆动臂20偏压在相对于主支撑臂14的第一和第二位置之间。如上关于第一弹簧18所述，第二弹簧24可以以其他方式被布置；或者，其可包含其他类型的偏压构件，如弹性体、气压缸、液压缸、称锤、磁性装置等等。可转动地连接摆动臂20(在图3所示的孔28处)的是支撑滚筒26，其运行从而啮合衬底材料幅材的边缘，并且同样地，其可被开槽或其他方式被配置成有助于其对于幅材的保持。在该实施例中，支撑滚筒主要由非磁性材料、304不锈钢制成。在可替换实施例中，支撑滚筒能够包括接触幅材的陶瓷材料。现在参考图2，其示出图I中的幅材支撑组件10的透视图，其啮合衬底材料30幅材的一部分。应理解，在典型应用中，衬底材料30包含细长材料幅材；然而，为了简化的目的，仅在图2中示出幅材的一部分。另外，配置图2中所示的幅材支撑组件的实施例，以便能够独立引导/支撑两张幅材，其中每个滚筒都支撑/引导一个幅材独立于另一幅材-滚 筒的相互作用而在滚筒上运动。为了清晰的目的，仅在图2中以虚轮廓线示出一张幅材。应理解，虽然仅图2的一侧(一个幅材支撑件)具有附图标记并且相同侧在其他附图中示出，但是关于以附图标记表示的部分在此描述的原理也应用于图2中无附图标记的其他幅材支撑件。在图2中，支撑滚筒26已啮合竖直布置的衬底30的边缘，并且可看到，滚筒中的凹槽27促进对衬底30的保持。参考图4，衬底30在滚筒26上施加的重量已压紧摆动臂20和主支撑臂14之间的第二螺旋弹簧(如图I中24)。这是因为，在该实施例中，第二弹簧的偏压力被选择成比第一弹簧18的偏压力小，并且足以克服摆动臂和滚筒的重量。在图2的构造中，第一弹簧18支撑主臂14、摆动臂20和滚筒26以抵抗衬底30的向下施加的力。如果该力因为衬底幅材的变形或其他情况而增大，则弹簧18将吸收进一步向下的力，以防止对幅材的损坏，且同时保持与幅材的良好接触。在非限制性例子中，能够由幅材外形变化、热和动态负载等等引起衬底幅材的变形。例如，如果由滚筒支撑的衬底幅材的底部表面/边缘的一部分被置于幅材的理论通行线(pass line)以下，则幅材将试图在滚筒上施加接触力，从而朝着图4所示的位置移动滚筒。此处，理论通行线为在以下情况下幅材的底部表面/边缘的行进线，即如果其完全笔直，或者幅材底部表面通行线未因为部分/幅材外形变化、热和动负载、运动参数等等而从该线扭曲的情况。在该实施例中，配置第一弹簧，以便不超过滚筒和幅材之间的阈值预定接触力。阈值接触力能够基于变形、幅材/滚筒偏斜、材料屈服等等而被确定。在该实施例中，阈值接触力基于这样的预定力，即当幅材被置于通行线以下时，该预定力将不使幅材变形(例如凹进、褶皱等等)超过预定的量。在这点上，图4示出在向下偏压位置的组件10的侧视图。在幅材向下的力减小的情况下，弹簧18将向后朝着中立位置偏压主支撑臂14、关联的摆动臂20和滚筒26。在以下情况下，幅材向下的力仍减小，即如果移动幅材以便从滚筒升起，例如当幅材的底部表面运动到理论通行线之上时的情况下，如图2、图3、图5所示，则弹簧18将驱使主支撑臂14达到其最大行程；并且在该点上，第二弹簧24将运行从而升起摆动臂20，以便进一步抬升支撑滚筒26，并且因此保持与幅材的边缘接触。如上所述，第二弹簧24的偏压力通常小于第一弹簧18的偏压力。因此，滚筒施加在幅材上的压力将小于在完全向下接触位置的压力；但是该压力将足以使两者保持接触，并且防止幅材离开滚筒。如下所述，能够基于处理系统以及衬底幅材的规格来选择弹簧的偏压力。在该实施例中，第一和第二弹簧经配置从而当滚筒处于图4和图5的滚筒位置之间的力转换区域时，在滚筒和幅材之间提供不连续的接触力转换。在该转换区域中，存在这样的位置，其中滚筒的竖直位移基本为零，并且幅材和滚筒之间的力取决于幅材是否朝着通行线之上或之下的方向移动而增大或减小。在上述实施例中，能够将幅材支撑件视为在以下两个位置之间偏压衬底幅材，即类似于图4所示的理论通行线之下的位置以及类似于图5所示的高于通行线的另一位置。可以多样地配置用于接触和支撑/引导幅材的滚筒。在该实施例中，滚筒包括用于保持衬底和滚筒啮合的凹槽或一些其他特征。现在参考图6，其中示出本发明的滚筒26的一部分，其内如图2所示具有啮合凹槽27的衬底材料幅材30。在图6的实施例中，凹槽为不对称凹槽。换句话说，凹槽的两个面具有与衬底30的不同接触角。凹槽具有第一面32，其以第一角A接触衬底30的第一面或表面的边缘，第一角A在一些实施例中在5度至45度范围内。凹槽包括第二面34，其以第二角B接触衬底30，第二角B在一些实施例中在5度至45度范围内。在具体情况下，角B比角A大。此外，在实施例中，角A和角B互为余 角；换句话说，两者相加和为90度。在具体情况下，配置系统以便半导体材料的沉积在衬底30中限定角A的面上发生。可实施其他的角关系和方位。在图6中也可预见，衬底幅材30的面或末端表面不接触凹槽的基底。通过滚筒的面32、34和幅材的边缘或角隅之间的夹卡来建立滚筒26和幅材30之间的接触。已发现，这种类型的接触提供良好的幅材支撑/引导，并且进一步防止对衬底的面或末端表面的损坏。在将半导体材料沉积在运动衬底幅材的系统中，其中半导体沉积发生在最接近滚筒面32的幅材面上，发现利用图6的几何构造关系具有非常良好的结果。在这点上，按照图5配置的滚筒非常有效于将衬底30保持与沉积站精确对齐中且同时避免对衬底的损伤。通过上文，本领域技术人员可轻易配置各种支撑组件。组件的精确尺寸和特性将取决于具体应用。如上所述，沉积半导体材料的典型大量连续处理设备可使用这样的不锈钢衬底材料，其具有大约1/4磅/纵尺的重量。在一个该类型的系统中，以大约8000英尺长度的盘卷来提供衬底材料，并且在任何一个给定时间，大约279英尺衬底幅材主动运过沉积系统。并且如进一步所述，该系统可包括高达6个幅材，其以基本平行的关系从中运动通过。在该构造中，每个幅材都具有与其关联的60个支撑件。因此，每个滚筒将平均支撑大约I. 16磅。在该类型的系统中，主弹簧(上文中18)将通常被预加载到大约2. 5至3. 5磅的水平，并且将选择摆动弹簧(上文中24)以便0.75至I磅的负荷将其压至如图4所示的完全向下位置。在使用不同构造的系统和/或衬底幅材的情况下，可相应调整弹簧或其他偏压构件的偏压力。已关于本发明的幅材支撑组件支撑和引导竖直布置衬底的底部边缘的用法对其进行了描述。然而，该类型的组件也可以被设置成啮合竖直布置衬底的顶部边缘。在该情况下，可相应调整偏压力。同样，也关于支撑组件与钢衬底的结合使用而对其进行了描述。应理解，可这样的组件可以被用于支撑其他类型的衬底幅材，包括聚合物衬底、复合衬底、纤维衬底等等。由于在此提出的教导，本领域技术人员应明白本发明的其他更改、变化和实施例。所有这样的实施例都在本发明的范围内。附图、讨论和说明仅为例证本发明具体实施例， 而无意对实施进行限制。所附权利要求包括定义本发明的范围的所有等效物。
权利要求
1.一种在衬底材料幅材上连续沉积半导体材料的卷对卷系统，其中在所述设备的运行时所述衬底材料幅材连续通过其前进，其中所述系统包括多个幅材支撑组件，所述幅材支撑组件随着所述幅材穿过所述系统而啮合并且引导所述幅材，每个幅材支撑组件都包含 基底； 主支撑臂，其枢转安装在所述基底上以便可相对于所述主支撑臂从第一位置移动至第二位置； 第一偏压构件，其机械连接所述主支撑臂，所述第一偏压构件可操作以向所述主支撑臂施加第一偏压力，以便将所述主支撑臂从其第一位置移至其第二位置； 摆动臂，其枢转安装在所述主支撑臂上，以便可相对于所述主支撑臂从第一位置移动至第二位置； 第二偏压构件，其机械连接所述摆动臂，所述第二偏压构件可操作以向所述摆动臂施加第二偏压力，以便将所述摆动臂从其第一位置移至其第二位置；以及 幅材支撑滚筒，其由所述摆动臂可转动地支撑，所述滚筒经配置从而啮合所述幅材的一部分。
2.根据权利要求I所述的系统，在所述幅材支撑组件中，所述第一偏压カ比所述第二偏压カ更大。
3.根据权利要求I所述的系统，其中在所述幅材支撑组件中，所述第一偏压构件和所述第二偏压构件从以下装置组成的组中选择弹簧、弾性体、气压缸、液压缸、磁性体及其组合。
4.根据权利要求I所述的系统，其中在所述幅材支撑组件中，所述第一偏压构件是在所述主支撑臂和所述基底之间延伸的弹簧。
5.根据权利要求I所述的系统，其中在所述幅材支撑组件中，所述第二偏压构件是在所述摆动臂和所述主支撑臂之间延伸的弹簧。
6.根据权利要求I所述的系统，其中在所述幅材支撑组件中，所述幅材支撑滚筒包括凹槽，其经配置从而啮合所述幅材的边缘。
7.根据权利要求6所述的系统，其中所述凹槽为非对称凹槽。
8.根据权利要求6所述的系统，其中所述凹槽包括第一面和第二面，并且其中所述第一面和所述第二面形成90度角。
9.根据权利要求6所述的系统，其中所述凹槽被配置成使得所述凹槽包括第一面和第ニ面，并且其中所述各面与所述衬底建立夹卡接触，以便所述衬底的末端表面不接触所述凹槽的底部。
10.根据权利要求6所述的系统，其中所述滚筒被配置成使得当所述衬底材料幅材被置于所述凹槽之内时，所述凹槽的第一面与所述幅材的第一面形成第一角A，并且所述凹槽的第二面与所述幅材的第二面形成第二角B，并且其中角A与角B不同。
11.根据权利要求10所述的系统，其中角A和角B互余。
12.根据权利要求I所述的系统，其中所述衬底幅材沿竖直方向连续前进通过所述系统，并且其中所述多个衬底支撑组件中的至少ー些啮合所述幅材的下部边缘。
13.根据权利要求12所述的系统，其中所述多个衬底支撑组件中的至少ー个啮合所述幅材的上部边缘。
14.根据权利要求12所述的系统，其中所述多个衬底支撑组件中的至少ー个与其他幅材支撑组件相比具有不同的构造。
15.根据权利要求I所述的系统，其中在所述系统运行时，多个衬底材料幅材连续通过其前进，并且其中所述幅材支撑组件随着所述多个幅材穿过所述系统而啮合和引导所述幅材。
16.根据权利要求15所述的系统，其中所述系统包含第一幅材支撑组件和第二幅材支撑组件，其经配置以便多个幅材中的第一幅材和第二幅材具有间隔开的基本平行关系。
17.根据权利要求16所述的系统，其中所述第一幅材支撑组件的幅材支撑滚筒被配置成关于所述第二幅材支撑组件独立于所述第二幅材与滚筒的交互作用而支撑/引导所述第一幅材。
18.根据权利要求17所述的系统，其中所述第一和第二幅材支撑组件连结到公共的基/ 。
19.根据权利要求I所述的系统，其中所述系统可操作以在所述衬底材料幅材上沉积光电半导体材料。
20.一种在衬底材料幅材上连续沉积半导体材料的卷对卷系统，其中在所述设备运行时，所述衬底材料幅材连续通过其向前，其中所述系统包括多个幅材支撑组件，所述幅材支撑组件随着所述幅材穿过所述系统而啮合并且引导所述幅材，每个幅材支撑组件都包含多重偏压布置，所述多重偏压布置被配置成以第一偏压カ沿第一方向偏压所述幅材的ー个表面，并且以第二偏压カ沿第二方向偏压所述幅材的该表面，所述第二方向基本与所述第一方向相反。
21.根据权利要求16所述的幅材支撑组件，其中所述多重偏压布置被配置成在幅材第一位置和幅材第二位置之间具有偏压カ转换区域，其中所述幅材在所述偏压カ转换区域内具有基本为零的偏斜。
22.根据权利要求16所述的幅材支撑组件，其中所述多重偏压布置沿所述第一方向、以与沿所述第二方向在所述幅材上施加的偏压カ相比更大的力偏压所述幅材的所述表面。
23.根据权利要求18所述的幅材支撑组件，其进ー步包含滚筒，其中沿所述第一方向的所述第一偏压カ将幅材的运动反作用至所述滚筒，并且随着所述幅材离开所述滚筒，沿所述第二方向的所述第二偏压カ用于保持所述滚筒和所述幅材之间的接触。
24.根据权利要求16所述的幅材支撑组件，其中所述偏压布置包括螺旋弹簧。
全文摘要
一种在一个或更多通过其往前的衬底材料幅材上连续沉积半导体材料的系统，其包括具有多个幅材支撑组件的幅材传输系统。每个幅材支撑组件都包括基底，其具有枢转安装在其上的主支撑臂，以便可从第一位置移置到第二位置。该支撑包括第一偏压构件，其机械连接主支撑臂。第一偏压构件运行，从而向主支撑臂施加第一偏压力，以便将其从其第一位置移至其第二位置。该支撑包括摆动臂，其枢转安装于主支撑臂，以便可相对于主支撑臂从第一位置移置到第二位置。本系统进一步包括第二偏压构件，其机械连接摆动臂。第二偏压构件运行，从而向摆动臂施加第二偏压力，从而将其从其第一位置移至其第二位置。滚筒可转动地安装在摆动臂上。滚筒被配置成啮合幅材的一部分。幅材支撑组件运行，从而随着衬底材料幅材穿过沉积系统而在滚筒和移动的衬底材料幅材之间保持连续接触。
文档编号H01L31/18GK102804406SQ201080024684
公开日2012年11月28日 申请日期2010年4月1日 优先权日2009年4月3日
发明者M·里赛特, J·多奇勒, J·布里斯 申请人:联合太阳能奥佛有限公司