形管状，并且可将显影溶液供应到基板W的中心。在其它实施方案中，喷嘴463可具有对应于基板W的直径的长度，并且喷嘴463的卸料口可具有狭缝状。此外，显影室460还可包括喷嘴464，喷嘴464供应清洁溶液(例如，去离子水)，以清洁基板W的供应有显影溶液的表面。
[0091]被提供给显影模块402的烘烤单元500可以与上文描述的涂敷模块401的烘烤单元500是大体上相同的。
[0092]如上文描述的，涂敷模块401和显影模块402在涂敷和显影模块400中可设置为彼此分离。此外，当从平面图观看时，涂敷模块401和显影模块402可具有相同的室布置。
[0093]界面模块700可传送基板W。界面模块700可包括框架710、第一缓冲器720、第二缓冲器730和界面机器人740。第一缓冲器720、第二缓冲器730和界面机器人740可定位在框架710中。第二缓冲器730和第一缓冲器720可由预先确定的距离彼此间隔开，并且可以是堆叠的。第一缓冲器720可以高于第二缓冲器730。
[0094]界面机器人740可在第二方向14与第一缓冲器720和第二缓冲器730间隔开。界面机器人740可在第一缓冲器720、第二缓冲器730和曝光设备900之中传送基板W。
[0095]第一缓冲器720可在基板W传送到曝光设备900之前临时保存通过涂敷工艺涂敷的基板W。第二缓冲器730可在基板W传送到显影模块402之前临时保存通过曝光工艺曝光的基板W。第一缓冲器720可包括壳体721和多个支撑件722。支撑件722可布置在壳体721中，并且可沿着第三方向16彼此间隔开。一个基板W可放置在支撑件722的每一个上。壳体721可具有开口，开口可分别面向界面机器人740和预处理机器人，并且因此，界面机器人740和预处理机器人可将基板W运载到支撑件722上，或者可从支撑件722将基板W带出。第二缓冲器730可具有与第一缓冲器720类似的结构。界面模块700可仅设置有缓冲器720和缓冲器730以及机器人720，而没有在晶圆上进行预定工艺的室。
[0096]根据本发明构思的实施方案，冷却单元可被提供给传送板，所以可以提高烘烤工艺的效率。
[0097]根据本发明构思的实施方案，冷却单元可被提供给传送板，所以加热基板的加热单元可以在短时间内被冷却。
[0098]根据本发明构思的实施方案，冷却单元可被提供给传送板，所以加热板或基板可通过使用冷却单元的方法和自然冷却方法两者来冷却。因此，冷却时间可以最小化。
[0099]虽然已经参考示例性实施方案描述了本发明构思，但对本领域技术人员将是明显的是，可作出各种改变和修改，而不偏离本发明构思的精神和范围。因此，应理解的是，以上实施方案不是限制性的，而是说明性的。因此，本发明构思的范围将通过以下权利要求及其等效物的最广泛的允许的解释来确定，并且不应受前述描述限定或限制。
【主权项】
1.一种烘烤单元，包括: 壳体； 加热单元，其位于所述壳体中，所述加热单元包括加热基板的加热板； 传送单元，其位于所述壳体中，所述传送单元传送基板；以及 冷却单元，其冷却所述加热板或加热过的基板， 其中，所述传送单元包括:基板放置在其上的传送板，并且 其中，所述冷却单元被提供给所述传送板。2.如权利要求1所述的烘烤单元，其中，所述冷却单元包括设置在所述传送板内的冷却流体路径。3.如权利要求2所述的烘烤单元，其中，所述壳体包括: 第一侧壁，穿过所述第一侧壁形成入口，基板通过所述入口被传送；以及 第二侧壁，其与所述第一侧壁相对， 其中，相比于所述第一侧壁，所述加热单元定位成更邻近所述第二侧壁。4.如权利要求3所述的烘烤单元，其中，所述加热单元还包括: 覆盖物，其布置在所述加热板上，所述覆盖物提供包括所述加热板的加热空间；以及 致动器，其以上下方向移动所述覆盖物。5.如权利要求4所述的烘烤单元，其中，所述加热单元还包括: 升降销，其沿着上下方向可移动穿过在所述加热板中形成的销孔，所述升降销将基板传送到所述传送单元。6.如权利要求5所述的烘烤单元，其中，所述传送单元还包括:驱动构件，所述驱动构件将所述传送板传送到第一位置和第二位置， 其中所述第一位置邻近所述第一侧壁，并且 其中所述第二位置接近所述第二侧壁并且处在所述加热板之上。7.如权利要求6所述的烘烤单元，其中，所述升降销插入其中的导向孔形成在所述传送板中，以在所述传送板从所述第一位置移动到所述第二位置时防止所述传送板干扰或碰撞所述升降销，并且 其中所述导向孔从所述传送板的外侧表面延伸到所述传送板的内侧。8.如权利要求1所述的烘烤单元，还包括: 控制器，其控制所述传送单元和所述冷却单元， 其中，当降低所述加热板的温度时，所述控制器控制所述传送单元和所述冷却单元，使得所述传送板与所述加热板接触或定位成邻近所述加热板并且然后通过所述冷却单元冷却所述加热板。9.如权利要求1所述的烘烤单元，还包括: 控制器，其控制所述传送单元和所述冷却单元， 其中，当冷却所述加热板上经加热的基板时，所述控制器控制所述传送单元和所述冷却单元，使得在所述加热板上完全处理的基板定位在所述传送板上并且然后使用所述冷却单元冷却所述基板。10.一种基板处理设备，包括: 烘烤单元，其在基板上进行烘烤工艺； 溶液处理室，其将溶液供应到基板上以执行工艺；以及 传送室，其将基板在所述烘烤单元和所述溶液处理室之间传送， 其中所述烘烤单元包括: 壳体； 加热单元，其位于所述壳体中，所述加热单元包括加热基板的加热板； 传送单元，其位于所述壳体中，所述传送单元传送基板；以及 冷却单元，其冷却所述加热板或已加热的基板， 其中所述传送单元包括:基板放置在其上的传送板，并且 其中所述冷却单元被提供给所述传送板。11.如权利要求10所述的基板处理设备，其中，所述冷却单元包括:设置在所述传送板内的冷却流体路径。12.如权利要求11所述的基板处理设备，其中，所述壳体包括: 第一侧壁，穿过所述第一侧壁形成入口，基板通过所述入口被传送；以及 第二侧壁，其与所述第一侧壁相对， 其中，相比于所述第一侧壁，所述加热单元布置成更邻近所述第二侧壁。13.如权利要求12所述的基板处理设备，其中，所述加热单元还包括: 覆盖物，其布置在所述加热板上，所述覆盖物提供包括所述加热板的加热空间；以及 致动器，其以上下方向移动所述覆盖物。14.如权利要求13所述的基板处理设备，其中，所述加热单元还包括: 升降销，其沿着上下方向可移动穿过形成在所述加热板中的销孔，所述升降销将基板传送到所述传送单元。15.如权利要求14所述的基板处理设备，其中，所述传送单元还包括:驱动构件，所述驱动构件将所述传送板传送到第一位置和第二位置， 其中所述第一位置邻近所述第一侧壁，并且 其中所述第二位置接近所述第二侧壁并且处在所述加热板之上。16.如权利要求15所述的基板处理设备，其中，所述升降销插入其中的导向孔形成在所述传送板中，以在所述传送板从所述第一位置移动到所述第二位置时防止所述传送板干扰或碰撞所述升降销，并且 其中所述导向孔从所述传送板的外侧表面延伸到所述传送板的内侧。17.如权利要求10所述的基板处理设备，还包括: 控制器，其控制所述传送单元和所述冷却单元， 其中，当降低所述加热板的温度时，所述控制器控制所述传送单元和所述冷却单元，使得所述传送板与所述加热板接触或定位于邻近所述加热板并且然后通过所述冷却单元冷却所述加热板。18.如权利要求10所述的基板处理设备，还包括: 控制器，其控制所述传送单元和所述冷却单元， 其中，当冷却所述加热板上经加热的基板时，所述控制器控制所述传送单元和所述冷却单元，使得在所述加热板上完全处理的基板定位于所述传送板上并且然后使用所述冷却单元冷却所述基板。19.一种处理基板的方法，所述方法包括: 通过加热板将包括在第一组中的第一基板加热到第一温度； 使用被提供给传送板的冷却单元冷却所述加热板，所述传送板将基板传送到所述加热板；以及 通过所述加热板将包括在第二组中的第二基板加热到低于所述第一温度的第二温度。20.如权利要求19所述的方法，其中，冷却所述加热板包括:当将所述加热板的温度降低至所述第二温度时，在所述传送板与所述加热板接触或定位于邻近所述加热板之后，使用所述冷却单元冷却所述加热板。21.如权利要求19所述的方法，其中，冷却所述加热板包括:在基板从所述传送板被移除的状态下，在所述传送板与所述加热板接触或定位于邻近所述加热板之后，使用所述冷却单元冷却所述加热板。22.如权利要求20所述的方法，其中，冷却所述加热板包括:在通过所述冷却单元冷却所述加热板的同时，使用供应到所述加热板的底表面的冷却气体冷却所述加热板。23.如权利要求20所述的方法，还包括: 在所述加热板上将所述第一基板加热到所述第一温度之后，在将完全处理的所述第一基板定位在所述传送板上之后，使用所述冷却单元冷却所述第一基板， 其中冷却所述第一基板在冷却所述加热板之前进行。24.如权利要求19至23中任一项所述的方法，还包括: 在所述加热板上将所述第二基板加热到所述第二温度之后，在将完全处理的所述第二基板定位在所述传送板上之后，使用所述冷却单元冷却所述第二基板。25.如权利要求19所述的方法，其中，所述冷却单元包括:设置在所述传送板内的冷却流体路径。
【专利摘要】本发明构思涉及烘烤单元、包括该单元的基板处理设备以及基板处理方法。烘烤单元包括：壳体；加热单元，加热单元位于壳体中并且包括加热基板的加热板；传送单元，其位于壳体中并且传送基板；以及冷却单元，其冷却加热板或已加热的基板。传送单元包括基板放置在其上的传送板，并且冷却单元被提供给传送板。
【IPC分类】H01L21/02, H01L21/67
【公开号】CN105321853
【申请号】CN201510454490
【发明人】严基象, 徐钟锡
【申请人】细美事有限公司
【公开日】2016年2月10日
【申请日】2015年7月29日
【公告号】US20160035601