一种ITO旋转靶的冷等静压成型及制备方法与流程

文档序号:13121048阅读:560来源:国知局

本发明涉及一种陶瓷旋转靶的制备技术,特别是一种ito旋转靶的冷等静压成型及制备方法。



背景技术:

在旋转式磁控溅射装置中,靶材的内侧设有固定磁块,可以一边旋转一边溅射,使得靶面被360°均匀刻蚀,因此,旋转靶的使用效率可以达到70%以上,是平面靶的2倍(20~30%)。而且,与传统的平面靶相比,旋转靶每单位面积可输入的功率变大,从而能够得到较高的成膜速度。

早期,ito旋转靶的制备方法主要有等离子喷涂法和热等静压法,这两种方法使用的设备昂贵,制备的ito旋转靶密度偏低,溅射时,容易产生开裂、异常放电和结瘤等现象。为了得到高致密度的ito旋转靶,目前主流的制备方法是:制粉,成型和烧结。素坯成型的方法通常有两种:注浆成型和冷等静压成型。注浆成型是将粉末制成料浆,再注入模具内使之成为素坯。使用这种方法较难获得高密度的素坯,不利于烧结。冷等静压成型是将粉末装入柔性模具,再置于冷等静压设备中,在高压下获得素坯。冷等静压成型采用的压力较高,一般为100~500mpa,因此得到的素坯密度相对于注浆成型来说更高,更容易得到高致密度的烧结体。

ito旋转靶素坯为中空薄壁结构,易在运输、加工过程中开裂,因而对粉料性能、成型工艺等因素要求较高。通常的ito粉体级配效果不好,松装密度较低,一般为1.65g/cm3以下,受其性能影响,经冷等静压成型的素坯仍然存在容易开裂的问题,因此,防止ito素坯在成型、运输、加工等过程中的开裂,是成型工艺需要解决的核心技术问题。



技术实现要素:

本发明的目的是为了有效解决ito素坯在成型、运输、加工等过程中的开裂问题,提供一种ito旋转靶的冷等静压成型及制备方法。

本发明为解决上述技术问题所采用的技术方案是:一种ito旋转靶的冷等静压成型方法,先将ito粉装入模具中,在50—200mpa的压力下加压处理1—20分钟使其内部孔隙封闭,之后从模具中取出进行粉碎并过40—100目筛,形成松装密度为2.2—2.8g/cm3的ito实心粉料,然后再将ito实心粉料装入管状柔性模具中,经冷等静压制成ito管状素坯。

进一步的,所述ito粉为ito纳米粉、ito造粒粉或ito粉喷雾造粒过程中布袋除尘器收集的细粉。

进一步的,所述ito粉中氧化铟和氧化锡的质量比为in2o3:sno2=90—97:3—10。

进一步的,所述管状柔性模具的材质为聚氨酯、硅橡胶、pvc、氯丁橡胶中的任意一种。

进一步的,所述冷等静压的压力为150—400mpa。

一种ito旋转靶的制备方法,将按照上述方法制成的ito管状素坯放入氧气氛烧结炉中,通入氧气保持0.3—0.8mpa的压力,保温烧结制成ito旋转靶。

进一步的,所述的烧结温度为1500—1800℃,保温时间为20—60小时。

本发明的有益效果是:在ito粉装入模具冷等静压成型之前,先对ito粉加压处理以提高其密实度,之后粉碎得到的ito粉料均为实心颗粒,颗粒的级配效果好,松装密度大,可达到2.2~2.8g/cm3,能有效改善ito粉的充模性能。采用该粉体装入管状柔性模具,填充密实度高,且均匀性好,能够防止冷等静压过程中ito素坯的开裂。等静压后得到的素坯,密度高,相对密度可达到72%以上(相对于理论值),强度大,不易在运输、加工过程中开裂。该素坯在氧气氛烧结炉中进行烧结可以得到相对密度99%以上的ito旋转靶。

由于本发明预先对ito粉进行加压处理,对原料的适应性比较广,可采用ito纳米粉,ito造粒粉,或者是喷雾造粒过程中回收的废料,如旋风分离器或布袋除尘器中收集的较细的ito造粒粉。利用本发明的方法可以对这些废料进行有效的回收利用,减少料耗,降低生产成本。

具体实施方式

以下结合实施例具体说明本发明的实施方式。

本发明采用的冷等静压成型方法与以往方法相比,在将ito粉装入柔性模具冷等静压成型之前,先将ito粉装入模具中,在50—200mpa的压力下加压处理一定时间,使粉体颗粒相互聚集,内部孔隙受压封闭,以提高密实度,通常加压处理时间在1—20分钟之间。加压处理后将原料从模具中取出进行粉碎,粉碎过程中原料颗粒更容易从未封闭的孔隙部分分裂,因而粉碎得到的ito粉料均为实心颗粒。粉碎后过40—100目筛,形成松装密度为2.2—2.8g/cm3的ito粉料,然后再将ito粉料装入管状柔性模具中,在经冷等静压制成ito管状素坯。

所用ito粉可以是ito纳米粉,ito造粒粉,或者是喷雾造粒过程中,旋风分离器或布袋除尘器中收集的较细的ito造粒粉。其中,氧化铟和氧化锡的质量比为in2o3:sno2=90~97:3~10。加压处理可以使用液压机、冷等静压机等,对于液压机的情况,ito粉装入钢模中进行压制;对于冷等静压机的情况,ito粉装入柔性模具中进行压制。所用模具的形状和形态没有限制,可以是圆形、矩形、菱形、平板形、圆管形、方管形、圆柱形等。

冷等静压所用的管状柔性模具的材质为聚氨酯、硅橡胶、pvc、氯丁橡胶中的任意一种,冷等静压的压力为150—400mpa。

为进一步制备ito旋转靶,将按照上述方法制成的ito管状素坯放入氧气氛烧结炉中,通入纯度99.99%以上的氧气,保持0.3—0.8mpa的压力,升温至1500—1800℃,保温20—60小时烧结制成ito旋转靶,相对密度99%以上。得到的ito旋转靶进行外形加工,然后绑定于钛管外表面。

实施例1

一种ito旋转靶的冷等静压成型方法,步骤如下:

将ito造粒粉(in2o3:sno2=90:10)放入液压机的钢模(300×300mm)中,压力调至60mpa,进行加压处理2分钟。加压处理后粉碎,过60目网筛。得到的ito粉装入管状聚氨酯模具中,在180mpa的压力下进行冷等静压成型,得到相对密度69%的ito管状素坯。将素坯放入氧气氛烧结炉中,通入纯度为99.99%的氧气,保持压力为0.5mpa,升温至1600℃,保温40小时。

烧结的靶材,相对密度为99.55%。将得到的靶材加工成所需要的尺寸和精度,绑定于纯度为99.99%的钛管表面。

实施例2

一种ito旋转靶的冷等静压成型方法,步骤如下:

将ito纳米粉(in2o3:sno2=95:5)装入铝箔袋中,将袋口封好,放入等静压机中,在150mpa的压力下,进行加压处理6分钟,之后粉碎,过80目网筛。得到的ito粉装入管状硅胶模具中,在250mpa的压力下进行冷等静压成型,得到相对密度71%的ito管状素坯。将素坯放入氧气氛烧结炉中,通入纯度为99.99%的氧气,保持压力为0.6mpa,升温至1700℃,保温30小时。

烧结的靶材,相对密度为99.63%。将得到的靶材加工成所需要的尺寸和精度,绑定于纯度为99.99%的钛管表面。

实施例3

一种ito旋转靶的冷等静压成型方法,步骤如下:

将喷雾造粒过程中,旋风分离器或布袋除尘器中收集的较细的ito造粒粉(in2o3:sno2=97:3),装入柱状柔性模具,放入等静压机中,在180mpa的压力下,进行加压处理15分钟,之后取出粉碎,过60目网筛。得到的ito粉装入管状硅胶模具中,在250mpa的压力下进行冷等静压成型,得到相对密度74%的ito管状素坯。将素坯放入氧气氛烧结炉中,通入纯度为99.99%的氧气,保持压力为0.7mpa,升温至1800℃,保温20小时。

烧结的靶材,相对密度为99.72%。将得到的靶材加工成所需要的尺寸和精度,绑定于纯度为99.99%的钛管表面。

实施例4

一种ito旋转靶的冷等静压成型方法,步骤如下:

将ito造粒粉(in2o3:sno2=90:10)放入液压机的钢模(300×300mm)中,压力调至50mpa,进行加压处理1分钟。加压处理后粉碎,过100目网筛。得到的ito粉装入管状聚氨酯模具中,在250mpa的压力下进行冷等静压成型,得到相对密度68%的ito管状素坯。将素坯放入氧气氛烧结炉中,通入纯度为99.99%的氧气,保持压力为0.3mpa,升温至1500℃,保温60小时。

烧结的靶材,相对密度为99.58%。将得到的靶材加工成所需要的尺寸和精度,绑定于纯度为99.99%的钛管表面。

实施例5

一种ito旋转靶的冷等静压成型方法,步骤如下:

将ito纳米粉(in2o3:sno2=97:3)装入铝箔袋中,将袋口封好,放入等静压机中,在200mpa的压力下,进行加压处理20分钟,之后粉碎,过40目网筛。得到的ito粉装入管状硅胶模具中,在250mpa的压力下进行冷等静压成型,得到相对密度71%的ito管状素坯。将素坯放入氧气氛烧结炉中,通入纯度为99.99%的氧气,保持压力为0.8mpa,升温至1700℃,保温30小时。

烧结的靶材,相对密度为99.63%。将得到的靶材加工成所需要的尺寸和精度,绑定于纯度为99.99%的钛管表面。

实施例6

一种ito旋转靶的冷等静压成型方法,将ito粉(in2o3:sno2=90:10)装入管状聚氨酯模具中,放入在300mpa的压力下进行冷等静压成型,挑选在成型过程中或在成型后运输过程中开裂、变形的坯体,将其粉碎,过40目网筛。得到的ito粉装入管状聚氨酯模具中,在300mpa的压力下进行冷等静压成型,得到相对密度68%的ito管状素坯。将素坯放入氧气氛烧结炉中,通入纯度为99.99%的氧气,保持压力为0.7mpa,升温至1600℃,保温40小时。

烧结的靶材,相对密度为99.77%。将得到的靶材加工成所需要的尺寸和精度,绑定于纯度为99.99%的钛管表面。

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