1.一种图案化石墨烯电极的制备方法，包括：
(1)用化学气相沉积法在铜箔上沉积石墨烯；
(2)在所述沉积有石墨烯的铜箔上旋涂2-5wt％的聚甲基丙烯酸甲酯的氯苯溶液；
(3)待氯苯挥发后，将所述旋涂后的铜箔浸泡入过硫酸铵溶液中，蚀刻掉铜箔，得到石墨烯膜附着的聚甲基丙烯酸甲酯膜；
(4)将所述石墨烯膜附着的聚甲基丙烯酸甲酯膜转移到附有100-500nm厚SiO2的n型重掺杂硅片上，用丙酮清洗除去聚甲基丙烯酸甲酯膜，在硅片上得到石墨烯膜；
(5)将所述石墨烯膜旋涂光刻胶，UV光刻技术图案化光刻胶，用氧离子反应蚀刻去掉没有光刻胶覆盖的石墨烯，接着用丙酮除去光刻胶，得到图案化的石墨烯电极。