一种电弧炉用石墨导电瓦的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种电弧炉用石墨导电瓦，包括瓦片本体，所述瓦片本体为长方体，在瓦片本体的下表面沿着长度方向开设有弧形通槽，瓦片本体的上表面上开设有水冷导水槽，水冷导水槽的深度为瓦片本体高度的0.05~0.15倍；沿着瓦片本体宽度方向在瓦片本体的上表面的两侧设有凸台，凸台与瓦片本体一体成型，凸台的长度与瓦片本体的宽度相等，凸台的上表面与瓦片本体的上表面在同一平面上，凸台上设有固定安装孔。该结构具有高效节能、寿命长、费用低等优点。
【专利说明】
一种电弧炉用石墨导电瓦
技术领域
[0001]本实用新型属于生产电熔氧化锆或电熔氧化铝技术领域，具体涉及一种电弧炉用石墨导电瓦。
【背景技术】
[0002]电熔氧化锆或电熔氧化铝高温材料熔炼过程要求电弧炉提供2800°C以上的高温条件，周围环境温度高，长期的高温工作环境对电弧炉的导电瓦有较高的要求。通常是采用络青铜材质的节能铜瓦或不锈钢带，络青铜材质的节能铜瓦内部使用循环水冷却，大功率电弧炉运行电流大，易受到高温环境和自身发热的烧损破坏而漏水，修补难度大、费用高；不锈钢导电带因材质导电效果差、受热易变形刺火浪费电能且寿命短而无法推广使用。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是克服现有技术的不足而提供一种电弧炉用石墨导电瓦，该结构具有高效节能、寿命长、费用低等优点。
[0004]为了达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案:
[0005]本实用新型提供了一种电弧炉用石墨导电瓦，包括瓦片本体，所述瓦片本体为长方体，在瓦片本体的下表面沿着长度方向开设有弧形通槽，瓦片本体的上表面上开设有水冷导水槽，水冷导水槽的深度为瓦片本体高度的0.05?0.15倍;沿着瓦片本体宽度方向在瓦片本体的上表面的两侧设有凸台，凸台与瓦片本体一体成型，凸台的长度与瓦片本体的宽度相等，凸台的上表面与瓦片本体的上表面在同一平面上，凸台上设有固定安装孔。
[0006]所述凸台的截面形状为正方形，固定安装孔为纵向的螺纹通孔。
[0007]所述水冷导水槽的长度为100~150mm，宽度为10~15mm，厚度为8?15mm。
[0008]所述弧形通槽的直径为200?600mm。
[0009]与现有技术相比，本实用新型取得的有益效果:
[0010]为了解决铬青铜材质的节能铜瓦易受到高温环境和自身发热烧损破坏而漏水，修补难度大、费用高;或不锈钢带因材质导电效果差、受热易变形刺火浪费电能且寿命短的缺点，利用纯石墨本身优异的导电性能和耐高温性能，采用高密度、细结构优质石墨制造加工;结构中设计的水冷导水槽保证导电横臂冷却水路畅通、冷却效果好;而且相比传统的铬青铜材质的节能铜瓦或不锈钢导电带，具有高效节能、寿命长、费用低的特点。
【附图说明】
[0011]图1是本实用新型主视结构不意图；
[0012]图2是本实用新型俯视结构不意图；
[0013]图3是本实用新型右视结构不意图。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图对本实用新型进一步说明。
[0015]参照图1?3所示，一种电弧炉用石墨导电瓦，包括瓦片本体I，所述瓦片本体I为长方体，在瓦片本体I的下表面沿着长度方向开设有弧形通槽2，瓦片本体I的上表面上开设有水冷导水槽3，水冷导水槽3的深度为瓦片本体I高度的0.05?0.15倍;沿着瓦片本体I宽度方向在瓦片本体的上表面的两侧设有凸台4，凸台4的截面形状为正方形，凸台4与瓦片本体I一体成型，凸台4的长度与瓦片本体I的宽度相等，凸台4的上表面与瓦片本体I的上表面在同一平面上，凸台4上设有纵向的螺纹通孔5;所述水冷导水槽的长度为100?150mm，宽度为10~15mm，厚度为8?15mm;所述弧形通槽的直径为200?600mm。
【主权项】
1.一种电弧炉用石墨导电瓦，包括瓦片本体，其特征在于:所述瓦片本体为长方体，在瓦片本体的下表面沿着长度方向开设有弧形通槽，瓦片本体的上表面上开设有水冷导水槽，水冷导水槽的深度为瓦片本体高度的0.05-0.15倍;沿着瓦片本体宽度方向在瓦片本体的上表面的两侧设有凸台，凸台与瓦片本体一体成型，凸台的长度与瓦片本体的宽度相等，凸台的上表面与瓦片本体的上表面在同一平面上，凸台上设有固定安装孔。2.根据权利要求1所述的电弧炉用石墨导电瓦，其特征在于:所述凸台的截面形状为正方形，固定安装孔为纵向的螺纹通孔。3.根据权利要求1所述的电弧炉用石墨导电瓦，其特征在于:所述水冷导水槽的长度为100?150mm，宽度为10~15mm，厚度为8?15mm。4.根据权利要求1所述的电弧炉用石墨导电瓦，其特征在于:所述弧形通槽的直径为200?600mmo
【文档编号】H05B7/11GK205566696SQ201620118902
【公开日】2016年9月7日
【申请日】2016年2月14日
【发明人】冯立明, 张清河, 甘学贤
【申请人】焦作市维纳科技有限公司