一种有机电致发光器件及其制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及有机电致发光器件技术领域，特别是一种带有光学补偿层的有机电致 发光器件，本发明还涉及该有机电致发光器件的制备方法。
【背景技术】
[0002] 有机电致发光器件OLED通常包括多个像素，每个像素由若干子像素组成。目前在 中小尺寸中广泛应用方案之一是由红、绿、蓝三种像素组成一个像素。为获得较高的像素分 辨率，红、绿、蓝三种子像素层在制备程中需要分别采用高精密金属掩膜板蒸镀掩膜板。由 于高精密掩膜板精度高，每个子像素均需要对位调整，每次调整都会牺牲一部分精度，因此 提高了器件成本且限制了更高分辨率的实现。
[0003] 提高分辨率的手段之一是降低精密掩膜板的使用次数，图1所示的OLED器件的发 光层包括并排设置在空穴传输层上红、绿、蓝三种子像素，在制备时用三组精密掩膜板分别 实现红、绿和蓝色发光层，此方案需要蒸镀三次（即更换3次掩膜板），精密掩膜板成本高， 对位精度高，因此制备高分辨率的器件工艺复杂，成本高。此外，还需要在空穴传输层2和 空穴传输层3之间设置绿光补偿层14和红光补偿层13,进一步增加了工艺步骤路线。
[0004]CN201210596629. 8公开了图2所示的一种有机发光显示装置，所述有机发光显示 装置中的红色子像素、所述绿色子像素和所述蓝色子像素的每个中的第一发射公共层142、 第二发射公共层144、第三发射公共层146,第一发射公共层142为红色有机材料形成，第二 发射公共层144为绿色有机材料形成，第三发射公共层146有蓝色有机材料形成。红色像 素层从下至上包括第一发射公共层142、第二发射公共层144、第三发射公共层146,绿色 像素层包括第一发射公共层142和第三发射公共层146,二者之间设置有第三空穴传输层 134,蓝色像素层包括从下至上包括第一发射公共层142、第二发射公共层144、第三发射公 共层146,第二发射公共层144和第三发射公共层146之间设置有第四空穴传输层136。该 方案需要引进精密掩膜板，增加蒸镀对位次数，工艺复杂不利于量产化。
【发明内容】
[0005] 为此，本发明所要解决的技术问题在于现有结构的有机电致发光器件制备过程中 需要多次精密掩膜板，进而提供一种有机电致发光器件，其制备工艺简单。
[0006] 本发明还提供一种上述有机电致发光器件的制备方法。
[0007] 为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：
[0008] 一种有机电致发光器件，包括基板，以及依次形成在所述基板上的第一电极层、若 干个发光单元层和第二电极层，所述的每个发光单元层包括在第一电极层上设置的第一有 机功能层、发光材料层和第二有机功能层，所述发光材料层包括蓝光发光层、绿光发光层和 红光发光层，所述蓝光发光层与所述第一有机功能层或第二有机功能层物理接触，所述绿 光发光层叠置在所述蓝光发光层上且覆盖部分蓝光发光层，所述红光发光层与所述绿光发 光层之间设置有阻隔层，所述红光发光层的投影覆盖部分所述绿光发光层。
[0009] 所述蓝光发光层覆盖所述第一有机功能层，或被第二有机功能层覆盖；所述红光 发光层和阻隔层在所述基板上的投影完全重叠。
[0010] 蓝光发光层的厚度为10-50nm，所述绿光发光层的厚度为10-55nm，所述阻隔层的 厚度为0_20nm，所述红光发光层的厚度为10-55nm。
[0011] 优选地，蓝光发光层的厚度为40nm，所述绿光发光层的厚度为40nm，所述阻隔层 的厚度为l〇nm，所述红光发光层的厚度为35nm。
[0012] 与所述红光发光层叠置区域的绿光发光层和蓝光发光层以及阻隔层共同构成红 光光学补偿层19 ;与所述绿光发光层叠置区域且不属于红光光学补偿层的蓝光发光层构 成绿光光学补偿层18。
[0013] 所述蓝光发光层为荧光材料发光层，所述绿光发光层和红光发光层分别为磷光发 光层或焚光发光层。
[0014] 所述第二电极层包括第一导电层和第二导电层，所述第一导电层覆盖所述第二有 机功能层，所述第二导电层设置在所述第一导电层上且在基板上的投影与所述绿光发光层 的投影重叠。
[0015] 所述的第一有机功能层包括空穴注入层、空穴传输层和阻挡层中的一层或几层， 所述第二有机功能层包括阻挡层、电子传输层、电子注入层中的一层或几层。
[0016] -种有机电致发光器件的制备方法，包括下述步骤：
[0017] S1、在基板上使用开口掩膜板依次蒸镀第一有机功能层和覆盖第一有机功能层的 蓝光发光层；
[0018] S2、在蓝光发光层上方使用低精度掩膜板蒸镀绿光发光层，所述绿光发光层覆盖 部分所述蓝光发光层；
[0019] S3、在绿光发光层上采用精密掩膜板蒸镀阻隔层和红光发光层，所述电子阻隔层 覆盖部分绿色发光层；
[0020] S4、在红光发光层上采用开口掩膜板蒸镀第二有机功能层和第一导电层；
[0021] S5、在第一导电层上蒸镀第二导电层，第二导电层与绿光发光层在基板上的投影 重叠；
[0022] S6、在第二导电层采用开口掩膜板蒸镀光学耦合层。
[0023] 作为另一种方案，步骤Sl至S4为：
[0024] S1、在基板上使用开口掩膜板依次蒸镀第一有机功能层，采用精密掩膜板蒸镀红 光发光层和阻隔层，所述红光发光层覆盖部分第一有机功能层；
[0025] S2、在阻隔层上方使用低精度掩膜板蒸镀绿光发光层，所述绿光发光层的一部分 覆盖所述空穴阻隔层，并延伸到一部分第一有机功能层；
[0026] S3、在绿光发光层上采用开口掩膜板蒸镀蓝色发光层，所述蓝色发光层的一部分 覆盖所述绿光发光层；
[0027] S4、在蓝色发光层蒸镀第二有机功能层和第一导电层。
[0028] 本发明的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：
[0029] (1)本发明提供的有机电致发光器件的发光材料层采用部分叠加的方式，所述蓝 光发光层与所述第一有机功能层或第二有机功能层物理接触，所述绿光发光层叠置在所述 蓝光发光层上且覆盖部分蓝光发光层，所述红光发光层与所述绿光发光层之间设置有阻隔 层，该阻隔层可以为电子阻隔层或空穴阻隔层，所述红光发光层的投影覆盖部分所述绿光 发光层。这种结构的发光层在制备过程中，蓝光发光层采用与所述第一有机功能层或第二 有机功能同一普通掩膜板即可，绿光发光层采用低精度掩膜板，只有阻隔层和红光发光层 需要精密掩膜板。而现有技术的发光层需要采用三组精密掩膜板，本发明节省了两组精密 掩膜板，成本大为降低，可以提升良率。
[0030] (2)发光层采用本发明提供方式排布，与所述红光发光层叠置区域的绿光发光层 和蓝光发光层以及阻隔层共同构成红光光学补偿层（图3虚线框中红、绿、蓝重叠的区域）； 与所述绿光发光层叠置区域且不属于红光光学补偿层19的蓝光发光层构成绿光光学补偿 层（图3虚线框中绿、蓝重叠的区域）。不需要对红光和绿光额外蒸镀光学补偿层，进一步 简化了工艺。
[0031] (3)本发明的第二电极层包括第一导电层和第二导电层，所述第一导电层覆盖所 述第二有机功能层，所述第二导电层设置在所述第一导电层上且在基板上的投影与所述绿 光发光层的投影重叠。蓝光发光区域仅有第一导电层，而绿光发光区域和红光发光区域上 方设置有第二导电层，即红光和绿光发光区域的第二电极层比蓝光发光区域的第二电极层 厚，因此蓝光发光区域的微腔效应较弱，有利于改善蓝光的视角，而对于长波段的红光和绿 光采用较厚第二电极层提升其微腔强度能够增加光取出。
【附图说明】
[0032] 为了使本发明的内容更容易被清楚地理解，下面根据本发明的具体实施例并结 合附图，对本发明作进一步详细的说明，其中
[0033] 图1为现有技术的发光器件结构示意图；
[0034] 图2为另一现有技术的发光器件结构示意图；
[0035] 图3为本发明发光器件的第一实施方式的结构示意图；
[0036] 图4为本发明发光器件的第二实施方式的结构示意图
[0037] 其中：1-第一电极层，2-空穴注入层，3-空穴传输层，4-蓝光发光层，5-绿光发光 层，6-红光阻隔层，7-红光发光层，8-电子传输层，9-电子注入层，10-第一导电层，11-第 二导电层，12-光线耦合层，15-蓝光发光区，16-绿光发光区，17-红光发光区，18-绿光光学 补偿层；19-红光光学补偿层。
【具体实施方式】
[0038] 下面将通过具体实施例对本发明作进一步的描述。
[0039] 本发明可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。 相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本发明的构思充分传达给 本领域技术人员，本发明将仅由权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区 域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是，当元件例如层、区域或基板被称作"形成在"或"设置 在"另一元件"上"时，该元件可以直接设置在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。 相反，当元件被称作"直接形成在"或"直接设置在"另一元件上时，不存在中间元件。
[0040] 实施例1
[0041]如图3所示，本发明的一种有机电致发光器件，包括基板（图中未示出），以及依次 形成在所述基板上的第一电极层I、若干个发光单元层和第二电极层，所述的每个发光单元 层包括在第一电极层1上设置的第一有机功能层、发光材料层和第二有机功能层，所述发 光材料层包括蓝光发光层4、绿光发光层5和红光发光层6,所述蓝光发光层4覆盖所述第 一有机功能层所述绿光发光层5叠置在所述蓝光发光层4上且覆盖部分蓝光发光层4,所述 红光发光层6与所述绿光发光层5之间设置有阻隔层7,本实施例中所述的阻隔层7为电 子阻隔层，所述红光发光层6的投影覆盖部分所述绿光发光层5。所述红光发光层6和阻隔 层7在所述基板上的投影完全重叠。
[0042] 蓝光发光层4的厚度为10-50nm，优选40nm;所述绿光发光层5的厚度为l〇-55nm， 优选40nm;所述阻隔层的厚度为0-20nm，优选IOnm;所述红光发光层6的厚度为10-55nm 优选35nm; 〇
[0043] 与所述红光发光层6叠置区域的绿光发光层5和蓝光发光层4以及阻隔层共同构 成红光光学补偿层19,即图3中红光发光层6下方的虚线框内的蓝光发光层4和绿光发光 层5以及阻隔层7 ;与所述绿光发光层5叠置区域且不属于红光光学补偿层19的蓝光发光 层4构成绿光光学补偿层18,即图3中中间的绿光发光层5下方的虚线框内蓝光发光层4。
[0044] 本实施例中所述蓝光发光层4为焚光材料发光层，所述绿光发光层5和红光发光 层6分别为磷光发光层或荧光发光层。
[0045] 所述第