专利名称：一种金属屏蔽罩中框架和盖的配合连接机构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及电子产品使用的防辐射、抗干扰金属屏蔽罩，特别是一种金属屏 蔽罩中框架和盖的配合连接机构。
背景技术：
电子产品上使用的屏蔽罩是一个合金金属罩，是减少电子产品辐射至关重要的部 件。屏蔽罩广泛应用在手机、GPS、数字电视等数码电子产品上。其中，框架(FRAME)与盖 (COVER)配套的类型在屏蔽罩中是比较常见的一种类型。以前甚至是现在，多数厂家在金属屏蔽罩的框架与盖的配合形式上都采用凸点与 孔的配合，即框架的折弯边上为圆孔，对应盖上采用凸点。另一种方式即框架为凸点而对应 该上为孔，因模具上成型缺陷较多，故很少运用。凸点与孔的配合方式，实际生产中容易产生松动、响声。严重影响电子产品的质 量。另外圆孔在冲压生产中因为孔径较小，故缺陷很多冲子易折断，易跳屑。另外，从产品的加工经验来讲，折弯边上如果有直径0. 8的圆孔，如果孔心距离底 边小于0. 8的话，折弯后小孔变形就较明显，直接的后果影响凸点与孔的配合效果不好。由 于金属屏蔽罩本身的体积和厚度都很小，因此，折弯边上小孔变形问题几乎无法避免。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种金属屏蔽罩中框架和盖的配合连接机构，主要解 决现有金属屏蔽罩的框架和盖的凸点与孔的配合方式，实际生产中容易产生松动、响声，以 及折边上加工的圆孔容易变形的技术问题，它提升了产品的质量。为实现上述目的，本实用新型是这样实现的。一种金属屏蔽罩中框架和盖的配合连接机构，其特征在于所述的金属框架折边 一面上具有凸点，金属框架折边对应于凸点位置的另一面为凹坑；所述的金属盖上具有对 应于金属框架上凹坑的凸点。所述的金属屏蔽罩中框架和盖的配合连接机构，其特征在于所述的金属框架上 凸点和凹坑的弧度大于金属盖上凸点和凹坑的弧度。藉由上述技术方案，本实用新型与现有技术相比的优点在于。1、本实用新型金属屏蔽罩的框架和盖采用凸点与凸点配合，较之前的凸点与孔配 合上，实践证明配合效果较大程度上得到了改善，之前的易松动、易产生响声都得到了较大 程度的改善。2、本实用新型金属屏蔽罩的框架和盖采用凸点与凸点配合，克服了之前折弯边成 型过后小孔往往产生变形的问题。3、本实用新型金属屏蔽罩的框架和盖采用凸点与凸点配合，一方面凸点较小孔强 度好，不易变形；另一方面框架上的凸点在配合部位不存在毛刺，且在配合接触部位相对缓 和，所以改善配合效果的同时也使拆装更加容易。
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
请参阅图1，本实用新型公开了一种金属屏蔽罩中框架和盖的配合连接机构的结 构示意图。如图所示所述的金属框架1折边一面上具有凸点11，金属框架1折边对应于 凸点11位置的另一面为凹坑；所述的金属盖2上具有对应于金属框架上凹坑的凸点21。所述的金属框架1上凸点11和凹坑的弧度大于金属盖2上凸点21和凹坑的弧度。加工本实用新型的模具中，加工金属框架与金属盖上的凸点也有细微的区别，主 要是在凸点针顶端R圆弧上的区别。如金属框架上的凸点针采用R0. 1cm，金属盖上的凸 点针采用0. 05cm。这主要考虑到配合时框架上的凸点凹孔要略大于盖上的凸点，便于保证 配合时无干涉变形。综上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用来限定本实用新型的实施范 围。即凡依本实用新型申请专利范围的内容所作的等效变化与修饰，都应为本实用新型的 技术范畴。
权利要求1.一种金属屏蔽罩中框架和盖的配合连接机构，其特征在于所述的金属框架(1)折 边一面上具有凸点(11)，金属框架(1)折边对应于凸点(11)位置的另一面为凹坑；所述的 金属盖(2)上具有对应于金属框架上凹坑的凸点(21)。
2.根据权利要求1所述的金属屏蔽罩中框架和盖的配合连接机构，其特征在于所述 的金属框架(1)上凸点(11)和凹坑的弧度大于金属盖(2)上凸点(21)和凹坑的弧度。
专利摘要本实用新型涉及电子产品使用的防辐射、抗干扰金属屏蔽罩，特别是一种金属屏蔽罩中框架和盖的配合连接机构。所述的金属框架折边一面上具有凸点，金属框架折边对应于凸点位置的另一面为凹坑；所述的金属盖上具有对应于金属框架上凹坑的凸点。本实用新型主要解决现有金属屏蔽罩的框架和盖的凸点与孔的配合方式，实际生产中容易产生松动、响声，以及折边上加工的圆孔容易变形的技术问题，它提升了产品的质量。
文档编号H05K9/00GK201789713SQ20102027673
公开日2011年4月6日 申请日期2010年7月30日 优先权日2010年7月30日
发明者朱新爱, 沈建强 申请人:上海徕木电子股份有限公司