清模装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种清模装置，其包括一基座、一模具固定单元、一支撑单元以及一激光系统。模具固定单元设置于基座上，其中模具固定单元具有至少一加热器。支撑单元设置于基座上。激光系统的一端设置并连接于支撑单元上，激光系统还具有一激光源、一振镜及一场镜。振镜耦接于激光源，场镜耦接于振镜。其中，激光源发射一激光光束至振镜作二维光路调整并入射至场镜，再经由场镜将该激光光束聚焦且入射于模具固定单元的范围内。
【专利说明】清模装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种清模装置，尤其是指一种利用激光的清模装置及其清模方法。
【背景技术】
[0002]模具在广泛的工业中都用来产生关键元件，在电子封装封胶制程(Epoxy MoldingProcess)中，模具的清洗除了使用传统的方法外，利用激光技术是一种经济的替代方式，使用激光清洗模具也是一种既环保又迅速地清除残留物的方法，不产生化学或腐蚀性的废弃物。
[0003]本实用新型独特设计的清模装置，其使用激光脉冲能量可以迅速地清除顽固的脱模剂和残留物，而不会损伤到模具表层。针对特定激光种类的应用，再经由精密地测试与精确地调整激光光束，以最安全的方式达到最佳化的清洗效果，利用激光清洗可以安全的清理精密的模具，并且显著的延长模具的使用寿命。
【发明内容】
[0004]本实用新型提出一种清模装置，利用激光源以达到快速且大量地清洗模具的功倉泛。
[0005]本实用新型提出一种清模装置的清模方法，用以达到激光清模的功能，并且不会造成模具受损。
[0006]为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是:
[0007]一种清模装置，其特征在于，包括:
[0008]一基座；
[0009]一模具固定单元，其设置于该基座上，其中该模具固定单元具有至少一加热器；
[0010]一支撑单元，其设置于该基座上；以及
[0011]一激光系统，其一端设置并连接于该支撑单元上，该激光系统还具有:一激光源、一振镜以及一场镜；该振镜稱接于该激光源；该场镜稱接于该振镜；其中，该激光源能够发射一激光光束至该振镜作二维光路调整并入射至该场镜，该场镜能够将该激光光束聚焦且入射于该模具固定单元的范围内。
[0012]在较佳的技术方案中，还可增加如下技术特征:
[0013]该加热器是一加热丝或一加热管。
[0014]该加热器的温度是170°C。
[0015]该激光源是一光纤激光。
[0016]该光纤激光的波长介于1060nm-1070nm之间。
[0017]该振镜具有:
[0018]至少一折射镜；及
[0019]至少一转动马达，其中每一折射镜设置并连接于每一转动马达上，并凭借每一转动马达来转动调整每一折射镜的镜面角度。
[0020]该二维光路调整是一 X轴光路调整与一 Y轴光路调整。
[0021]该场镜将该激光光束聚焦且入射于该模具固定单兀的扫描范围是300mmX 300mm。
[0022]与现有技术相比较，采用上述技术方案的本实用新型具有的优点在于:本实用新型的清模装置及其清模方法，如本实施例所述，其系将待清洗的模具设置于基座上的模具固定单元上，并凭借半自动的清模装置在激光光束扫描范围内对待清洗的模具作激光清模扫描动作，本实施例的优点为可更精密地控制清洗模具的步骤，适合用于特殊地模具上。上述清模装置若针对欲清洗的模具为高精密模具，则可再搭配光纤激光的波长介于1060nm-1070nm之间来作激光清模，以确保高精密模具不受激光扫瞄所损害，又能完整地清除滞留物。
【专利附图】
【附图说明】
[0023]图1为本实用新型实施例的清模装置示意图；
[0024]图2为本实用新型实施例的激光系统内部示意图；
[0025]图3为本实用新型实施例的激光光束扫描范围示意图；
[0026]图4为本实用新型实施例清模装置的清模方法流程图；
[0027]图5为本实用新型实施例清模装置的清模示意图。
[0028]附图标记说明:10_清模装置；100_基座；110-模具固定单元；112_加热器；120-支撑单元；130_激光系统；131_激光源；132_振镜；133_场镜；134_激光光束；135_折射镜；136-转动马达；140-扫描范围；150-模具；20_清模装置的清模方法；S21、S22、S23、S24-步骤。
【具体实施方式】
[0029]请参阅图1为本实用新型实施例的清模装置示意图。清模装置10，其包括一基座100、一模具固定单元110、一支撑单元120以及一激光系统130。模具固定单元110设置于基座100上，其中模具固定单元110具有至少一加热器112，在一实施例中，加热器112可为一加热丝或一加热管，在本实施例中，加热器的温度系维持在170°C，但不以此为限。支撑单元120设置于基座100上。激光系统130的一端设置并连接于支撑单元120上，并请参阅图2为本实用新型实施例的激光系统内部示意图，激光系统130还具有一激光源131、一振镜132及一场镜133。振镜132耦接于激光源131，场镜133耦接于振镜132。其中，激光源131发射一激光光束134至振镜132作二维光路调整并入射至场镜133，再经由场镜133将该激光光束135聚焦且入射于模具固定单元110的范围内。
[0030]在一实施例中，振镜132具有至少一折射镜136及至少一转动马达137，其中每一折射镜136设置并连接于每一转动马达137上，并凭借每一转动马达137来转动调整每一折射镜136的镜面角度以使激光光束134产生不同方向的光路。在本实施例中，振镜132具有2组折射镜136结合转动马达137来使得激光光束135可以作一 X轴光路调整与一 Y轴光路调整的二维光路调整，如图3为本实用新型实施例的激光光束扫描范围示意图，其中场镜133将激光光束134聚焦且入射于模具固定单元110的扫描范围140可为300mmX 300mm。
[0031]在本实施例中，激光源131是一光纤激光，其中光纤激光的波长介于1060nm-1070nm之间，当光纤激光的波长为1065nm时，将具有最佳激光清模效果。
[0032]请参阅图4为本实用新型实施例清模装置的清模方法流程图，图5为本实用新型实施例清模装置的清模示意图。。清模装置的清模方法20，其包括下列步骤:步骤S21，提供一基座100。步骤S22，提供一模具固定单元110设置于基座100上，其中模具固定单元具有至少一加热器，在一实施例中，加热器112可为一加热丝或一加热管,在本实施例中，加热器的温度系维持在170°C，但不以此为限。步骤S23，启动一激光源131发射一激光光束135至一振镜132作二维光路调整并入射至一场镜133，再经由场镜133将激光光束135聚焦且入射至模具固定单元110上的一模具150上以进行一激光清模动作。
[0033]在一实施例中，振镜132具有至少一折射镜136及至少一转动马达137，其中每一折射镜136设置并连接于每一转动马达137上，并凭借每一转动马达137来转动调整每一折射镜136的镜面角度以使激光光束134产生不同方向的光路。在本实施例中，振镜132具有2组折射镜136结合转动马达137来使得激光光束135可以作一 X轴光路调整与一 Y轴光路调整的二维光路调整，如图3为本实用新型实施例的激光光束扫描范围示意图，其中场镜133将激光光束134聚焦且入射于模具固定单元110的扫描范围150可为300mmX 300mm。
[0034]在本实施例中，激光源131是一光纤激光，其中光纤激光的波长介于1060nm-1070nm之间，当光纤激光的波长为1065nm时，将具有最佳激光清模效果。
[0035]综上所述，本实用新型的清模装置及其清模方法，如本实施例所述，其系将待清洗的模具设置于基座上的模具固定单元上，并凭借半自动的清模装置在激光光束扫描范围内对待清洗的模具作激光清模扫描动作，本实施例的优点为可更精密地控制清洗模具的步骤，适合用于特殊地模具上。上述清模装置若针对欲清洗的模具为高精密模具，则可再搭配光纤激光的波长介于1060nm-1070nm之间来作激光清模，以确保高精密模具不受激光扫瞄所损害，又能完整地清除滞留物。
[0036]以上说明对本实用新型而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可作出许多修改、变化或等效，但都将落入本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种清模装置，其特征在于，包括: 一基座; 一模具固定单元，其设置于该基座上，其中该模具固定单元具有至少一加热器； 一支撑单元，其设置于该基座上；以及 一激光系统，其一端设置并连接于该支撑单元上，该激光系统还具有:一激光源、一振镜以及一场镜；该振镜稱接于该激光源；该场镜稱接于该振镜；其中，该激光源能够发射一激光光束至该振镜作二维光路调整并入射至该场镜，该场镜能够将该激光光束聚焦且入射于该模具固定单元的范围内。
2.根据权利要求1所述的清模装置，其特征在于:该加热器是一加热丝或一加热管。
3.根据权利要求2所述的清模装置，其特征在于:该加热器的温度是170°C。
4.根据权利要求1所述的清模装置，其特征在于:该激光源是一光纤激光。
5.根据权利要求4所述的清模装置，其特征在于:该光纤激光的波长介于1060nm-1070nm 之间。
6.根据权利要求1所述的清模装置，其特征在于，该振镜具有: 至少一折射镜；及 至少一转动马达，其中每一折射镜设置并连接于每一转动马达上，并凭借每一转动马达来转动调整每一折射镜的镜面角度。
7.根据权利要求1所述的清模装置，其特征在于:该二维光路调整是一X轴光路调整与一 Y轴光路调整。
8.根据权利要求1所述的清模装置，其特征在于:该场镜将该激光光束聚焦且入射于该模具固定单元的扫描范围是300mmX300mm。
【文档编号】B08B7/00GK203725436SQ201420001528
【公开日】2014年7月23日 申请日期:2014年1月2日 优先权日:2014年1月2日
【发明者】蔡清华, 陈政哲 申请人:镭射谷科技股份有限公司