专利名称：连续扩散处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及连续扩散处理装置。
背景技术：
例如在利用晶体硅的太阳能电池单元的制造中，进行使杂质(impurity)扩散到硅制的被处理件(晶片)表面上的扩散处理。作为进行所述扩散处理的扩散处理装置，例如有具备对被处理件进行加热的加热炉的、所谓的批处理式装置。加热炉具有能够容纳放置多个被处理件的盘的尺寸。在所述加热炉中放入被处理件后，把含有杂质的气体提供到该加热炉内，使加热炉内升温，并使杂质向被处理件的内部扩散。此后，使加热炉内降温后，把被处理件从加热炉中取出。在使用所述批处理式加热炉的情况下，可以提高处理质量，但是实际上在加热炉内进行扩散处理的时间的前后，需要被处理件的升降温所需要的时间以及到升温后的被处理件的温度稳定的等待时间等，实质上是在一个处理炉中进行炉内温度不同的多个处理。 因此不能对被处理件进行连续处理，难以提高生产效率。此外，由于每批都要重复进行升降温，所以能量损耗也大。与此相对，如专利文献1所公开的连续扩散处理装置，它包括筒形的加热炉；输送器，排列被处理件并在加热炉内输送被处理件；加热装置，对通过加热炉内的被处理件进行加热；以及供气装置，向加热炉内提供含有杂质的气体。所述输送器具有陶瓷制的环形链条，该环形链条的去路通过加热炉内。利用该环形链条转动，放置有被处理件的输送台通过加热炉内，对所述被处理件连续地进行扩散处理。专利文献1 日本专利公开公报特开平9498163号。按照专利文献1所述的装置，可以对被处理件连续地进行处理，与批处理式相比
可以提高生产效率。但是，由于要在加热炉内设置输送器，除了所述链条的设置空间以外，还需要引导该链条的轨道，因与被处理件尺寸无关的因素使加热炉变大，并使装置作为整体大型化。因此增加了加热所需要消耗的能量。此外，由于所述输送器具备的所述链条在炉内运行，存在会成为污染源的问题，由此也存在被处理件的处理质量降低的问题。因此，在所述以往的装置中，存在能量损耗大、并且不能兼顾处理质量和生产效率的问题。
发明内容
因此，本发明的目的在于提供一种连续扩散处理装置，该连续扩散处理装置可以降低能量损耗，并且可以兼顾提高生产效率和提高处理质量。
本发明提供一种连续扩散处理装置，对板状的被处理件进行扩散处理，所述连续扩散处理装置包括输送台，装载并输送多个所述被处理件；筒形的加热炉，从送入所述输送台的送入口到送出所述输送台的送出口呈直线状延伸，并且在内部进行扩散处理；移动装置，通过把所述输送台一个一个地从所述送入口推入所述加热炉内来输送所述输送台， 利用送入的所述输送台把以前送入到所述加热炉内的输送台推向所述送出口一侧，使多个所述输送台呈列状地在所述加热炉内移动；以及多个第一隔壁构件，设在所述加热炉内， 并且形成有所述输送台能通过的开口，将从所述送入口到所述送出口之间划分为多个处理区，该多个处理区的尺寸被设定成与所述输送台的沿移动方向的长度尺寸大体相同，所述移动装置通过把所述输送台一个一个地推入所述加热炉内，使呈列状排列的各输送台以所述处理区为单位间歇移动，所述输送台在输送方向上的至少一端一侧具备第二隔壁构件， 该第二隔壁构件在所述输送台在所述处理区静止时封闭所述多个第一隔壁构件的所述开口，并把相邻的处理区之间隔开。按照本发明，由于通过利用第一隔壁构件来划分加热炉内来设定不同的处理条件的处理区，以该处理区为单位，使装载在呈列状排列的各输送台上的被处理件间歇移动，所以可以同时且连续地在各处理区中进行处理，从而可以提高生产效率。此外，由于输送台至少在输送方向的一端一侧具备第二隔壁构件，该第二隔壁构件在输送台在任一个处理区静止时，封闭第一隔壁构件的开口，把相邻的处理区之间隔开， 所以即使在每个处理区进行不同处理条件的处理，也可以恰当地把各处理区隔开。其结果， 可以保持各处理区的炉内气氛，可以获得高质量的被处理件。此外，在本发明中，由于通过把输送台一个一个地从送入口推入加热炉内来输送输送台，并使加热炉内的输送台移动，所以不需要如所述以往例子那样使输送器这样的机械上的要素部件在炉内运行，可以抑制装置的大型化，并可以抑制加热所需要的能量消耗， 同时可以抑制产生成为质量降低的原因的污染。如上所述，按照本发明，可以通过抑制装置的大型化，降低能量损耗，并且可以兼顾提高生产效率和提高处理质量。此外，优选的是所述第二隔壁构件设在所述输送台的两端，在该情况下，可以更恰当地把各处理区隔开，从而可以保持各处理区的炉内气氛。此外，在所述的情况下，优选的是在所述输送台上设置有间隔件，该间隔件设置在该输送台自身的第二隔壁构件和与该输送台相邻的另一个输送台的第二隔壁构件之间， 用于设置规定间隙，所述连续扩散处理装置还包括排气部件，该排气部件设置在相邻的处理区之间，对所述规定间隙内进行排气。在该情况下，在相邻的处理区之间除了设置第一隔壁构件和第二隔壁构件以外， 可以设置规定间隙。此外，通过利用排气部件对规定间隙内排气，可以抑制处理区的炉内气氛对相邻的其它处理区造成影响。此外，优选的是在所述连续扩散处理装置中，还包括供给部件，该供给部件设置在相邻的处理区之间，向所述规定间隙提供吹扫用气体(purge gas)。在该情况下，可以更有效地抑制处理区的炉内气氛对相邻的其它处理区造成影响。按照本发明的连续扩散处理装置，可以降低能量损耗，并且可以兼顾提高生产效率和提高处理质量。
图1是本发明一个实施方式的连续扩散处理装置的整体图。图2是加热炉的剖视图。图3是表示加热炉底部的局部剖视图。图4是第一隔壁构件和盖的立体图。图5是把第一处理区和第二处理区的边界部分放大后的局部剖视图。图6是沿图5中的VI-VI线箭头方向看的剖视图。图7是把本发明其它实施方式的连续扩散处理装置的第一处理区和第二处理区的边界部分放大后的局部剖视图。附图标记说明1 加热炉；2 输送装置(移动装置)；7 第一隔壁构件；7c 开口 ；11 送入部；12 送出部；4 供给管(供给部件)；45f 排气口(排气部件)；50 输送台；54 第二隔壁构件；55 间隔件(spacer) ；Al 第一处理区；A2 第二处理区；A3 第三处理区；W 被处理件。
具体实施例方式下面参照附图对本发明的实施方式进行说明。图1是本发明一个实施方式的连续扩散处理装置的整体图。所述连续扩散处理装置用于对被处理件进行扩散处理。例如，所述连续扩散处理装置用于在利用晶体硅的太阳能电池单元的制造中，使由规定的元素构成的杂质附着在硅制的晶片(被处理件)表面，并使所述杂质向所述晶片的内部扩散。连续扩散处理装置包括输送台50，放置多个板状的被处理件W ；筒形的加热炉1 ； 输送装置2，输送多个输送台50 ；以及控制装置(图中没有表示)，控制输送装置2等各部分。加热炉1的长边方向(在图1中为左右方向)与输送台50被输送的方向一致，把该方向称为前后方向。此外，也把与输送台50被输送的方向垂直的水平方向称为左右方向。输送台50包括主体部51，以使多个板状的被处理件W等间隔垂直立起的状态装载所述多个板状的被处理件W ；车轮部52，安装在主体部51上，能在加热炉1的底面上滚动；以及板状的第二隔壁构件M，设在输送台50的前后方向两端。主体部51以使被处理件W与前后方向垂直的姿态装载被处理件W。主体部51是由多个圆柱形棒构件组装成的长方体形的框体。此外，构成输送台50的主体部51、车轮部 52和第二隔壁构件M以及其它的部件都是用石英玻璃或陶瓷制成的。图2是加热炉1的剖视图。也参照图1，加热炉1在前后方向上长，从送入输送台 50的送入口 11到送出输送台50的送出口 12之间呈直线状延伸。加热炉1包括圆筒形的炉心管5，由石英玻璃或陶瓷构成；以及加热装置3，具有对炉心管5的内部进行加热的加热器30。加热炉1设置在连续扩散处理装置具有的台6 (参照图1)上。炉心管5的一端为送入口 11，另一端为送出口 12，多个输送台50被送入炉心管5 的内部。此外，炉心管5从送入口 11到送出口 12形成为一个整体，可以防止炉内的气体泄漏。在炉心管5的两端设置有闸门5a，闸门fe用于分别打开或关闭送入口 11和送出口 12，可以沿上下方向滑动。在炉内对被处理件W进行处理期间，闸门fe关闭并密封送入口 11、 送出口 12，另一方面，在向炉内送入输送台50或从炉内送出输送台50时闸门如打开送入口 11、送出口 12。此外，代替闸门5a，也可以利用由吹扫用气体形成的气幕来隔断加热炉1 的内外。加热装置3包括多个加热器30，设置在加热炉1的外周，并沿前后方向排列；筒形的绝热件31，与各加热器30—起从外周一侧覆盖加热炉1。加热装置3对炉心管5内进行加热，把装载在通过加热炉1内的输送台50上的被处理件加热。在后面要进行说明，加热炉1内划分为三个处理区(第一处理区Al 第三处理区 A3)，在三个处理区内的第一处理区Al和第二处理区A2的外周一侧，分别设置有加热器30。 加热器30例如是筒形的加热器。绝热件31被设置在设有加热器30的第一处理区Al、第二处理区A2的外周一侧。在图2中，在加热炉1 (的炉心管5)内，在前后方向上排列设置有多个第一隔壁构件7。第一隔壁构件7从送入口 11到送出口 12之间，把加热炉1内在前后方向上划分成如上所述的多个处理区。各处理区在前后方向上的长度尺寸被设定成与输送台50的沿前后方向(移动方向)的长度尺寸大体相同。在本实施方式中，利用两个第一隔壁构件7把加热炉1内划分成三个处理区Al、 A2、A3。因此，在加热炉1内分别与各处理区Al A3对应以列状配置输送台50。第一处理区Al用于进行使被处理件W升温到规定的预热温度的预热处理。在第一处理区Al中，向炉内提供氮气，用于防止氧化，利用加热器30把炉内温度保持在固定的所述预热温度(例如约800°C )。第二处理区A2用于对被处理件W进行扩散处理。在第二处理区A2中，利用设在其外周一侧的加热器30，使炉内温度例如保持在850 900°C。在第二处理区A2中，向炉内提供用于进行扩散处理的处理气体(例如POCl3),通过使杂质(P)向被处理件W表面扩散，进行扩散处理。第三处理区A3用于使完成了扩散处理的被处理件W降温到规定温度的降温处理。 在第三处理区A3中，向炉内提供氮气。在第三处理区A3的外周不设置加热器，利用炉冷使完成了处理的被处理件W降温。此外，在需要使被处理件W比炉冷更缓慢的降温的情况下， 也可以在第三处理区A3的外周一侧配置加热器，用于使炉内温度保持在一定的低温。在各处理区Al A3中进行的各处理(预热处理、扩散处理和降温处理)以对被处理件W进行的处理工序的顺序沿输送方向布置。连续扩散处理装置还包括给排气装置4，该给排气装置4向加热炉1内提供所述的处理气体及氮气，并且排出所述加热炉1内的气体。给排气装置4包括供气装置41，向加热炉1内提供气体；以及排气装置42，把加热炉1内的气体排出到该加热炉1的外部。在图2中，供气装置41包括流量调节器43，对从图中没有表示的气体源提供的规定的气体的流量进行调节；以及多个供给管44，与所述流量调节器43连接，向加热炉1 内延伸。在本实施方式中，流量调节器43分别设置在送入口 11 一侧和送出口 12—侧。供给管44配置成从流量调节器43向加热炉1内的内周上侧延伸并且在加热炉1内的内周上侧沿前后方向延伸。
在各供给管44上设置有多个喷出口(孔)，该多个喷出口用于喷出从气体源提供的气体。各供给管44分别与各处理区Al A3对应配置，并在各自对应的处理区范围的位置形成有喷出口。从气体源向各供给管44提供分别与各处理区Al A3对应设定的气体。 因此，供气装置41可以向在前后方向上存在的多个处理区中的每一个提供不同的气体。此外，流量调节器43可以按照各处理区的每一个调节向各处理区Al A3提供的气体的流量。因此，如上所述，可以把氮气调节到规定的流量后提供给第一处理区Al、第三处理区A3，并且可以把用于进行扩散处理的处理气体调节到规定的流量后提供给第二处理区 A2。排气装置42包括流量调节器47，与用于排出炉内气体的图中没有表示的排出器 (泵)连接，用于调节排出流量；以及排出管48，与流量调节器47连接，并向加热炉1内延伸。在本实施方式中，流量调节器47分别设在送入口 11 一侧和送出口 12—侧。排出管48 设置成从流量调节器47向加热炉1的内周底部延伸并且在加热炉1的内周底部沿前后方向延伸。图3是表示加热炉1的底部的局部剖视图。在各排出管48上分别设置有多个吸引口(孔)48a，该多个吸引口 48a用于吸引炉内气体。各排出管48分别与各处理区Al A3对应配置，在各自对应的处理区范围的位置形成有吸引口。因此可以按照每个处理区单独地把气体排出到炉外。在加热炉1的底部设置有排气结构部45，该排气结构部45用于容纳排气管48。排气结构部45具有前后方向长的左右的侧壁45b以及前后方向长的上壁45a，由容纳多个排出管48的箱体构成。在上壁4 上形成有多个贯通孔45c。排气结构部45的内部按照各处理区被隔开，各处理区的气体通过对应的贯通孔45c和所述吸引口 48a，排出到加热炉1 的外部。此外，排气结构部45除了具有把加热炉内1的气体排出到外部的功能以外，还具有引导输送台50的功能。如图2所示，排气结构部45在加热炉1内沿前后方向呈直线地连续配置。此外， 所述排气结构部45也向加热炉1外(参照图1)的送入口 11的外部和送出口 12的外部延伸。这样，排气结构部45沿输送台50的输送方向呈直线地配置，可以把由输送装置2输送的多个输送台50沿前后方向从送入口 11导向送出口 12。下面对所述引导功能进行具体说明。如图3所示，排气结构部45除了左右的侧壁 45b、上壁4 以外，还具有在前后方向上长的底板45d。在底板45d的左右两侧形成有行走面45e，该行走面4 从侧壁45b向左右两侧延伸并且在前后方向上连续。输送台50的左右的车轮部52在所述行走面4 上滚动，输送台50处于跨越左右的侧壁4 和上壁4 的状态。此外，输送台50具有与侧壁4 滑动接触的导向部件53，利用该导向部件53沿排气结构部45直线地引导输送台50。如上所述，可以把具有排出气体功能的排气结构部45兼做为沿前后方向引导输送台50的导向件使用。返回到图1，输送装置2具有把输送台50 —个一个地从送入口 11顺序送入到加热炉1的炉心管5内，并且使送入的输送台50在加热炉1内移动，再从送出口 12把输送台 50顺序送出的功能。输送装置2包括推动器22，把输送台50 —个一个地从送入口 11推入炉心管5 内；以及驱动装置23，使所述推动器22在前后方向上往复移动。推动器22和驱动装置23 配置在台6上，它们设置在加热炉1的送入口 11的外侧。推动器22通过把配置在送入口 11后方的输送台50推入到输送台50的后端位于送入口 11的边缘部位，一个一个地把输送台50送入炉心管5内。如果推动器22通过推入一个输送台50把输送台50送入炉心管5内，则利用送入后的输送台50把以前送入炉心管5内的输送台50推向送出口 12—侧。通过反复这样做， 可以使多个输送台50排成列状在炉心管5内移动。驱动装置23利用所述控制装置的控制，利用推动器22把输送台50 —个一个地推入加热炉1内。驱动装置23被控制成推入一个输送台50后，隔开规定时间间隔后，推入下一个输送台50。因此，输送台50利用推动器22仅移动自身长度的尺寸，其后在经过所述规定时间之前的期间静止。其中，如上所述，由于加热炉1内各处理区Al A3在前后方向上的长度尺寸被设定成与输送台50的沿前后方向的长度尺寸大体相同，所以被送入后的输送台50由于利用推动器22仅移动自身长度的尺寸，所以移动大体与第一处理区Al的长度相当的距离后停止，在经过所述规定时间之前的期间，在第一处理区Al内静止。在经过规定时间后，通过把下一个输送台50送入炉心管5内，在第一处理区Al中静止的输送台50移动到第二处理区 A2后停止，在经过所述规定时间之前的期间，在第二处理区A2内静止。通过反复这样做，排成列状的各输送台50在各处理区Al A3中分别按照顺序在规定时间的期间静止，然后被从送出口 12送出。这样，输送装置2通过把输送台50 —个一个地推入加热炉1内，使输送台50以各处理区Al A3为单位间歇移动。所述规定时间被设定成与在各处理区Al A3中的处理时间相当。由此，装载在排成列状的各输送台50上的被处理件W，在各处理区Al A3中分别静止规定时间的期间， 各处理区Al A3的各自的处理同时进行。此后，被处理件W利用输送装置2移动到邻接的下一个处理区，在该邻接的处理区中进行下一个处理。所述控制装置包括具有处理装置(CPU)和存储装置的计算机，通过所述处理装置执行存储在存储装置中的计算机程序，对输送装置2 (驱动装置2 、加热装置3 (加热器 30)等各装置进行控制。例如，加热装置3具有检测第一处理区Al、第二处理区A2各自的炉内温度的温度传感器，控制装置根据所述温度传感器的检测结果，控制各加热器30，独立地调节各处理区的炉内温度。此外，控制装置控制输送装置2，使得输送台50在各处理区Al A3中的静止时间与处理时间一致。此外，给排气装置4具有检测各处理区Al A3各自的炉内压力的压力传感器，控制装置根据该压力传感器的检测结果，控制流量调节器43、47，可以调节向炉内提供的气体的流量及从炉内排出的气体的流量的一方或双方。由此，可以对各处理区按照每一个把各处理区调节成适合在各处理区中的处理的炉内气氛。这样，控制装置可以按照每个处理区控制加热炉1中的各处理区Al A3的处理温度、气氛(气体流量)及处理时间等处理条件。图4是第一隔壁构件7和盖(cover) 13的立体图。第一隔壁构件7具有板状的壁部7a以及左右的脚部7b，该脚部7b固定在所述壁部7a的下部并使该壁部7a立起。在壁部7a上形成有容许放置有被处理件W的输送台50通过的开口 7c。此外，在壁部7a上形成有多个贯通孔7d,除了可以穿过供给管44以外，还可以穿过温度传感器的电缆(容纳管)、 压力传感器的电缆(容纳管)以及用于对各处理区的气体取样的管等。由于供气装置41的供给管44配置在加热炉1的上部，排气装置42的排出管48 配置在加热炉1的下部，所以气体在加热炉1内从上部向下部边蔓延边流动。因此，在用于进行扩散处理的第二处理区A2中，设置有盖13，该盖13从上侧和左右两侧覆盖输送台50的通道(图2和图4)。在图4中，盖13设置在前后方向相邻的第一隔壁构件7之间。在盖13的上部和左右两侧部形成有多个贯通孔15，从供给管44喷出的处理气体经过该贯通孔15从排出管 48排出。通过把所述盖13设在第二处理区A2，经过贯通孔15的处理气体被整流，可以防止气流紊乱，可以使放置在输送台50上的被处理件W周围的气体浓度(气氛)均勻。因此， 可以使扩散处理后的多个被处理件W的质量更均勻。下面对加热炉1内相邻的处理区之间的边界部分进行说明。图5是把第一处理区 Al和第二处理区A2的边界部分放大后的局部剖视图，图6是沿图5中的VI-VI线箭头方向看的剖视图。图5表示各输送台50利用输送装置2移动后，在各处理区Al A3中静止的状态。如上所述，在输送台50的前后方向两端设置有板状的第二隔壁构件54。如图6所示，第二隔壁构件M在从前后方向的正面看时的形状为与第一隔壁构件7的开口 7c之间稍留有间隙，并且是沿着所述开口 7c的形状。因此，第二隔壁构件M能够以可以通过开口 7c的方式封闭开口 7c。S卩，在输送台50在各处理区Al A3中静止时，第二隔壁构件M 可以封闭第一隔壁构件7的开口 7c，从而可以把邻接的处理区之间隔开。由此，即使在每个处理区进行不同处理条件的处理，也可以恰当地把各处理区分隔开。其结果，可以保持各处理区的炉内气氛，可以得到高质量的被处理件。输送台50的第二隔壁构件M例如只要设置在输送台50的前后方向(输送方向) 的任一端的一侧，就可以封闭第一隔壁构件7的开口 7c并隔开处理区，但如本实施方式所述，如果在输送台50的前后两端侧设置第二隔壁构件M，则如后面叙述的那样，可以在相邻的第二隔壁构件M之间设置间隙，可以更恰当地把各处理区隔开。在输送台50前方一侧设置的第二隔壁构件讨上，设置有向前方伸出的间隔件55。该间隔件55抵接在排在前方的输送台50的第二隔壁构件M上。因此，在利用推动器22把新的输送台50从送入口 11推入加热炉1内时，加热炉1内的各输送台50成列移动。通过使间隔件55夹在相邻的输送台50各自的第二隔壁构件M之间，在所述两个第二隔壁构件M之间设置规定间隔的间隙56。由此，除了两个第二隔壁构件M介于相邻的处理区之间以外，间隙56也介于相邻的处理区之间，所以可以更恰当地把各处理区隔开。此外，设定输送台50和间隔件55在前后方向上的长度尺寸，使得在加热炉1内的各输送台50静止时，间隙56与第一隔壁构件7的位置大体一致。此外，如图6所示，在排气结构部45的上壁4 上，在与第二隔壁构件M的位置对应的位置上，形成有用于对间隙56内排气的排气口 45f (排气部件)。所述排气口 45f也与用于排出各处理区Al A3中的气体而设置的贯通孔45c相同，通过排出管48，禾Ij用所述排出器吸引间隙56内的气体，并向加热炉1的外部排出。此外，可以利用流量调节器47与各处理区Al A3独立地调节排气的流量。排气口 45f比贯通孔45c大，以比流经贯通孔45c的更大的流量吸引气体。此夕卜， 通过控制装置把排气口 45f中的排气流量控制成比各处理区Al A3的排气流量大。因此， 排气口 45f可以排出比其它贯通孔45c更多的气体。因此，在有可能从相邻的两个处理区流入不同气体的间隙56中，相对于各处理区的压力成为负压，从而可以抑制处理区的炉内气体泄漏到相邻的其它处理区内。其结果，可以抑制处理区中的炉内气氛对相邻的其它处理区造成影响。按照所述结构的连续扩散处理装置，由于以通过用第一隔壁构件7对加热炉1内进行划分而设定为不同的处理条件的处理区为单位，使装在排成列的各输送台50上的被处理件W间歇移动，所以可以在各处理区Al A3中同时并且连续地进行处理，可以提高生
产效率。此外，由于输送台50具有第二隔壁构件54，当输送台50在任一个处理区中静止时，该第二隔壁构件M封闭第一隔壁构件7的开口 7c，从而把相邻的处理区之间隔开，所以即使在每个处理区中进行不同处理条件的处理，也可以恰当地把各处理区隔离开，从而可以得到高质量的被处理件。此外，在本发明中，由于通过把输送台50—个一个地从送入口 11推入加热炉1 内，使送入的加热炉1内的输送台50移动，所以无需如上所述的以往例子那样使输送器这样的机械上的要素部件在炉内运行，可以抑制装置的大型化，并可以抑制加热所需要的能量消耗，同时可以抑制产生成为质量降低的原因的污染。此外，在以往的批处理式扩散处理装置中，在扩散处理前后必须升温和降温，能量损耗大，而按照本实施方式的扩散处理装置，由于可以按照每个处理区将炉内温度保持为一定的温度，所以可以有助于进一步节省能量。如上所述，按照本实施方式的连续扩散处理装置，通过抑制装置的大型化可以降低能量损耗，并且可以兼顾提高生产效率和提高处理质量。图7是把本发明其它实施方式的连续扩散处理装置的、第一处理区Al和第二处理区A2的边界部分放大后的局部剖视图。所述实施方式与本实施方式的不同点是本实施方式在相邻的处理区之间分别设置有两个第一隔壁构件7 ；以及通过供给管向间隙56提供吹扫用气体。在加热炉1内的各输送台50静止时，两个第一隔壁构件7设置在与因相邻而形成间隙56的两个第二隔壁构件M的位置大体一致的位置。即，两个第一隔壁构件7设置在与对应的第二隔壁构件M在前后方向上大体一致的位置上，与第二隔壁构件M —起形成间隙56。此外，如图7所示，在本实施方式中，把配置在炉心管5内周上侧的多个供给管44 中的任一个设为用于向间隙56提供吹扫用气体的供给管44a(供给部件)。从供给管44a以规定的流量提供作为吹扫用气体的氮气。利用排气口 45f将提供的吹扫用气体排到炉外，所述排气口 45f用于对设在炉心管5内周下侧的间隙56内排气。由此，在间隙56内形成气幕，可以更有效地抑制处理区中的炉内气体泄漏到相邻的其它处理区内。本发明的扩散处理装置不限于图中所示的方式，在本发明的范围内也可以是其它方式。对把加热炉1的断面作为圆形的方式进行了说明，但加热炉1的断面除了圆形以外也可以是矩形。此外如图7所示，在加热炉1的断面是圆形的情况下，在矩形的被处理件W 与加热炉1的内周面之间的死空间(dead space)中，可以配置引导车轮部52和输送台50 的排气结构部45，可以有效地利用加热炉1内的空间。
权利要求
1.一种连续扩散处理装置，其特征在于，对板状的被处理件进行扩散处理，所述连续扩散处理装置包括输送台，装载并输送多个所述被处理件；筒形的加热炉，从送入所述输送台的送入口到送出所述输送台的送出口呈直线状延伸，并且在内部进行扩散处理；移动装置，通过把所述输送台一个一个地从所述送入口推入所述加热炉内来输送所述输送台，利用送入的所述输送台把以前送入到所述加热炉内的输送台推向所述送出口一侧，使多个所述输送台呈列状地在所述加热炉内移动；以及多个第一隔壁构件，设在所述加热炉内，并且形成有所述输送台能通过的开口，将从所述送入口到所述送出口之间划分为多个处理区，该多个处理区的尺寸被设定成与所述输送台的沿移动方向的长度尺寸大体相同，所述移动装置通过把所述输送台一个一个地推入所述加热炉内，使呈列状排列的各输送台以所述处理区为单位间歇移动，所述输送台在输送方向上的至少一端一侧具备第二隔壁构件，该第二隔壁构件在所述输送台在所述处理区静止时封闭所述多个第一隔壁构件的所述开口，并把相邻的处理区之间隔开。
2.根据权利要求1所述的连续扩散处理装置，其特征在于，所述第二隔壁构件设在所述输送台的两端。
3.根据权利要求2所述的连续扩散处理装置，其特征在于，在所述输送台上设置有间隔件，该间隔件设置在该输送台自身的第二隔壁构件和与该输送台相邻的另一个输送台的第二隔壁构件之间，用于设置规定间隙，所述连续扩散处理装置还包括排气部件，该排气部件设置在相邻的处理区之间，对所述规定间隙内进行排气。
4.根据权利要求3所述的连续扩散处理装置，其特征在于还包括供给部件，该供给部件设置在相邻的处理区之间，向所述规定间隙提供吹扫用气体。
全文摘要
本发明提供一种连续扩散处理装置，能降低能量损耗，并能兼顾提高生产效率和提高处理质量。本发明的连续扩散处理装置包括输送台(50)，输送板状的被处理件；筒形的加热炉(1)，呈直线状延伸；输送装置(2)，通过把输送台(50)一个一个地推入加热炉(1)内来输送输送台，使以前送入到加热炉(1)内的输送台(50)呈列状地在加热炉(1)内移动；多个第一隔壁构件(7)，将从加热炉(1)内的送入口(11)到送出口(12)之间划分为多个处理区。输送装置(2)使输送台(50)以处理区为单位间歇移动。输送台(50)具备第二隔壁构件(54)，它封闭第一隔壁构件(7)的开口(7c)，并把相邻的处理区之间隔开。
文档编号C30B31/10GK102337594SQ20111002208
公开日2012年2月1日 申请日期2011年1月19日 优先权日2010年7月20日
发明者服部昌, 森川清彦 申请人:光洋热系统株式会社