展现优异的粘着性质的流延膜组件层的制作方法

技术特征：

1.一种多层流延膜，其包含由齐格勒-纳塔催化的乙烯和α-烯烃共聚物制备的流延膜组件层，所述乙烯和α-烯烃共聚物具有：

约0.910g/cc和约0.930 g/cc之间的密度；

低于约3.5 wt%的己烷可提取物；

约20和约35 dg/min之间的熔体指数比(I₂₁/I₂)；

约0.5和约10 dg/min之间的熔体指数(I₂)；

约3.0和约5.0之间的多分散性指数(Mw/Mn)；和

在35^oC的洗脱温度以下至少15%的升温洗脱分级(TREF)级分；

其中所述流延膜组件层在200%预拉伸下具有至少200克力/英寸宽度的粘着力和大于50 J/mm的抗缓慢穿刺性。

2.权利要求1所述的多层流延膜，其中所述共聚物通过在约50^oC至约100^oC范围内的反应温度下，在气相反应器过程中，在钛基齐格勒-纳塔催化剂存在下使乙烯和α-烯烃共聚单体反应来制备。

3.权利要求2所述的多层流延膜，其中所述α-烯烃共聚单体选自1-己烯、1-辛烯和1-丁烯。

4.权利要求2所述的多层流延膜，其中所述钛基齐格勒-纳塔催化剂包含：

a. 镁；

b. 具有式R¹_mSi(OR²)_n的化合物，其中R¹和R²是C₁-C₂₀碳原子，m=0-3，n=1-4，且m+n=4，并且其中各R¹和各R²可相同或不同；

c. 具有式R³_xSiX_y的化合物，其中R³是C₁-C₂₀碳原子，X是卤素，x=0-3，y=1-4，且x+y=4，并且其中各X和各R³可相同或不同；

d. 具有式MX₄和M(OR⁴)X₄的化合物，其中M是钛，其中R⁴是C₁-C₂₀碳原子，X是卤素，并且其中各R⁴可相同或不同；

e. 取代的芳族氮化合物；和

f. 具有式R⁵X的卤代烷或芳族卤化物化合物，其中R⁵是含有3至20个碳原子的烷基或含有6至18个碳原子的芳族基团，并且X选自氯和溴。

5.权利要求1所述的多层流延膜，其中没有粘着添加剂存在于所述流延膜组件层中。

6.权利要求1所述的多层流延膜，其中所述流延膜组件层可不经预混合而用作皮层和芯层两者。

7.权利要求1所述的多层流延膜，其中所述流延膜组件层是所述皮层。

8.权利要求1所述的多层流延膜，其中所述流延膜组件层具有大于450 g/mil的TD撕裂强度。

9.权利要求1所述的多层流延膜，其中通过在50℃至100℃范围内的温度下，乙烯分压为10 psi至350 psi，并且共聚单体与乙烯之比为0.01至0.50，在钛基齐格勒-纳塔催化剂和烷基铝助催化剂存在下使乙烯和α-烯烃共聚单体反应来制备所述共聚物。

10.权利要求9所述的多层流延膜，其中所述α-烯烃共聚单体选自1-己烯、1-辛烯和1-丁烯。

11.权利要求9所述的多层流延膜，其中所述钛基齐格勒-纳塔催化剂包含：

g. 镁；

h. 具有式R¹_mSi(OR²)_n的化合物，其中R¹和R²是C₁-C₂₀碳原子，m=0-3，n=1-4，且m+n=4，并且其中各R¹和各R²可相同或不同；

i. 具有式R³_xSiX_y的化合物，其中R³是C₁-C₂₀碳原子，X为卤素，x=0-3，y=1-4，且x+y=4，并且其中各X和各R³可相同或不同；

j. 具有式MX₄和M(OR⁴)X₄的化合物，其中M是钛，其中R⁴是C₁-C₂₀碳原子，X是卤素，并且其中各R⁴可相同或不同；

k. 取代的芳族氮化合物；和

l. 具有式R⁵X的卤代烷或芳族卤化物化合物，其中R⁵是含有3至20个碳原子的烷基或含有6至18个碳原子的芳族基团，并且X选自氯和溴。

12.一种多层流延膜，其包含由齐格勒-纳塔催化的乙烯和α-烯烃共聚物制备的流延膜组件层，其中所述流延膜组件层在200%预拉伸下具有至少200克力/英寸宽度的粘着力和大于50 J/mm的抗缓慢穿刺性，并且其中没有粘着添加剂存在于所述流延膜组件层中。

13.权利要求12所述的多层流延膜，其中所述流延膜组件层是皮层。

14.权利要求12所述的多层流延膜，其中所述流延膜组件层是芯层。

15.权利要求12所述的多层流延膜，其中所述流延膜组件层不经预混合而用作皮层和芯层两者。

16.权利要求12所述的多层流延膜，其中所述流延膜组件层具有大于450 g/mil的TD撕裂强度。

17.一种单层流延膜，其包含由齐格勒-纳塔催化的乙烯和α-烯烃共聚物制备的膜，其中所述流延膜组件层在200%预拉伸下具有至少200克力/英寸宽度的粘着力和大于50 J/mm的抗缓慢穿刺性，并且其中没有粘着添加剂存在于所述单层流延膜中。

18.权利要求17所述的多层流延膜，其中所述流延膜组件层具有大于450 g/mil的TD撕裂强度。