专利名称：Tft-lcd玻璃基板用清洗垫的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及用于对TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器Thin film Transistor Liquid Crystal Display)用玻璃基板等平板型玻璃制品的表面进行清洗的清洗垫，特别涉及用于清洗平板型玻璃制品表面上附着的颗粒状或液状异物的清洗垫。
背景技术：
一般，在制造TFT-IXD用玻璃基板时，此玻璃基板要经过清洗工序来清洗在制造过程中附着在其表面的异物。在该清洗工序中主要使用清洗垫，该清洗垫通过介于玻璃基板等被清洗制品表面之间的液状的清洗剂并使它们发生相互摩擦接触来对被清洗制品的表面进行清洗。这样的清洗垫通常呈圆盘状，并包括由多个凹槽划分成的多个单元格，所述多个凹槽间隔一定的间隔规则地形成于清洗垫表面。并且，划分所述单元格而形成的凹槽是决定清洗性能的重要因素，清洗性能诸如在被清洗制品的清洗过程中所供给的液状清洗剂的流动以及液状清洗剂中包含的被处理颗粒的排出等。所述凹槽的图案会给被清洗制品的清洗效率带来重大的影响。现有的清洗垫中，所述凹槽以同心圆状或格子状的图案形成于清洗垫表面。但是， 如上所述的现有清洗垫由于各个凹槽之间的宽度大，因而在被清洗制品的清洗操作时将局部产生未被清洗的未清洗区域，使液状的清洗剂的流动和分配不均勻，不能有效地清洗被清洗制品的表面。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种清洗垫，该清洗垫通过在清洗被清洗制品时引导液状的清洗剂使其充分地流经整个清洗垫表面，并使其均勻地供应给被清洗制品的清洗区域，从而能够提供良好的清洗面。本实用新型的另一目的在于提供一种清洗垫，该清洗垫通过避免产生未被清洗的未清洗区域，能够提高清洗操作的效率，且制作简便。本实用新型的又一目的在于提供一种清洗垫，该清洗垫的多个单元格包括具有不同突出高度的2种类型，从而总是能够获得均勻的清洗面。为了达到上述目的，本实用新型的清洗垫在其平板型主体表面具有形状相同的多个单元格，所述多个单元格由多个第1凹槽和第2凹槽划分而成，所述第1凹槽和第2凹槽以一定的深度纵横交错地形成于主体的表面，所述第1凹槽是具有一定的振幅且以一定的间隔连续配置的波状凹槽，第2凹槽是具有一定的振幅且在与所述第1凹槽交叉的方向上相隔一定的间隔连续配置的多个波状凹槽。所述第1凹槽被形成为相邻的各第1凹槽间的间隔小于第1凹槽的振幅，所述第2 凹槽被形成为相邻的各第2凹槽间的间隔小于第2凹槽的振幅。优选地，所述第1凹槽和第2凹槽具有0. 3 2. Omm的宽度，0. 3 1. 5mm的深度，且以2. 0 20. Omm的间隔进行配置。而且，优选地，由第1凹槽和第2凹槽所形成的各单元格具有相对于表面呈45 90° 角的倾斜的侧壁。另外，本实用新型的清洗垫由含有30. 0 65. 0重量％的合成树脂、30. 0 65. 0 重量％的研磨颗粒和1. 0 5. 0重量％的添加剂的组成物模制而成。所述树脂含有聚氨酯或环氧树脂中的至少一种。所述研磨颗粒优选使用颗粒大小为0. 3 5. 0 μ m的AL203、SiC、 ZrO2, CeO2, SiO2, Fe203> Cr2O3> CBN、人造金刚石粉末中的至少一种。本实用新型的清洗垫的制造方法包括制作主模的步骤，在金属模具的表面纵横交错地形成具有一定振幅的多个波状凹槽来制作主模；在所述主模的表面覆盖脱模剂的步骤；复制模成形的步骤，在覆盖了脱模剂的主模上涂布一定厚度的熔融硅或合成树脂并使其固化，形成具有与主模逆向对应的形状的复制模；清洗垫成形的步骤，将熔融的清洗垫组成物涂布于复制模上后使其固化，从而模制清洗垫；清洗垫加工步骤，将模制成的清洗垫从复制模上剥离，并切成一定的大小和形状。优选使用硅和聚乙烯作为所述复制模用合成树脂，而且，使用由铝合金制成的平板作为所述主模。所述清洗垫组成物含有30. 0 65. 0重量％的合成树脂、30. 0 65. 0重量％的研磨颗粒和1. 0 5. 0重量％的添加剂，所述合成树脂含有聚氨酯或环氧树脂中的至少一种， 所述研磨颗粒包括颗粒大小为0. 3 5. 0 μ m的AL203、SiC、ZrO2, CeO2, SiO2, Fe2O3> Cr2O3> CBN、人造金刚石粉末中的至少一种。另外，在主模上形成凹槽时，将凹槽形成为具有不同深度的2种凹槽，且反复交替地形成具有不同深度的2种凹槽，这样，由该主模复制、模制成的清洗垫的各单元格包括具有不同突出高度的2种类型。因此，在清洗被清洗制品时，即使清洗垫发生局部磨损，各单元格整体上也能维持一定的突出高度，从而提供均勻平坦的清洗面。根据本实用新型，通过凹槽的独特图案，多个单元格能够将被清洗制品整体均勻地清洗而不出现未清洗区域，使清洗的质量和精度提高。另外，凹槽形成为波状，通过适当地延迟清洗剂的流动能够使清洗剂均勻且稳定地分配到被清洗制品的表面，从而进一步提高清洗的质量和精度。而且，根据本实用新型的清洗垫的制造方法，能够简便且精密地制作清洗垫，能够使制造工艺简单从而节约制造成本。
图1是本实用新型的清洗垫的立体图。图2是本实用新型的清洗垫的俯视图。图3是本实用新型的清洗垫局部放大表示的俯视图。图4是沿图3的线A-A，的截面图。图5是本实用新型清洗垫另一实施例的局部放大表示的俯视图。图6是沿图5的线A-A，的截面图。图7是本实用新型的清洗垫的制造方法的工序流程图。图8是概略地表示本实用新型的清洗垫的制造工序的图。符号说明
4[0026]10清洗垫[0027]20主体[0028]30第1凹槽[0029]40第2凹槽[0030]50单元格[0031]60主模[0032]70复制模
具体实施方式
下面，参照附图对本实用新型的优选实施例进行说明。如图1和图2所示，本实用新型的清洗垫10包括具有一定厚度的圆盘状主体20。所述主体20由30. 0 65. 0重量％的合成树脂、30. 0 65. 0重量％的研磨颗粒和1. 0 5. 0重量％的添加剂混合而成的组成物模制而成。在这里，合成树脂优选为聚氨酯或环氧树脂中的任意一种。研磨颗粒包括颗粒大小为 0. 3 5. Oym 的 AL203、SiC、&02、Ce02、Si02、Fe203、Cr203、CBN、人造金刚石粉末中的至少一种。另一方面，在作为主体20的成分的研磨颗粒、合成树脂和添加剂脱离上述规定的数值范围的情况下，难以确保晶圆和玻璃基板的清洁性，清洗效率相对降低，如果研磨颗粒的颗粒大小脱离上述规定的数值范围，则在单元格50的强度方面将产生问题。如图1所示，所述主体20的表面包括形成一定图案的多个单元格50。所述单元格 50是由多个第1凹槽30和第2凹槽40划分而成，第1凹槽30和第2凹槽40以一定的深度d纵横交错地形成于主体20表面。如图3所示，所述第1凹槽30由具有一定的周期和振幅H的波状凹槽构成。第1 凹槽30是相隔一定的间隔P反复地形成于主体20的表面的多个波状凹槽，所述第2凹槽 40是具有一定的振幅H且相隔一定的间隔P在与所述第1凹槽30交叉的方向上反复地配置的多个波状凹槽。所述各第1凹槽30之间的间隔P被形成为小于第1凹槽30的波状的振幅H，所述各第2凹槽40之间的间隔P也被形成为小于第2凹槽40的波状的振幅H。利用这样各凹槽形成的图案，能够在被清洗制品的清洗时通过凹槽避免产生未被清洗的部分(未清洗区域)，进行均勻的清洗。另外，在为了进行清洗而旋转清洗垫时，这样的波状凹槽与直线状的凹槽图案相比，能够增加清洗液(液状的清洗剂)在凹槽中的滞留时间，能够稳定地供给或分配液状清洗剂。另一方面，如图3 图6所示，各单元格50的缘部侧壁以相对于主体20的水平方向呈45 90°角度的倾斜方式形成，各单元格50的上表面由平坦的平面构成，以便与被清洗制品进行摩擦接触来进行清洗。图3和图4是表示单元格50的侧壁以大致90°角形成的状态的图，图5和图6是表示单元格50的侧壁以大致45°角形成的状态的图。单元格50的侧壁的倾斜角度用于有效地引导液状清洗剂和被处理颗粒的移送和排出，该角度脱离45 90°的范围时，清洗的效率将相对降低。[0044]而且，单元格50的上表面用于防止被清洗制品产生划痕。优选地，第1和第2凹槽30、40的宽度w为0. 3 2. Omm,深度为0. 3 1. 5mm,各
凹槽间的间隔为2. 0 20. 0mm。这是为了对玻璃基板进行精密地清洗，如果脱离这个数值范围，就会存在清洁性相对降低的缺点。作为本实用新型清洗垫的另一实施例，由所述第1凹槽和第2凹槽划分成的各单元格可以构成为具有不同高度的2种单元格且该2种单元格反复交替地进行配置。在这种情况下，能够克服因整个清洗垫表面上清洗垫与被清洗制品之间的接触力发生偏差而导致的清洗垫磨损量的局部偏差。图7是制造本实用新型的清洗垫的方法的工序流程图，图8是概略地表示本实用新型的清洗垫的制造方法的工序的概要示意图。参照图7和图8，本实用新型的清洗垫的制造方法包括主模制作步骤(Si)，在由金属制成的模具表面上相互交叉地形成多个第1凹槽和第2凹槽来制作主模，所述主模具有与所要制造的清洗垫的图案形状相同的图案；复制模制作步骤(S2)，将熔融的合成树脂以一定的厚度涂布在主模上并使其固化后(S2-1)， 从主模上剥离来制造复制模，所述复制模具有与清洗垫逆对应的形状；清洗垫成形步骤 (S3)，将熔融的清洗垫组成物以一定的厚度涂布于所述复制模上，在所涂布的组成物固化前层叠软性的支撑体，在支撑体附着的状态下使清洗垫组成物固化，从而形成具有与主模相同的形状和图案的清洗垫；清洗垫剥离步骤(S4)，将成形的清洗垫与支撑体一起从复制模上剥离；清洗垫加工步骤(S5)，将剥离的清洗垫切割、加工成预定的形状。在利用前述方法加工成的清洗垫的背面(支撑体附着的面)还可以另行附着聚氨酯、橡胶等弹性的基垫。这里，优选地，使用铝合金的板材作为上述主模。而且，优选地，使用无粘性的硅或聚乙烯作为所述复制模的成形材料。另外，清洗垫组成物包含30. 0 65. 0重量％的合成树脂、30. 0 65. 0重量％的研磨颗粒和1. 0 5. 0重量％的添加剂。这里，使用聚氨酯或环氧树脂中的至少一种作为合成树脂，使用颗粒大小为 0. 3 5. 0 μ m 的 AL203、SiC、ZrO2, CeO2, SiO2, Fe2O3> Cr2O3> CBN、 人造金刚石粉末中的至少一种作为研磨颗粒。
权利要求1.一种清洗垫，其特征在于，在平板型主体00)的表面具有多个相同形状的单元格(50)，所述多个单元格(50)由多个第1凹槽(30)和第2凹槽00)划分而成，所述多个第1 凹槽和第2凹槽以一定的深度纵横交错地形成于主体00)的表面，所述第1凹槽(30)是具有一定的振幅(H)且以一定的间隔(P)连续配置的波状凹槽， 所述第2凹槽是具有一定的振幅(H)且在与所述第1凹槽(30)交叉的方向上相隔一定的间隔(P)连续配置的多个波状凹槽。
2.如权利要求1所述的清洗垫，其特征在于，彼此相邻的2个第1凹槽(30)间的间隔(P)被形成为小于第1凹槽的振幅(H)，彼此相邻的2个第2凹槽00)间的间隔⑵被形成为小于第2凹槽的振幅(H)。
3.如权利要求1或2所述的清洗垫，其特征在于，所述第1凹槽(30)和第2凹槽00)具有0. 3 2. Omm的宽度和0. 3 1. 5mm的深度， 且和相邻的凹槽以2. 0 20. Omm的间隔(P)进行配置。
专利摘要提供一种清洗垫，在清洗被清洗制品时通过引导液状清洗剂使其在整个清洗垫表面有利地流动，均匀地供应给被清洗制品的清洗区域，从而能够提供良好的清洗面。清洗垫构成如下，在平板型主体(20)的表面具有形状相同的多个单元格(50)，多个单元格(50)由多个第1凹槽(30)和第2凹槽(40)划分而成，第1凹槽和第2凹槽以一定的深度纵横交错地形成于主体的表面，第1凹槽(30)是具有一定的振幅(H)且以一定的间隔(P)连续配置的波状凹槽，第2凹槽(40)是具有一定的振幅(H)且在与第1凹槽(30)交叉的方向上相隔一定的间隔(P)连续配置的多个波状凹槽。
文档编号B08B11/04GK201950054SQ201020547858
公开日2011年8月31日 申请日期2010年9月29日 优先权日2010年9月29日
发明者全润镇, 文德柱, 裴璋镐 申请人:Mck有限公司