碳氢溶液脱水装置制造方法
【专利摘要】一种碳氢溶液脱水装置，其包括清洗脱水槽、分离槽，所述清洗脱水槽中设置有抛动架、隔板，所述隔板与清洗脱水槽的底板之间形成沉淀槽，所述清洗脱水槽的侧壁上设置有转矩输出装置，所述转矩输出装置的转矩输出端设置有偏心轮，所述偏心轮连接有连杆，所述连杆连接所述抛动架，所述沉淀槽的底部设有排液管，所述分离槽中设置有分隔挡板，所述分隔挡板将所述分离槽分隔成过渡槽以及储液槽两部分，所述沉淀槽底部的排液管连接至所述过渡槽中，所述沉淀槽中以及所述过渡槽中均从底部向上依次设置有低水位传感器、中水位传感器以及高水位传感器，所述过渡槽底部设置有排水阀，所述储液槽与所述清洗脱水槽之间设置有供液管。
【专利说明】碳氢溶液脱水装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及工业清洗领域，特别是指一种清洗设备中对被清洗件进行脱水以及对碳氢溶液进行脱水的装置。
【背景技术】
[0002]工业加工中经常需要对加工前的工件、料带进行清洗，在清洗过程中一般采用碳氢溶液对工件、料带进行浸泡。碳氢溶液应用于五金、首饰、钟表、汽车摩托车、航天航空、电子、电气、液晶、半导体等行业，能有效去除各种油污、油脂及助焊树脂、抛光蜡等。然而在有的工件或料带上会附带有水分，因此碳氢溶液对工件或料带进行清洁的同时必须对其进行脱水处理。但是传统的清洗设备在具体实施时，工件或料带从清洗槽中的清洗液中通过的方式脱水速度慢，而且，水分溶入碳氢溶液后处理麻烦，需要单独的对碳氢溶液中的水进行分离，无法做到直接对使用过后的碳氢溶液进行回收利用。
[0003]以上所述为传统的清洗设备在使用过程中所存在的技术缺陷，即为本实用新型所要研究解决课题。
实用新型内容
[0004]本实用新型提供一种碳氢溶液脱水装置，其所要解决的主要技术问题在于:传统的清洗设备对工件或料带脱水速度慢，且对工件或料带脱水后，水份会参杂到碳氢溶液中，影响碳氢溶液的直接回收利用。
[0005]为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是:
[0006]提供一种碳氢溶液脱水装置，其包括密封的清洗脱水槽以及分离槽，所述清洗脱水槽中设置有抛动架，所述清洗脱水槽中位于所述抛动架下方设置有隔板，所述隔板与所述清洗脱水槽的底板之间形成沉淀槽，所述清洗脱水槽的侧壁上设置有转矩输出装置，所述转矩输出装置的转矩输出端设置有偏心轮，所述偏心轮连接有连杆，所述连杆的另一端连接所述抛动架，所述清洗脱水槽中盛装有碳氢溶液，所述沉淀槽中从底部至所述隔板依次设置有低水位传感器、中水位传感器以及高水位传感器，所述沉淀槽的底部设有连接至所述分离槽的排液管，所述排液管中设置有排液阀，所述分离槽中设置有分隔挡板，所述分隔挡板将所述分离槽分隔成过渡槽以及储液槽两部分，所述分隔挡板上端预留有溢液间隙，所述沉淀槽底部的排液管连接至所述过渡槽中，所述沉淀槽中以及所述过渡槽中均从底部向上依次设置有低水位传感器、中水位传感器以及高水位传感器，所述过渡槽底部设置有排水阀，所述储液槽与所述清洗脱水槽之间设置有供液管，所述储液槽中的碳氢溶液输送至所述清洗脱水槽中。
[0007]优选方式:所述低水位传感器、中水位传感器以及高水位传感器均为导电传感器。
[0008]优选方式:所述清洗脱水槽中位于所述抛动架上设置有一用于盛装清洗件的清洗
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[0009]优选方式:所述清洗脱水槽中位于最高液面以上的部位设置有排气管，所述排气管连接有真空栗。
[0010]优选方式:所述供液管上设置有用于将所述储液槽中的碳氢溶液栗送至所述清洗脱水槽的循环栗，所述供液管上位于所述循环栗至所述清洗脱水槽之间还设置有一可从所述储液槽至所述清洗脱水槽单向流通的止回阀。
[0011 ] 优选方式:所述储液槽中设置有冷盘管，所述冷盘管与冷水机相连接，所述冷盘管的输入口以及输出口分别与所述冷水机的蓄冷剂输出口以及蓄冷剂回收口连接。
[0012]优选方式:储液槽底部设置有排液阀。
[0013]优选方式:所述沉淀槽以及所述过渡槽的槽壁上均设置有观察窗。
[0014]与现有技术相比，本实用新型的有益效果是:本实用新型能够通过所述清洗脱水槽实现快速的对清洗件脱水，并利用所述分离槽对碳氢溶液中的水分进行有效的分离再利用；而且结构简单，脱水效果明显，比传统技术脱水的速度快两倍。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]图1为本实用新型的总体构成示意图。
[0016]图2为本实用新型的清洗脱水槽的另一角度示意图。
【具体实施方式】
[0017]以下将结合附图1至2以及较佳实施例对本实用新型提出的一种碳氢溶液脱水装置作更为详细说明。
[0018]如图1至2所示，本实用新型提供一种碳氢溶液脱水装置，其包括密封的清洗脱水槽10以及分离槽20，所述清洗脱水槽10中设置有抛动架11，所述清洗脱水槽10中位于所述抛动架11下方设置有隔板12，所述隔板12与所述清洗脱水槽10的底板之间形成沉淀槽13，所述清洗脱水槽10的侧壁上设置有转矩输出装置I (马达)，所述转矩输出装置I的转矩输出端设置有偏心轮2，所述偏心轮2连接有连杆3，所述连杆3的另一端连接所述抛动架11，所述转矩输出装置I输出转矩驱动所述偏心轮2转动，所述偏心轮2带动所述连杆3平面转动，所述连杆3联动所述抛动架11在所述清洗脱水槽10中做往复运动，即抛动，所述清洗脱水槽10中盛装有碳氢溶液，所述沉淀槽13的底部设有连接至所述分离槽20的排液管14，所述排液管14中设置有排液阀141，所述分离槽20中设置有分隔挡板21，所述分隔挡板21将所述分离槽20分隔成过渡槽22以及储液槽23两部分，所述分隔挡板21的上端预留有溢液间隙211，所述沉淀槽13底部的排液管14连接至所述过渡槽22中，所述沉淀槽13中以及所述过渡槽22中均从底部向上依次设置有低水位传感器5、中水位传感器6以及高水位传感器7，所述过渡槽22底部设置有排水阀221，所述储液槽23与所述清洗脱水槽10之间设置有供液管231，所述储液槽23中的碳氢溶液输送至所述清洗脱水槽10中。
[0019]本实用新型在具体实施时，所述抛动架11抛动使所述清洗件在所述清洗脱水槽10中充分搅动进而脱水，且脱出的水密度大于所述碳氢溶液，因此水流入下方的沉淀槽13中，当所述沉淀槽13中的沉淀水水位达到高水位时，所述高水位传感器5控制所述排液阀141打开，所述沉淀槽13中的沉淀水排送至所述过渡槽22中，当所述沉淀槽13中的沉淀水的水位下降至中水位时，所述中水位传感器6控制所述排液阀141关闭，为防止所述中水位传感器6失灵，当所述沉淀槽13中的水位降至低水位时，所述低水位传感器7控制所述排液阀141关闭；所述沉淀水流入所述过渡槽22中后，在所述过渡槽22中进一步沉淀，同样当所述过渡槽22中的沉淀水水位达到高水位时，所述高水位传感器5控制所述排水阀221打开，所述过渡槽22中的沉淀水排出，当所述过渡槽22中的沉淀水的水位下降至中水位时，所述中水位传感器6控制所述排水阀221关闭，为防止所述中水位传感器6失灵，当所述过渡槽22中的水位降至低水位时，所述低水位传感器7控制所述排水阀221关闭；另外当所述过渡槽22中的沉淀水的水位未达到高水位，而上层的碳氢溶液液位高于所述分隔挡板21上端预留的溢液间隙时，碳氢溶液流入所述储液槽23中，由所述供液管231将所述储液槽23中的碳氢溶液送入所述清洗脱水槽10中再利用。
[0020]较佳实施例:所述低水位传感器5、中水位传感器6以及高水位传感器7均为导电传感器，利用所述碳氢溶液与水的导电率不同，使得当沉淀水的水位达到所述低水位传感器5或中水位传感器6或高水位传感器7的水位时，导电传感器相应动作。
[0021]较佳实施例:所述清洗脱水槽10中位于所述抛动架11上设置有一用于盛装清洗件的清洗篮15，利用所述清洗篮15解决清洗件在抛动过程中放置不稳定的问题。
[0022]较佳实施例:所述清洗脱水槽10中位于最高液面以上的部位设置有排气管16，所述排气管16连接有真空栗161，由于在真空条件下碳氢溶液脱水速度快，因此，借助所述真空栗161对所述清洗脱水槽10中进行抽真空，进而加速碳氢溶液的脱水速度。
[0023]较佳实施例:所述供液管231上设置有用于将所述储液槽23中的碳氢溶液栗送至所述清洗脱水槽10的循环栗232，所述供液管231上位于所述循环栗232至所述清洗脱水槽10之间还设置有一可从所述储液槽23至所述清洗脱水槽10单向流通的止回阀233。
[0024]较佳实施例:所述储液槽23中设置有冷盘管234，所述冷盘管234与冷水机8相连接，所述冷盘管234的输入口以及输出口分别与所述冷水机8的蓄冷剂输出口以及蓄冷剂回收口连接，利用所述冷水机8为所述冷盘管234提供循环冷源。
[0025]较佳实施例:储液槽23底部设置有排液阀235，利用所述排液阀235可以将所述储液槽23中的液体排尽，实现清洗。
[0026]较佳实施例:所述沉淀槽23以及所述过渡槽22的槽壁上均设置有观察窗9，操作者可以通过所述观察窗9观察工况。
[0027]综合上所述，本实用新型的技术方案可以充分有效的完成上述实用新型目的，且本实用新型的结构原理及功能原理都已经在实施例中得到充分的验证，而能达到预期的功效及目的，且本实用新型的实施例也可以根据这些原理进行变换，因此，本实用新型包括一切在申请专利范围中所提到范围内的所有替换内容。任何在本实用新型申请专利范围内所作的等效变化，皆属本案申请的专利范围之内。
【权利要求】
1.一种碳氢溶液脱水装置，其特征在于:包括密封的清洗脱水槽以及分离槽，所述清洗脱水槽中设置有抛动架，所述清洗脱水槽中位于所述抛动架下方设置有隔板，所述隔板与所述清洗脱水槽的底板之间形成沉淀槽，所述清洗脱水槽的侧壁上设置有转矩输出装置，所述转矩输出装置的转矩输出端设置有偏心轮，所述偏心轮连接有连杆，所述连杆的另一端连接所述抛动架，所述清洗脱水槽中盛装有碳氢溶液，所述沉淀槽的底部设有连接至所述分离槽的排液管，所述排液管中设置有排液阀，所述分离槽中设置有分隔挡板，所述分隔挡板将所述分离槽分隔成过渡槽以及储液槽两部分，所述分隔挡板上端预留有溢液间隙，所述沉淀槽底部的排液管连接至所述过渡槽中，所述沉淀槽中以及所述过渡槽中均从底部向上依次设置有低水位传感器、中水位传感器以及高水位传感器，所述过渡槽底部设置有排水阀，所述储液槽与所述清洗脱水槽之间设置有供液管，所述储液槽中的碳氢溶液输送至所述清洗脱水槽中。
2.如权利要求1所述的，其特征在于:所述低水位传感器、中水位传感器以及高水位传感器均为导电传感器。
3.如权利要求2所述的一种碳氢溶液脱水装置，其特征在于:所述清洗脱水槽中位于所述抛动架上设置有一用于盛装清洗件的清洗篮。
4.如权利要求3所述的一种碳氢溶液脱水装置，其特征在于:所述清洗脱水槽中位于最高液面以上的部位设置有排气管，所述排气管连接有真空栗。
5.如权利要求4所述的一种碳氢溶液脱水装置，其特征在于:所述供液管上设置有用于将所述储液槽中的碳氢溶液栗送至所述清洗脱水槽的循环栗，所述供液管上位于所述循环栗至所述清洗脱水槽之间还设置有一可从所述储液槽至所述清洗脱水槽单向流通的止回阀。
6.如权利要求5所述的一种碳氢溶液脱水装置，其特征在于:所述储液槽中设置有冷盘管，所述冷盘管与冷水机相连接，所述冷盘管的输入口以及输出口分别与所述冷水机的蓄冷剂输出口以及蓄冷剂回收口连接。
7.如权利要求6所述的一种碳氢溶液脱水装置，其特征在于:储液槽底部设置有排液阀。
8.如权利要求7所述的一种碳氢溶液脱水装置，其特征在于:所述沉淀槽以及所述过渡槽的槽壁上均设置有观察窗。
【文档编号】B08B3/08GK203599142SQ201320811073
【公开日】2014年5月21日 申请日期:2013年12月11日 优先权日:2013年12月11日
【发明者】李立良, 种新全, 张欣欣, 沈祖明, 卢加傲, 闵元元 申请人:深圳市鑫承诺科技有限公司