本实用新型涉及到太阳能电池制造领域，尤其涉及到一种用于太阳能电池湿法刻蚀上料段预防叠片的压轮装置。
背景技术：
太阳能电池生产制造过程中，扩散后需要对产品的四周进行刻蚀，目前大都选用湿法刻蚀的方式。
传统的湿法刻蚀设备主要针对早期的156mm×156mm硅片产品，有5道设备和8道设备；为保证各道之间的产品都能够笔直流向设备终端，如图1和图2所示，在上料段设有若干滚轮、导向轮和压轮，硅片置于滚轮上向前行进，导向轮位于硅片的两侧，两件压轮为圆形且置于硅片的中间上方，两件压轮的间距尺寸相对较小，且呈转动模式，固定的设备宽度尺寸和滚轮尺寸无法调整。
随着市场对大尺寸产品的需求，目前的产品尺寸较原有的尺寸大了0.75mm，为156.75mm×156.75mm，产品尺寸的增大使得导向轮的导向功能非常勉强，时常会出现产品在运行过程中，硅片一侧边角顺着导向轮的斜面向上爬，过了导向轮之后，便与相邻轨道的另一片产品局部叠在一起，在经过后面若干个酸、碱、水槽后，叠片部位会携带酸、碱或水，在经过下料段滚轮后，会污染和浸湿滚轮，同时还会污染和浸湿自动下料设备的皮带，最终会使这一道或几道接下来的一部分产品交叉受到污染，造成品质不良，直接带来生产成本的上升。
即便使用设备自带的的压轮，也不能保证都能让硅片产品恢复到各自的轨道上，反而会在上料端产生大量的碎片。
技术实现要素：
本实用新型主要解决现有太阳能电池湿法刻蚀上料段的硅片容易走偏且与邻道硅片叠合造成产品加工质量不佳的技术问题；提供了一种用于太阳能电池湿法刻蚀上料段预防叠片的压轮装置。
为了解决上述存在的技术问题，本实用新型主要是采用下述技术方案：
本实用新型的一种用于太阳能电池制造预防叠片的压轮装置，设于湿法刻蚀设备上料段，用于太阳能电池硅片的湿法刻蚀加工，所述上料段包括牵引轴、置于所述牵引轴上的多个滚轮组，多个滚轮组对应多列硅片，每组滚轮组包括相互间隔的若干滚轮及导向轮，所述导向轮为两件，位于滚轮组的两端，两件导向轮的间距与所述硅片宽度相吻合，硅片置于上述滚轮上且随滚轮转动而牵引前行，所述压轮装置包括压轮轴和置于压轮轴上的多个压轮组，所述压轮轴位于所述牵引轴上方，多个压轮组对应多列硅片，每组压轮组包括两件压轮，所述压轮与所述导向轮一一对应且位于导向轮的内侧，压轮轮面呈水平状且贴近硅片表面，将压轮设置在湿法刻蚀设备上料段的导向轮内侧且靠近导向轮内侧，且使压轮轮面贴近硅片表面，使得滚轮上的硅片边角在走偏上爬时及时被压轮轮面碰撞而下落，恢复到原来的行进轨道上，消除了硅片的叠片现象。
作为优选，所述压轮轴呈静止状，所述压轮固置于压轮轴上，静止的压轮直接阻挡了硅片的上爬，防止了偏移的硅片不会继续被压轮带动前行而碎片。
作为优选，所述压轮上设有缺口，所述缺口正对所述硅片的行进方向，缺口呈V形，V形角度大于90°，缺口的一侧斜面平行于硅片平面，缺口的另一侧斜面朝下，采用带缺口的压轮且缺口面对硅片的行进方向，当产品边角顺着导向轮斜坡向上爬的时候就会碰到上方的压轮缺口部位阻挡，使产品重新落回到滚轮上继续前行，保证了各道之间的硅片不会相互干涉，消除了硅片的叠片现象。
本实用新型的有益效果是：将压轮设置在湿法刻蚀设备上料段的导向轮内侧且靠近导向轮内侧，且使压轮轮面贴近硅片表面，使得滚轮上的硅片边角在走偏上爬时及时被压轮轮面碰撞而下落，恢复到原来的行进轨道上，消除了硅片的叠片现象。
附图说明
图1是常规湿法刻蚀设备上料段的结构示意图。
图2是图1结构的侧向示意图。
图3是本实用新型的一种结构示意图。
图4是图3结构的侧向示意图。
图5是图3结构中的压轮示意图。
图中1.硅片，2.牵引轴，3.滚轮，4.导向轮，5.压轮轴，6.压轮，7.缺口。
具体实施方式
下面通过实施例，并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。
实施例：本实施例的一种用于太阳能电池制造预防叠片的压轮装置，设于湿法刻蚀设备上料段，用于太阳能电池硅片1的湿法刻蚀加工，如图3和图4所示，上述上料段包括牵引轴2、置于牵引轴上的多个滚轮组，多个滚轮组对应多列硅片，每组滚轮组包括相互间隔的两件滚轮3及导向轮4，导向轮为两件，位于滚轮组的两端，用于定位和引导硅片的行进线路，两件导向轮的间距与硅片宽度相吻合，硅片置于上述滚轮上且随滚轮转动而牵引前行，压轮装置包括压轮轴5和置于压轮轴上的多个压轮组，压轮轴位于牵引轴的正上方且呈静止状态，多个压轮组可对应多列硅片，每组压轮组包括两件压轮6，压轮与导向轮一一对应且位于导向轮的内侧并靠近导向轮，压轮固置于压轮轴上，压轮轮面呈水平状且贴近硅片表面，如图5所示，压轮上设计有缺口7，所述缺口正对硅片的行进方向，缺口呈V形，V形角度为120°，缺口的一侧斜面平行于硅片平面，缺口的另一侧斜面朝下且面对硅片。
置于滚轮上的硅片在导向轮的引导下向前行进，当硅片走偏时，硅片边角沿导向侧向斜面向上爬，此时，带有缺口的压轮位于导向轮上方，硅片边角碰到压轮片缺口斜面上而受到阻挡，硅片边角下落而重新回到原来的行进轨道上，保证了各轨道上的硅片不会相互干涉，提高了产品的加工质量。
在本实用新型的描述中，技术术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“纵”、“横”、“内”、“外”等表示方向或位置关系是基于附图所示的方向或位置关系，仅是为了便于描述和理解本实用新型的技术方案，以上说明并非对本实用新型作了限制，本实用新型也不仅限于上述说明的举例，本技术领域的普通技术人员在本实用新型的实质范围内所做出的变化、改型、增添或替换，都应视为本实用新型的保护范围。