且隔离柱的厚度为3.6um。
[0026]本发明的实施例中，并未穷举所有制作步骤，因为例如，未被列举的再清洗、真空蒸发等步骤是本领域制作OLED器件必然具备的步骤，本领域技术人员也应当清楚其工艺顺序、材料和相关尺寸参数，且其制作工艺是本领域常用的技术手段。
[0027]根据本发明的另一方面，提供了一种OLED的制作方法，包括如下步骤:
(1)提供透明玻璃基板；
(2)在所述玻璃基板上形成的透明阳极层，所述阳极层呈复数条间隔排列；
(3)在所述玻璃基板上涂布透明负性光刻胶制作绝缘层，所述绝缘层分布于所述阳极层之间且呈复数条间隔排列，所述绝缘层每条的截面形状均为正梯形或正方形；
(4)在所述绝缘层上涂布负性光刻胶制作隔离柱。
[0028]其中步骤(3)包括:
a)在110~125摄氏度下对透明负性光刻胶进行预烘，预烘时间为125~140秒；
b)对透明负性光刻胶曝光，曝光量为30~50mj/Com；
c)对透明负性光刻胶进行烘烤，时间为150~250秒，温度为115摄氏度~120摄氏度；
d)对透明负性光刻胶进行显影，显影时间1~2分钟；
e)对透明负性光刻胶在220~250摄氏度条件下，固化500~600秒。
[0029]优选地，步骤2中在清洗干净阳极层上再镀一层透明导电膜，形成双层透明导电膜。
[0030]在一个实施方式中，步骤(3)的具体步骤如下:
a)在120摄氏度下对透明负性光刻胶进行预烘，预烘时间为140秒；
b)对透明负性光刻胶进行曝光，曝光量为50mj/com；
c)对透明负性光刻胶进行烘烤，时间为250秒，温度为120摄氏度；
d)使用TAMH进行显影，显影液的浓度为2.38%，显影时间2分钟；
e)在250摄氏度条件下，进行600秒固化。
[0031 ] OLED器件还包括有机发光层、阴极层和封装盖板。所述有机发光层、阴极层和封装盖板均为本领域技术人员习知的技术，在此不再赘述。
[0032] 本发明利用透明负性光刻胶制作绝缘层，可实现OLED器件的全透明显示。仅由一种光刻胶就可以实现绝缘层和隔离柱，减少了备料，节省了成本，提高了生产效率。同时，通过工艺调整，形成正梯形或正方形的绝缘层，降低了电极粘附一面光刻胶与显影液反映速率，温度高显影慢，可解决现有工艺用透明光刻胶制作绝缘层导致行方向阴极线路无法导通的问题。
[0033]前述实施方式和优点仅是示例性的，不能理解为对本发明进行限制。本教导可以容易地应用于其他类型的显示装置。本说明书旨在说明而并非限制权利要求的范围。许多另选、变型和修改对于本领域技术人员来说是显而易见的。可以按多种方式对这里描述的示例性实施方式的特征、结构、方法和其他特性进行组合，以获得附加和/或另选的示例性实施方式。
【主权项】
1.一种OLED器件，其包括透明的玻璃基板、呈复数条间隔排列于所述玻璃基板上的透明的阳极层、分布于所述阳极层之间且呈复数条间隔排列于所述玻璃基板上的绝缘层，及呈复数条且对应布设于所述绝缘层上的隔离柱上；其特征在于，所述绝缘层和隔离柱的材料均为透明负性光刻胶，且所述绝缘层每条的截面形状均为正梯形或正方形。
2.根据权利要求2所述的OLED器件，其特征在于，所述绝缘层每条的截面形状为正梯形时，正梯形中腰与上边的角度为90度-120度。
3.根据权利要求3所述的OLED器件，其特征在于，所述OLED器件还包括布设于所述阳极层且位于所述绝缘层之间和所述隔离柱之间的有机发光层、布设于所述有机发光层和所述隔离柱上的阴极层和位于所述阴极层上的封装盖板，所述阴极层和封装层的材料均为透明材料。
4.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，所述阳极层为ITO层，所述阴极层材料为镁银合金。
5.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，所述绝缘层的厚度为1.5um。
6.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，所述玻璃基板的厚度为0.5-0.7mm,阳极层的厚度为150nm，隔离柱的厚度为3.2-3.9um。
7.—种OLED器件的制作方法，其特征在于，包括如下步骤: (1)提供透明玻璃基板； (2)在所述玻璃基板上形成的透明阳极层，所述阳极层呈复数条间隔排列； (3)在所述玻璃基板上涂布透明负性光刻胶制作绝缘层，所述绝缘层分布于所述阳极层之间且呈复数条间隔排列，所述绝缘层每条的截面形状均为正梯形或正方形； (4)在所述绝缘层上涂布负性光刻胶制作隔离柱。
8.根据权利要求7所述的OLED器件的制作方法，其特征在于，所述步骤(3)中绝缘层的制作包括如下步骤: 在110~125摄氏度下对透明负性光刻胶进行预烘，预烘时间为125~140秒； 对透明负性光刻胶曝光，曝光量为30~50mj/Com ； 对透明负性光刻胶进行烘烤，时间为150~250秒，温度为115摄氏度~120摄氏度； 对透明负性光刻胶进行显影，显影时间1~2分钟； 对透明负性光刻胶在220~250摄氏度条件下，固化500~600秒。
9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述步骤(2)还包括在清洗干净阳极层上再镀一层透明导电膜，形成双层透明导电膜。
10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述双层透明导电膜的材料为Mo/Al/Mo 或 ΙΤ0。
【专利摘要】本发明提供了OLED器件及OLED器件的制作方法，该OLED器件，其包括透明的玻璃基板、呈复数条间隔排列于所述玻璃基板上的透明的阳极层、分布于所述阳极层之间且呈复数条间隔排列于所述玻璃基板上的绝缘层，及呈复数条且对应布设于所述绝缘层上的隔离柱上；所述绝缘层和隔离柱的材料均为透明负性光刻胶，且所述绝缘层每条的截面形状均为正梯形或正方形。此外还提供了该OLED器件的制作方法。所述绝缘层采用负性光刻胶并且呈正梯形或正方形从而实现了显示区域的全透明。
【IPC分类】H01L51-52, H01L51-56
【公开号】CN104600206
【申请号】CN201510015773
【发明人】陈兵
【申请人】昆山维信诺科技有限公司
【公开日】2015年5月6日
【申请日】2015年1月13日