一种柔性oled器件结构及其制备方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明属于OLED技术领域，涉及一种OLED器件结构及其制备方法，特别是涉及一种柔性OLED的器件结构及其制备方法。
【背景技术】
[0002]柔性屏幕，称为0LED。相较于传统屏幕，柔性屏幕优势明显，不仅在体积上更加轻薄，功耗上也低于原有器件，有助于提升设备的续航能力，同时基于其可弯曲、柔韧性佳的特性，其耐用程度也大大高于以往屏幕，降低设备意外损伤的概率。
[0003]柔性OLED显示屏就是利用OLED技术在柔性塑料或者金属薄膜上制作显示器件，其基本结构为“柔性衬底/ ITO阳极/有机功能层，金属阴极”，发光机理与普通玻璃衬底的OLED相似。柔性OLED器件一般是在玻璃或聚合物基板上，由夹在透明阳极、金属阴极和夹在它们之间的两层或更多层有机层构成。
[0004]随着可穿戴设备的发展，柔性显示的需求日趋增多，但是由于基板的透光率限制，出光效率偏低。因此需要对柔性OLED器件结构进行深入的研宄和开发，进一步提高柔性OLED器件结构的性能。
[0005]
【发明内容】
[0006]要解决的技术问题:为了克服上述现有技术的不足，本发明提供了一种柔性OLED的器件结构及制备方法，有效的提高了发光效率。
[0007]技术方案:本发明公开了一种柔性OLED器件结构，器件结构包括:一侧呈锯齿结构的柔性透明基板；基板锯齿一侧设置透明电极；电极上设置有平整层；平整层上设置有机层；有机层之后依次设置第二电极和封装层。
[0008]进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构，所述的透明柔性基板采用矩形锯齿结构。
[0009]进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构，所述的第二电极为不透明状或透明状。
[0010]进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构，所述的封装层为薄膜封装层，并采用有机和无机组隔膜交替叠加的方式。
[0011]一种柔性OLED器件结构的制备方法，包括以下步骤:
步骤I):在柔性透明基板上制备透明电极；
步骤2)在步骤I)的透明电极上制备平整层；
步骤3 ):在步骤2 )的平整层上依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，形成有机层；
步骤4):在步骤3)的有机层上制备第二电极；
步骤5):在步骤4)制备的第二电极上制备封装层，最终获得所需的柔性OLED器件。
[0012]进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构制备方法，所述的步骤I)中的透明电极的制备方式为:采用真空蒸镀或磁共溅射的方式制成；或采用旋涂的方法制备透明纳米银线透明电极；或采用碳纳米管或石墨烯制备而成。
[0013]进一步的，所述的一种柔性透明OLED器件结构制备方法，所述步骤2)中的平整层的制备方法采用旋涂的方法；或采用真空蒸镀的方法制备得到。
[0014]进一步的，所述的一种柔性透明OLED器件结构制备方法，所述步骤3)中有机层的制备方法为采用真空蒸镀的方法制成。
[0015]进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构制备方法，所述步骤3)中第二电极的制备方式为采用真空蒸镀或磁共溅射的方法形成电极，在采用磁共溅射制备时，在点电子注入层上蒸镀缓冲层。
[0016]进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构制备方法，所述步骤5)中封装层的制备方式为采用化学气相沉积或溅射的方法。
[0017]有益效果:本发明的柔性OLED器件结构具有发光效率高的优点，可有效的用于柔性OLED显不屏的制备中，提尚显不屏的发光效率。
【附图说明】
[0018]图1为柔性OLED的器件结构示意图:其中I为柔性透明基板；2为透明电极；3为平整层；4为有机层；5为第二电极；6为封装层。
[0019]
【具体实施方式】
[0020]下面结合附图对本发明进一步说明。
[0021]1.参见图1，柔性OLED的器件结构包括:柔性透明基板1，柔性透明基板一侧所设置的第一透明电极2，透明电极之上由平整层3覆盖，平整层上蒸镀有机层4，有机层4上依次设置第二电极5和封装层6。
[0022]2.柔性OLED器件的制备方法按照以下步骤进行:
步骤I):在透明柔性基底上制备透明电极2。透明电极2采用真空蒸镀或磁共溅射的方式制成；或采用旋涂的方法制备透明纳米银线透明电极；或采用碳纳米管或石墨烯制备而成；
步骤2)在步骤I)的透明电极上制备平整层3。平整层3的制备方法可采用旋涂的方法；或采用真空蒸镀的方法；
步骤3):在步骤2)的透明电极2上采用真空蒸镀的方法依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，形成有机层3 ;
步骤4):在步骤3)的有机层3上制备第二电极4。第二电极4可为透明，也可为不透明。根据需要调整电极的厚度即可。
[0023]步骤5):在步骤4)制备的第二电极(4)上采用化学气相沉积或溅射的方法制备封装层，最终获得所需的柔性OLED的器件。
【主权项】
1.一种柔性OLED器件结构，其特征在于，器件结构包括:一侧呈锯齿结构的柔性透明基板(I);基板锯齿一侧设置透明电极(2);电极上设置有平整层(3);平整层上设置有机层(4)；有机层之后依次设置第二电极(5)和封装层(6)。
2.根据权利要求1所述的一种柔性OLED器件结构，其特征在于:所述的透明柔性基板(I)采用矩形锯齿结构。
3.根据权利要求1所述的一种柔性OLED器件结构，其特征在于:所述的第二电极(5)为不透明状或透明状。
4.根据权利要求1所述的一种柔性OLED器件结构，其特征在于:所述的封装层(6)为薄膜封装层，并采用有机和无机组隔膜交替叠加的方式。
5.一种柔性OLED器件结构的制备方法，其特征在于:包括以下步骤: 步骤I):在柔性透明基板(I)上制备透明电极(2); 步骤2)在步骤I)的透明电极(2)上制备平整层(3); 步骤3):在步骤2)的平整层(3)上依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，形成有机层(4); 步骤4):在步骤3)的有机层(4)上制备第二电极(5); 步骤5):在步骤4)制备的第二电极(5)上制备封装层(6)，最终获得所需的柔性OLED器件。
6.根据权利要求5所述的一种柔性OLED器件结构制备方法，其特征在于:所述的步骤I)中的透明电极(2)的制备方式为:采用真空蒸镀或磁共溅射的方式制成；或采用旋涂的方法制备透明纳米银线透明电极；或采用碳纳米管或石墨烯制备而成。
7.根据权利要求5所述的一种柔性透明OLED器件结构制备方法，其特征在于:所述步骤2)中的平整层(3)的制备方法采用旋涂的方法；或采用真空蒸镀的方法制备得到。
8.根据权利要求5所述的一种柔性透明OLED器件结构制备方法，其特征在于:所述步骤3)中有机层(4)的制备方法为采用真空蒸镀的方法制成。
9.根据权利要求5所述的一种柔性OLED器件结构制备方法，其特征在于:所述步骤3)中第二电极(5)的制备方式为采用真空蒸镀或磁共溅射的方法形成电极，在采用磁共溅射制备时，在点电子注入层上蒸镀缓冲层。
10.根据权利要求5所述的一种柔性OLED器件结构制备方法，其特征在于:所述步骤5)中封装层(6)的制备方式为采用化学气相沉积或溅射的方法。
【专利摘要】本发明属于OLED领域，具体涉及一种柔性OLED器件结构及制备方法；所述器件结构包括一侧呈锯齿结构的柔性透明基板；基板锯齿一侧设置透明电极；电极上设置有平整层；平整层上设置有机层；有机层之后依次设置第二电极和封装层。通过这种结构可以有效提高器件的出光效率。
【IPC分类】H01L51-56, H01L51-52, H01L51-50
【公开号】CN104795508
【申请号】CN201510189173
【发明人】汤洵, 廖良生, 丁磊
【申请人】苏州大学
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2015年4月21日