一种单晶炉两段式均热石墨坩埚的制作方法

文档序号:8077418阅读:266来源:国知局
一种单晶炉两段式均热石墨坩埚的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种单晶炉两段式均热石墨坩埚,包括坩埚主体和坩埚座,坩埚主体放置在坩埚座上,坩埚主体由四块相同的且内壁上设有一层防粘层的坩埚板通过石墨纸封带相互拼接围成,坩埚主体呈锥台形,每个坩埚板的外壁上盘设螺旋状上升的均热石墨凸纹条,坩埚主体的顶部设置有石墨环,石墨环呈圆环状。每个坩埚板的下端设有定位卡脚,定位卡脚呈倒置的圆锥台形,坩埚座与坩埚板下端的定位卡脚相对应的位置上设有定位凹槽,定位凹槽呈圆柱状,定位凹槽的槽深与定位卡脚的高度相一致,定位凹槽的直径与定位卡脚的最大直径相一致。本实用新型很好的解决了传统石墨坩埚各部位温度不均匀的技术缺陷问题,延长了石墨坩埚的使用寿命。
【专利说明】一种单晶炉两段式均热石墨坩埚
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及单晶炉石墨坩埚,具体来说是一种单晶炉两段式均热石墨坩埚。【背景技术】
[0002]现有石墨坩埚均为简单的整体结构设计,其外表面为相对标准的曲面,这样的结构无论是发热还是散热都存在底部温度高于上部的情况,坩埚的受热不均匀进而导致坩埚的开裂、报废;同时石墨坩埚缺乏有效的固定装置,另外在使用过程中坩埚上部极容易溅上硅液,一旦发生这种情况,整个坩埚便不得不报废处理,严重缩短了坩埚的使用寿命,同时也增加了成本。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题就是克服现有技术存在的缺陷,提供一种发热均匀的单晶炉石墨坩埚。
[0004]本实用新型是通过以下技术方案来实现的:
[0005]一种单晶炉两段式均热石墨坩埚,包括坩埚主体和坩埚座,其特征是:所述坩埚主体放置在所述坩埚座上,所述坩埚主体由四块相同的且内壁上设有一层防粘层的坩埚板通过石墨纸封带相互拼接围成,所述坩埚主体呈锥台形,每个所述坩埚板的外壁上盘设螺旋状上升的均热石墨凸纹条。
[0006]作为优化,所述坩埚主体的顶部设置有石墨环,所述石墨环呈圆环状,所述石墨环的下端设有环形的内卡沿,所述坩埚主体的顶部设有与所述内卡沿相适配的外卡沿。
[0007]作为优化,每个所述坩埚板的下端设有定位卡脚,所述定位卡脚呈倒置的圆锥台形,所述坩埚座与所述坩埚·板下端的定位卡脚相对应的位置上设有定位凹槽,所述定位凹槽呈圆柱状,所述定位凹槽的槽深与所述定位卡脚的高度相一致,所述定位凹槽的直径与所述定位卡脚的最大直径相一致。
[0008]本实用新型具有结构简单、成本低廉、使用方便、设计巧妙等优点,很好的解决了传统石墨坩埚各部位温度不均匀的技术缺陷问题,延长了石墨坩埚的使用寿命,同时克服了传统石墨坩埚一旦上部溅上硅液,必须整个坩埚报废的缺陷,能够广泛应用于石墨坩埚的生产制造。
【专利附图】

【附图说明】
[0009]图1是本单晶炉两段式均热石墨坩埚的平面结构示意图;
[0010]图2是本单晶炉两段式均热石墨坩埚的剖面结构示意图;
[0011]图中:1_樹祸主体、2_ ?甘祸座、3_ ?甘祸板、4_石墨纸封带、5_防粘层、6_石墨凸纹条、7-石墨环、8-内卡沿、9-外卡沿。
【具体实施方式】[0012]结合图1与图2,石墨坩埚包括坩埚主体I和坩埚座2,坩埚主体I放置在坩埚座2上,坩埚主体I由四块相同的且内壁上设有一层防粘层5的坩埚板3通过石墨纸封带4相互拼接围成,坩埚主体I呈锥台形,每个坩埚板3的外壁上盘设螺旋状上升的均热石墨凸纹条6 ;坩埚主体的顶部设置有石墨环7,石墨环7呈圆环状,石墨环7的下端设有环形的内卡沿8,坩埚主体I的顶部设有与内卡沿8相适配的外卡沿9,石墨环7通过内卡沿8与外卡沿9可拆卸的连接在坩埚主体I上;每个坩埚板3的下端设有定位卡脚,定位卡脚呈倒置的圆锥台形,坩埚座2与坩埚板3下端的定位卡脚相对应的位置上设有定位凹槽,定位凹槽呈圆柱状,定位凹槽的槽深与定位卡脚的高度相一致,定位凹槽的直径与定位卡脚的最大直径相一致。
[0013]本实用新型包括但不限于上述实施方式,任何符合本权利要求书描述的产品,均落入本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种单晶炉两段式均热石墨坩埚,包括坩埚主体和坩埚座,其特征是:所述坩埚主体放置在所述坩埚座上,所述坩埚主体由四块相同的且内壁上设有一层防粘层的坩埚板通过石墨纸封带相互拼接围成,所述坩埚主体呈锥台形,每个所述坩埚板的外壁上盘设螺旋状上升的均热石墨凸纹条。
2.根据权利要求1所述的单晶炉两段式均热石墨坩埚,其特征是:所述坩埚主体的顶部设置有石墨环,所述石墨环呈圆环状,所述石墨环的下端设有环形的内卡沿,所述坩埚主体的顶部设有与所述内卡沿相适配的外卡沿。
3.根据权利要求1或2所述的单晶炉两段式均热石墨坩埚,其特征是:每个所述坩埚板的下端设有定位卡脚,所述定位卡脚呈倒置的圆锥台形,所述坩埚座与所述坩埚板下端的定位卡脚相对应的位置上设有定位凹槽,所述定位凹槽呈圆柱状,所述定位凹槽的槽深与所述定位卡脚的高度相一致,所述定位凹槽的直径与所述定位卡脚的最大直径相一致。
【文档编号】C30B35/00GK203411662SQ201320310077
【公开日】2014年1月29日 申请日期:2013年5月31日 优先权日:2013年5月31日
【发明者】张贤虎 申请人:西格里特种石墨(上海)有限公司
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1