有机el元件和其制造方法

文档序号:8022855阅读:210来源:国知局
专利名称:有机el元件和其制造方法
技术领域
本发明涉及实现了功能层的附着性提高以及特性提高的有机EL元件和其制造方法。
背景技术
作为平面型的显示装置(平板显示),公知的有在阳极和阴极之间,形成了由有机发光材料构成的发光层的有机EL(电致发光)元件。对于这样的有机EL元件,近年,其开发迅速推进,作为包括了多个此元件的彩色显示装置的有机EL装置也被用于部分设备。另外,这样的有机EL装置不只是作为平面型的显示装置,也期望其作为各种显示体和照明装置被使用。
但是,对于这样的有机EL装置(有机EL元件),低成本和高可靠性成为其实用化的较大难题。由于这样的背景,以往,作为有机EL装置的制造方法,提出了利用液滴喷吐法形成发光层等的功能层的方法(例如,参照专利文献1)。如果按照此液滴喷吐法的方法,具有低成本、可实现大面积化、还有使用于进行彩色化的发光层的分色也变得容易实现等的优点。
另外,利用这样的液滴喷吐法的情况下,提出了通过例如在0.5~50nm的范围内尤其控制阳极(透明电极)侧的表面粗糙度(表面roughness),以抑制漏电流等的方案(例如,参照专利文献2)。
还有,以提高象素电极(阳极)侧的基板和有机层的附着性为目的,还提出了在象素电极和有机层间设置亲水性结合层(graft层)的技术(例如,参照专利文献3、专利文献4)。
但是,虽然在前述的控制阳极(透明电极)侧的表面粗糙度的技术中,能够抑制漏电流等,但从得到使用寿命的提高等的高可靠性方面来说,还不是十分满意。
另外,对于设置了前述接合层的技术,由于在接合层的上层设置的有机层材料被限定为亲水性的材料,所以具有优良发光特性的聚芴系等的发光材料由于只能溶解于非极性的溶剂中,故不能被使用。此外,通过设置接合层,虽然提高了基板和有机层的附着性,但也存在由于接合层的存在妨碍了例如作为载流子的空穴(hole)的注入的可能性。另外,采用例如在电极(基板)上形成空穴注入/输送层,然后在其上形成发光层的层叠构造的情况下,必须进行2次的图案形成工序,因此是否能够维持对此有承受力的防墨性也成问题。
专利文献1特开平10-12377号公报专利文献2特开2003-282272号公报专利文献3特开2003-249368号公报专利文献4特开2003-323983号公报发明内容本发明是鉴于前述问题所进行的发明,其目的在于提供特别提高构成功能层等的有机EL元件的层的附着性,由此使由使用寿命提高等表示的高可靠性,或者甚至于由高亮度表示的高品质化成为可能的、有机EL元件和其制造方法。
为了达到前述目的本发明的有机EL装置的特征在于,在一对电极间,具有至少包括了发光层的功能层,在该功能层之中至少一层的表面是粗糙面。
根据此有机EL装置,由于在前述的功能层与在此上层叠的层的界面上,由于前述功能层的表面是粗糙面,使它们之间的接触面积变大,因此,能够实现这些层之间附着性的提高,长使用寿命或耐热性的提高等可靠性的提高。还有,在这些层之间的载流子的注入效率得到改善,能够实现亮度以及发光效率的提高。
另外,在前述有机EL装置中,优选前述发光层的表面是粗糙面。
这样的话,由于此发光层与在此上层叠的层之间的接触面积变大,所以如前述这样,能够实现可靠性、亮度以及发光效率的提高。
另外,在前述有机EL装置中,前述功能层包括空穴注入/输送层,优选该空穴注入/输送层的表面是粗糙面。
这样的话,由于此空穴注入/输送层与在此上层叠的层之间的接触面积变大,如前述这样,能够实现可靠性、亮度以及发光效率的提高。
本发明的有机EL装置的制造方法的特征在于,在一对电极间具有至少包括了发光层的功能层的有机EL装置的制造方法中,前述功能层之中的至少一层是通过用液滴喷吐法配置该功能层的形成材料的涂敷工序和用真空干燥法干燥由该涂敷工序配置的形成材料的干燥工序形成的。
根据此有机EL装置的制造方法,由于通过由液滴喷吐法配置功能层的形成材料,其后,由真空干燥法干燥此形成材料,使功能层之中的至少一层成为表面为粗糙面的层,所以如前所述,在此功能层与在其上层叠的层的界面上,使它们之间的接触面积变大成为可能。由此得到的有机EL元件,能提高这些层间的附着性,实现长使用寿命和耐热性的提高等可靠性的提高。再有,在这些层之间的载流子的注入效率得到改善,能够实现亮度以及发光效率的提高。
另外,在前述有机EL装置的制造方法中,优选前述发光层由前述涂敷工序和干燥工序形成。
这样的话,由于前述发光层的表面是粗糙面,所以此发光层与在其上层叠的层之间的接触面积变大。因此,如前所述,能使得到的有机EL元件的可靠性、亮度以及发光效率得到提高。
另外,在前述有机EL装置的制造方法中,优选通过前述涂敷工序和干燥工序形成作为前述功能层的空穴注入/输送层。这样的话,因为前述空穴注入/输送层的表面是粗糙面,所以此空穴注入/输送层与在其上层叠的层之间的接触面积变大。因此,能如前述那样实现得到的有机EL元件的可靠性、亮度以及发光效率的提高。


图1是有关本发明的有机EL装置的主要部分侧向剖面图。
图2是用于说明有机EL装置的制造方法的工序图。
图3是继图2之后的工序的说明图。
图4是继图3之后的工序的说明图。
图5是继图3之后的工序的说明图。
图中1-有机EL元件,2-基体,3-透明电极,4-阴极,5-功能层,8-空穴注入/输送层,9-发光层,10-有机EL装置。
具体实施例方式
以下,详细说明本发明。
图1是表示包括了本发明的有机EL元件的有机EL装置的一种实施方式的主要部分侧向剖面图。图1中符号1是有机EL装置、10是有机EL元件。有机EL装置1包括在基体2上作为阳极发挥功能的透明电极(象素电极)3和阴极4,在这些透明电极3和阴极4之间包括有功能层5。在功能层5发出的光从基体2一侧射出,即是所谓的底部发射类型的装置。此处,由透明电极3以及阴极4和在它们之间设置的功能层5,形成前述有机EL元件10。
基体2是在玻璃基板等的透明基板(图中未表示)上,形成由TFT元件构成的驱动元件(图中未表示)或各种布线等构成的基底,在这些驱动元件或各种布线上通过绝缘膜或平坦化膜形成了透明电极3。
透明电极3是由在每个基体2上形成的单一圆点区域进行图案形成而化形成的,而且是与由TFT元件构成的前述驱动元件或前述各种布线等相连的电极。在本实施方式中,是由ITO(铟锡氧化物Indium Tin Oxide)形成的。
此处,由此ITO构成的透明电极3在本实施方式中是以具有一定程度的表面粗糙度那样形成的。具体地说,此透明电极3的算术平均表面粗糙度Ra(ITO)(以下记为Ra)优选满足以下公式的范围。
0.5nm≤Ra(ITO)≤透明电极3上的层的膜厚还有,透明电极3上的层,在本实施方式中如后述那样成为空穴注入/输送层8。
另外,优选Ra(ITO)是在满足以下公式的范围内。
0.5nm≤Ra(ITO)≤5nm之所以使透明电极3形成为具有这样的Ra方式,是为了使在其上层叠的功能层(空穴注入/输送层8)的表面保持适当大小的表面粗糙度。由于采用这样使成为底部层的透明电极3的表面设为粗糙面的方法,在制造上特别容易实现,因此是优选的。
这是因为透明电极3的表面的Ra如果不足0.5nm,则不能充分得到在这样的功能层的表面形成适当大小的表面粗糙度的效果。
另外,如果Ra超过5nm,在透明电极3上形成的层的成膜性变差,因此并不优选。特别是,当通过后述那样用液滴喷吐法(液滴喷吐法),使其上的层成膜的情况下,由于表面粗糙度大,所以即使例如通过氧等离子区等进行表面处理,可润湿性也差,很难成为均匀性成膜。
再有,如果透明电极3的表面的Ra比透明电极3上的层(空穴注入/输送层8)的膜厚大,则在其上层叠的层中会产生薄的部位,透明电极3和阴极4之间容易短路。因此,形成的元件的漏电流很容易变大。
还有,此空穴注入/输送层8的膜厚为50~60nm,在本实施方式中,优选前述透明电极3的表面的Ra(ITO)在此空穴注入/输送层8的膜厚以下,即为50~60nm以下左右。
在前述透明电极3上,如图1所示那样,层叠有由空穴注入/输送层8和发光层9构成的功能层5。
此空穴注入/输送层8在本发明中以具有十分大的表面粗糙度的方式形成。具体地说,此空穴注入/输送层8的表面的Ra(HIT)优选满足以下公式的范围。还有,此处所说的空穴注入/输送层8的表面的Ra(HIT)是指层叠在透明电极3上的状态下的Ra。
1nm≤Ra(HIT)≤发光层9的膜厚另外,优选Ra(HIT)是满足以下的公式的范围。
1nm≤Ra(HIT)≤2nm之所以使空穴注入/输送层8以具有这样的表面粗糙度的方式形成,是因为能够使与在其上层叠的发光层9的界面的接触面积变大的缘故。
即,表面粗糙度不足1nm,则不能使与发光层9间的接触面积十分大,从而与发光层9间的载流子的注入效率下降,因此并不优选。
另外,如果Ra超过2nm,由于与发光层9之间的附着性反而降低,从而形成的元件的可靠性下降,因此也并不优选。
还有,如果表面粗糙度比发光层9的膜厚大,则在发光层9上产生薄的部位,使在空穴注入/输送层8和阴极4之间容易短路。为此,形成的元件的漏电流增大,因此也并不优选。
再有,此发光层9的膜厚为80nm左右,在本实施方式中,优选前述的空穴注入/输送层8的表面的Ra(HIT)为此发光层9的膜厚以下,即80nm左右以下。
作为前述发光层9的形成材料采用能发出荧光或者磷光的周知的发光材料。特别是,在本实施方式中,为了进行全彩色显示,采用了前述这样其发光波段与光的三原色(基色)分别对应的材料。即由发光波段与红色对应的发光层、与绿色对应的发光层、与蓝色对应的发光层这三个发光层(圆点)构成1个象素,通过使其具有灰度发光,有机EL装置1作为整体进行全彩色显示。
作为此发光层9的材料,具体地说,能适当地使用聚对苯撑乙烯撑系材料和聚芴系材料等的高分子系材料。
另外,也可以使用在这些高分子材料中掺杂四苯基丁二烯、紫苏烯、香豆素、红荧烯、尼罗红等的色素、或者掺杂作为空穴传输材料的三苯胺系材料、肼系材料、茋系材料,还有,掺杂作为电子传输材料的噁二唑系、三唑系材料的材料。
此发光层9在本发明中也形成为具有十分大的表面粗糙度的样子。具体地说,优选此发光层9的表面Ra(EL)在满足以下公式的范围内。还有,此处所说的发光层9的表面的Ra(EL)是指在空穴注入/输送层8上层叠的状态下的Ra。
0.3nm≤Ra(EL)≤阴极4的膜厚另外,进一步优选Ra(EL)是在满足以下的公式的范围内。
0.3nm≤Ra(EL)≤2nm之所以使发光层9形成为具有这样的表面粗糙度,是因为与在其上层叠的阴极4的界面上,能使接触面积大。
即,Ra不足0.3nm,则不能使与发光层9之间的接触面积十分大,与阴极4之间的载流子的注入效率下降,因此并不优选。另外,如果使发光层9的表面的Ra(EL)具有用于阴极4的金属原子的原子半径以上的粗糙度的话,则能以更高的效率在发光层9内注入更多的电子,因此优选。特别是,如后述那样,由电子注入层和阴极层形成阴极4的情况下,如果使发光层9的表面的Ra(EL)具有用于电子注入层的金属原子的原子半径以上的粗糙度,则能以更高的效率在发光层9内注入更多的电子,因此优选。
另外,如果表面粗糙度比阴极4的膜厚大,当通过蒸镀法在发光层9上形成金属阴极时,特别是以nm级形成前述的电子注入层的情况下,会在发光层9的表面上部分地产生没有附着金属的部位。
如果表面粗糙度超过2nm,则产生特别薄的部位,或者当设置了nm级的薄电子注入层的情况下,会出现部分地没有形成电子注入层的部分,其结果,就不能效率良好地进行电子注入。
阴极4是形成为覆盖全部象素区域,例如是从发光层9一侧开始按顺序层叠Ca层和Al层形成的。只是,特别在进行蓝色发光的圆点区域上,也可以是在前述发光层9上设置例如由LiF等形成的电子注入层(图中未表示),将此电子注入层与由前述的Ca层及Al层形成的阴极层的层叠膜作为阴极4。
另外,在阴极4上形成密封层11。此密封层11是由保护层、粘接层以及密封基板形成的公知的构成。
在制造这样构成的有机EL装置1时,首先,和以往同样地,在透明基板上形成TFT元件和各种布线等,还形成层间绝缘膜和平坦化膜,得到基体2。
接着,在此基体2上,例如通过溅射法成膜ITO。具体地说,在高频溅射装置的罩(成膜室)内,放入形成透明导电膜用的靶、例如由含有浓度为10重量%以下氧化锡(SnO2)的氧化铟(In2O3)形成的靶和前述基体2,使它们对向配置。接着,在罩内引入载流子气体,例如含有体积比为0.2~20%的氧气的氩气,使此罩内的氩气压达到规定的气体压力。然后,在此状态下,在前述基体2和靶之间施加规定的高频电压,使原子状的粒子在前述基体2上堆积,形成作为透明导电膜的ITO膜。接着,通过将其图案化,形成透明电极3。通过这样的形成过程得到的透明电极3成为具有前述的表面粗糙度Ra(ITO)的电极。
接着,在基体2上形成包围前述透明电极3的周围这样的、由SiO2形成的无机围堰6,然后在此无机围堰6上形成由树脂构成的有机围堰7,由此,如图2所示,在透明电极3上形成凹部12。作为用于前述有机围堰7的材料,能列举出聚酰亚胺、丙烯树脂等。另外,也可以采用预先使这些材料中含有氟元素的结构的材料。
接着,将具有由无机围堰6、有机围堰7包围的凹部12的基体2通过进行由氧等离子CF4的连续处理,控制基体2上的润湿性。接着,在此凹部12内,通过液滴喷吐法(inject法)形成空穴注入/输送层8。即,如图3所示,通过从液滴喷头(inject head)13将空穴注入/输送层8的形成材料8a由液滴喷吐法(液滴喷吐法)在前述凹部12内选择性地喷吐(配置)的涂敷工序,其后通过真空干燥法干燥此形成材料8a的干燥工序,如图4所示,在前述透明电极3上形成空穴注入/输送层8。
此处,作为空穴注入/输送层8的形成材料8a采用了将3,4-聚乙烯二羟基噻吩/聚苯乙烯磺酸(PEDOT/PSS)的分散液(H.C.Stark公司生产;Baytronp(产品名称))溶解在作为极性溶剂的异丙醇、N-甲焦磷酸、1,3-二甲基咪啉唑酮的混合溶液中的材料。还有,关于此形成材料8a的各成分的比,以重量%计算的话,3,4-聚乙烯二羟基噻吩/聚苯乙烯磺酸(PEDOT/PSS)的分散液为11.08%,聚苯乙烯磺酸为1.44%,异丙醇为10%,N-甲焦磷酸为27.48%,1,3-二甲基咪啉唑酮为50%。
另外,对于前述的形成材料8a的干燥处理采用了真空干燥法。此真空干燥法是例如将涂敷了前述形成材料8a的基体2在真空室内急速地进行真空干燥的方法,是可以不必加热基板、在常温下(室温下)进行干燥的方法。即通过将基体2放置在真空室内后,使真空室内一下从大气压减压至1Torr,最终达到10-5Torr以下的真空度,除去溶剂、成膜。从大气压开始减压至1Torr为止的时间优选为3分至5分之间。当使从大气压开始减压至1Torr为止的时间小于3分钟的情况下,容易引起涂敷了形成材料8a起泡,使缺陷的产生率变高。高于5分钟的情况下,形成的空穴注入/输送层8的表面Ra变小,不能得到适当大小的表面粗糙度。此时,也可以调整真空室内的排气速度,以大致一定的比例进行减压。通过这样做,能使形成的空穴注入/输送层8的表面的Ra的再现性变得更高。另外,也可以减压时使基板温度保持在一定。通过这样做,能使更难发生减压时涂敷了形成材料8a的起泡,能使形成的空穴注入/输送层8的表面的Ra的再现性变得更高。
还有,减压至1Torr之后,关于达到10-5Torr以下的真空度为止的时间,采用了通过预先实验等适当地设定的时间。其后,进一步通过在大气中在200°下进行10分钟的烘焙,形成空穴注入/输送层8。
如果按照这样的真空干燥法形成空穴注入/输送层8,因为在干燥过程中,在常温下短时间进行干燥,所以其表面为适当粗糙的面,即成为适当的粗糙面,是具有前述范围的Ra(HIT)的表面。这样的Ra(HIT)通过作为底部层的透明电极3具有前述的表面粗糙度,也能被容易地形成。
还有,将前述形成材料8a通过旋转涂敷法在透明电极3上涂敷,其后,通过在大气中在200°下进行10分钟的烘焙,也能形成空穴注入/输送层8,但这种情况下,Ra(HIT)变得比较小。另外,经过自然放置那样花费时间的干燥法中,由于其Ra(HIT)超过了2nm,所以不是优选。还有,当赋予灯光照射等的高能量,在短时间内使其干燥的情况下,相反Ra(HIT)变为不足1nm,因此不是优选。
接着,如图5所示,在前述凹部12内的空穴注入/输送层8上形成发光层9。此发光层的形成也适当地采用了前述的液滴喷吐法(inject法)。即在此发光层9的形成过程中,虽然有必要分别形成红色的发光层、绿色的发光层、蓝色的发光层,但根据液滴喷吐法,只需通过将各发光层的形成材料分别在所期望的位置喷吐,就能够容易地形成各个发光层9。还有,在此发光层9的形成过程中,特别地,作为溶解发光层形成材料的溶剂,采用了不使前述空穴注入/输送层8再溶解的材料,由于能使空穴注入/输送层8保持在良好的状态,所以是优选的。
此处,作为发光层9的形成材料采用了将由前述的聚芴系材料等构成的有机发光材料以0.8重量%的比例溶解在环己基苯中的组成物。
另外,对于此组成物(形成材料)的干燥处理,也和前述空穴注入/输送层8的情况同样地采用真空干燥法。即在此处的干燥工序中也是将涂敷了组成物(形成材料)的基体2放置在真空室内之后,通过在3分钟到5分钟之间使真空室内减压至1Torr为止,最终达到10-5Torr以下的真空度,形成发光层9。还有,对于减压至10-5Torr以下的真空度为止的时间,和前述空穴注入/输送层8的情况同样,采用了预先实验等适当设定的时间。
另外,在此发光层9的形成中,在前述真空干燥处理后,在氮环境下,在130°下进行30~60分钟的退火处理,由此得到发光层9。
如果利用这样的真空干燥法形成发光层9,由于不需要加热,在常温下短时间地进行干燥,所以其表面为适当粗糙的面,即成为适当的粗糙面,是具有前述范围的Ra(EL)的表面。这样范围的Ra(EL)通过作为底部层的空穴注入/输送层8具有前述的表面粗糙度,也能被容易地形成。
接着,和以往同样地通过蒸镀法在覆盖了发光层9以及有机围堰7的状态下,将Ca(钙)例如以厚度20nm左右成膜,通过再在此上将Al(铝)成膜,形成由Ca/A1的层叠构造构成的阴极4。
还有,此处虽未详细描述,但特别对于蓝色的发光层9,通过利用掩膜在此上选择性地蒸镀LiF,形成电子注入层,也可以包括此电子注入层来作为阴极4。
其后,在阴极4上形成保护层、粘接层,进一步通过粘贴密封基板,得到图1所示的有机装置1。
对于这样得到的有机EL装置1(有机EL元件10),特别是在空穴注入层8与发光层9的界面,还有在发光层9和阴极4的界面上,因为前述空穴注入层8、发光层9分别具有规定范围的表面粗糙度,所以在这些各个功能层(空穴注入层8、发光层9)和在其上层叠的层之间的接触面积变大,因此它们之间的附着性提高,能实现长使用寿命,再有,通过载流子的注入效率提高,能实现高效率、高亮度。
另外,按照前述有机EL装置1(有机EL元件10)的制造方法,将空穴注入层8以及发光层9的形成材料分别通过液滴喷吐法(inject法)配置,其后,通过将这些形成材料采用真空干燥法干燥,由于能使空穴注入层8以及发光层9成为表面为粗糙面的层,所以能实现前述这样得到的有机EL装置1(有机EL元件10)的高可靠性、高品质。
还有,在前述实施方式中,对于将本发明用于底部发射类型的有机EL装置的情况进行了说明,但本发明并非限定于此,也能用于从与基板相反的一侧发射出发射光,即所谓的顶部发射类型的装置中。
另外,这样的本发明的有机EL装置(有机EL元件)也适合于作为例如微型电脑、个人计算机等的携带式信息处理装置和携带电话机、手表型电子设备等、各种电子设备中的显示部来使用。通过这样做,能实现可靠性高的电子设备。
(实验例)基于在前述实施方式中的制造方法,如以下这样制造了有机EL元件10(有机EL装置1)。
首先,作为本发明的实施例样品,在Ra(ITO)为0.6nm的透明电极3上通过按照液滴喷吐法(inject法)的涂敷工序和按照真空干燥法的干燥工序以及烘焙工序形成了空穴注入/输送层8。用触针式的膜厚计测量得到的空穴注入/输送层8的膜剖面图形几乎是平坦的,另外,利用扫描型的AFM(原子间力显微镜)测量其规定区域的Ra(HIT)为1.3nm。
另外,为了进行比较,将空穴注入/输送层8的形成材料通过液滴喷吐法(inject法)配置之后,将其用加热法进行干燥,形成了空穴注入/输送层8(比较样品1)。再有,将前述形成材料通过液滴喷吐法(inject法)配置之后,将其用自然干燥法进行干燥,形成了空穴注入/输送层8(比较样品2)。测量这样形成的各个空穴注入/输送层8的膜剖面图形,比较样品1为凹状,比较样品2几乎为平坦的。另外,对于其Ra(HIT),比较样品1为0.8nm,比较样品2为4.0nm。
此处,对于这样形成的各空穴注入/输送层8,对于其底部层(透明电极3)的附着性,通过用粘贴胶带的剥离试验进行测量的结果,确认为不产生剥离、附着性良好。
接着,对于前述的实施例样品以及比较样品1、2,通过按照液滴喷吐法(inject法)的涂敷工序、按照真空干燥法的干燥工序分别形成了发光层9。对于实施例样品,测量得到的发光层9的膜剖面图形,几乎是平坦的,另外,其表面粗糙度Ra(EL)为0.8nm。
对于比较样品1,用同样的方法形成了发光层9的情况下,发光层的膜剖面图形更是成为凹状,不能得到在象素内均匀的膜厚,作为结果制作的元件不能得到均匀的发光。对于比较品2,用同样的方法形成了发光层的情况下,得到了几乎平坦的发光层的膜剖面图形。但是,对于空穴注入层的附着性,通过用粘贴胶带的剥离实验进行测量的结果,确认为全体产生剥离、不能得到充分的附着性。
另外,与这些不同,为了进行比较,对于形成了至空穴注入/输送层8为止的前述实施例样品,将发光层9的形成材料通过旋转涂敷法涂敷、形成了发光层9(比较样品3)。再有,将前述形成材料通过液滴喷吐法(inject法)配置之后,将其通过自然干燥法进行干燥,形成了发光层9(比较样品4)。测量这样形成的各个发光层9的膜剖面图形,比较样品3比较样品4几乎是平坦的。但是对于其Ra(EL),比较样品3为0.2nm,比较样品4为3.0nm。
对于这样形成的各个发光层9,形成阴极,通过用粘贴胶带的剥离实验测量发光层和阴极之间的附着性。确认为实施例样品没有产生剥离、附着性良好。另一方面,确认了比较样品3、4每一个都产生了发光层9的全体剥离,不能得到充分的附着性。
另外,对于前述实施例样品以及比较样品1~4,测量了其元件使用寿命。还有,对于元件使用寿命,使初始亮度为3000Cd/m2,在恒流驱动的基础下,当亮度减为一半为止的时间作为使用寿命。
像这样测量了各个样品的元件使用寿命的结果,如果将实施例样品的元件使用寿命设定为1的话,比较样品1为0.6,比较样品2为0.5,比较样品3为0.7,比较样品4为0.4。明确了本发明的实施例样品元件使用寿命最长。
权利要求
1.一种有机EL装置的制造方法,是具有在一对电极间至少包括了发光层的功能层的有机EL装置的制造方法,其特征在于,所述功能层之中的至少一层,是通过用液滴喷吐法配置该功能层的形成材料的涂敷工序和用真空干燥法干燥由该涂敷工序配置的形成材料的干燥工序形成的。
2.根据权利要求1所述的有机EL装置的制造方法,其特征在于,所述发光层由所述涂敷工序和干燥工序形成。
3.根据权利要求1所述的有机EL装置的制造方法,其特征在于,通过所述涂敷工序和干燥工序形成作为所述功能层的空穴注入/输送层。
4.根据权利要求1所述的有机EL装置的制造方法,其特征在于,所述功能层之中至少一层的干燥工序是通过调整排气速度进行,以使从大气压开始至1Torr为止的减压的时间为规定值。
5.根据权利要求4所述的有机EL装置的制造方法,其特征在于,所述从大气压开始至1Torr为止的减压的时间在3到5分钟之间。
6.根据权利要求4所述的有机EL装置的制造方法,其特征在于,以一定的比例进行所述从大气压开始至1Torr为止的减压。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的有机EL装置的制造方法,其特征在于,在所述从大气压开始的减压时,基板温度保持一定。
8.根据权利要求2所述的有机EL装置的制造方法,其特征在于,所述发光层的表面的算术平均表面粗糙度为0.3≤Ra≤2nm。
9.根据权利要求3所述的有机EL装置的制造方法,其特征在于,所述空穴注入/输送层表面的算术平均表面粗糙度为1≤Ra≤2nm。
全文摘要
本发明提供一种能特别提高构成功能层等的有机EL元件的层的附着性,由此能使由使用寿命的提高等表示的高可靠性、甚至由高亮度表示的高品质成为可能的有机EL元件和其制造方法。其是在一对电极间,具有至少包括了发光层(9)的功能层(5)构成的有机EL元件(10)。功能层(5)之中至少一层的表面是粗糙面。
文档编号H05B33/10GK1691849SQ20051006776
公开日2005年11月2日 申请日期2005年4月26日 优先权日2004年4月26日
发明者关俊一, 木村秀之, 三矢将之 申请人:精工爱普生株式会社
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