物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法与流程

文档序号:13109575阅读:来源:国知局
技术总结
于基板(P)下方配置有对基板(P)下面喷出空气的多个空气悬浮单元(50),并且基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。进一步地,基板(P)被定点载台(40)从下方以非接触方式保持被曝光部位,该被曝光部位的面位置被精确调整。是以,能以高精度对基板(P)进行曝光,且能使基板载台装置(PST)的构成简单化。

技术研发人员:青木保夫;滨田智秀;白数广;户口学;
受保护的技术使用者:株式会社尼康;
文档号码:201610282679
技术研发日:2010.08.17
技术公布日:2016.09.21

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