滤色片的制造方法及滤色片以及液晶显示装置的制作方法

专利名称：：滤色片的制造方法及滤色片以及液晶显示装置的制作方法
技术领域：
：本发明涉及适合便携式终端、便携式游戏机、笔记本电脑、电视显示屏等液晶显示装置(LCD)用、PALC(等离子编址液晶)、等离子显示器等的滤色片的制造方法、及利用该制造方法制造的滤色片及使用了该滤色片的液晶显示装置。
背景技术：
：滤色片是液晶显示器(以下，有时也称为"LCD"、"液晶显示装置")中不可或缺的构成部件。该液晶显示器非常紧凑，性能方面也与至今的CRT显示器相等以上程度，正在代替CRT显示器。液晶显示器的彩色图像的形成如下所述，即通过滤色片的光直接被构成滤色片的各像素的颜色着色，合成这些颜色的光，形成彩色图像。还有，当今用RGB三色的像素形成彩色图像。近年来，对液晶显示器(LCD)的大画面化及高精细化进行了技术开发，其用途从笔记本电脑用显示器扩大至台式电脑用M示器、以及电视显示屏(以下，有时也称为"TV")。在这样的背景下，LCD需要降低成本，提高显示特性。作为该降低成分的方向，不单在于成本的降低，而且还在于工序的简单化的进行，尤其探讨了用于曝光的光掩模的消除。另一方面，作为提高显示特性的方向，探讨了增加每l英寸的像素数目的高精细化等。尤其，以规定RGB三色的各像素间的方式形成的黑矩阵规定外观的像素宽度，因此，该黑矩阵的线宽度的不均由于其周期性，容易成为乱真纹、或周期不均等显示不均。因此，寻求能够将形成黑矩阵的黑图像的微细图案高精细地形成的方法。作为这样的滤色片的形成方法，通常，知道的有，通过将感光性组合物曝光、显影来形成微细图案的光刻法。作为进行所述光刻法的曝光装置，研究了一种基于激光器直接构图系统(以下，有时称为"LDI")的曝光装置(例如，参照非专利文献1)，其不需要使用光掩模，将半导体激光器、气体激光器等的激光基于像素图案等数字数据直接扫描在感光性组合物上，形成图案。然而，在使用基于所述LDI的曝光中，从曝光头照射的光束主要由于透镜系的原因，导致周边部的光强度与光轴的中心部相比降低的问题、或透镜的像面弯曲、像差、畸变等导致像变形的问题。另外，由于所述曝光头的安装位置或安装角度的偏移、或所述感光性组合物的感度或析像度等光学特性等，发生图案歪斜引起的不过来的不均、或析像度的不均、或浓度的不均等，若使用多重曝光减轻这个，则由于增加曝光次数，导致降低曝光速度的降低，并且发生画质的降低等问题，还导致成为曝光性能降低的原因的问题。因此，还没有提供不需要使用光掩模，尤其黑图像的线宽度不均极少，使用适合的感光性组合物，能够高精细地形成的滤色片的制造方法、及利用该滤色片的制造方法制造的显示特性优越的滤色片、及使用了该滤色片的液晶显示装置滤色片的形成方法，现状是希望进一步的改进开发。非专利文献1:石川明人"基于无掩模曝光的开发縮减和批量生产应用化"、"电子学安装技术"，株式会社技术调査会，Vo1.18，No.6，2002年，p.74—79。
发明内容本发明是鉴于上述现状而做成的，其目的在于解决以往的所述各问题，实现以下的目的。即，本发明的目的在于提供，不需要使用光掩模，使用适合的感光性组合物，图像的线宽度不均(边缘粗糙度)极其少，能够高精细地形成，低成本，且显示特性优越，适合便携式终端、便携式游戏机、笔记本电脑、电视显示屏等液晶显示装置(LCD)用、PALC(等离子编址液晶)、等离子显示器等中使用的滤色片的制造方法、及利用该滤色片的制造方法制造的显示特性优越的滤色片、及使用了该滤色片的液晶显示装置。作为解决所述目的的方案，如下所述。艮P，<1〉一种滤色片的制造方法，其特征在于，至少包括对由感光性组合物构成且位于基材的表面的感光层进行曝光的曝光工序，所述曝光工序中，使至少具备光照射机构及光调制机构的曝光头、和所述感光层的至少任一个移动，同时将从所光照射机构射出的光利用所述光调制机构根据图案信息调制，并从所述曝光头照射，对所述感光层进行曝光，所述感光性组合物包含粘合剂、聚合性化合物、着色剂、及光聚合引发剂，所述着色剂中含有的颜料的数均粒径最大为100nm，且该颜料的所述感光性组合物的固态成分中的含量至少为30质量％。在<1>中记载的滤色片的制造方法中，使用所述着色剂中含有的颜料的数均粒径最大为100nm，且该颜料的所述感光性组合物的固态成分中的含量至少为30质量％的所述感光性组合物形成感光层，曝光工序通过如下所述进行，即使至少具备光照射机构及所述光调制机构的曝光头、和所述感光层的至少任一个移动，同时将从所光照射机构射出的光利用所述光调制机构根据图案信息调制，并从所述曝光头照射，对所述感光层进行曝光，因此，不需要使用光掩模，在所述感光层的被曝光面上形成基于所述图案信息的像。例如，然后，通过将所述感光层显影，形成高精细的图案。<2>根据所述<1>所述的滤色片的制造方法，其中，光调制机构具有n(其中，n为2以上的自然数)个排列为二维状的描绘像素部，其接受来自光照射机构的光，并射出，并且基于图案信息可以控制所述描绘像素部。<3〉根据所述<1><2>所述的滤色片的制造方法，其中，光调制机构是空间光调制元件。<4>根据所述<3>所述的滤色片的制造方法，其中，空间光调制元件是数字微镜设备(DMD)。<5>根据所述<3>所述的滤色片的制造方法，其中，空间光调制元件是镜灰度型空间调制元件。<6>根据所述<1〉<2>所述的滤色片的制造方法，其中，光调制机构是光多面镜(光学多面体(polygonmirror))。<7>根据所述<1><6>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，光照射机构是射出由半导体激光器元件生成的激光的激光源。<8>根据所述<1><7>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，光照射机构是将多条光纤捆扎的束状光纤光源，所述光纤从一端入射光，并从另一端射出入射的所述光。<9>根据所述<8>所述的滤色片的制造方法，其中，光纤中入射两种以上的光，并合波而射出。<10>根据所述<1〉<9〉中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，光照射机构具有多个激光器；多模光纤；透镜系，其将从所述多个激光器分别照射的激光束进行聚光，使该光耦合于所述多模光纤。<11>根据所述<1><10>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，曝光头具备聚光透镜，其将来自光照射机构的光，并向光调制机构照射；成像透镜系，其使利用所述光调制机构调制的光形成的像成像于感光层的被曝光面上。<12〉根据所述<11>所述的滤色片的制造方法，其中，成像透镜系包括微透镜排列为阵列状而成的微透镜阵列。<13>根据所述<11><12>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，成像透镜系包括孔阵列，其是配置孔而成的，该孔排列在微透镜的聚光位置附近，以仅使经过了该微透镜的光入射。<14>根据所述<1〉<13>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，利用聚光透镜系使从光照射机构向光调制机构照射的光的照射区域内上的光量具有分布，修正利用所述光调制机构调制的光的感光层的被曝光面上的光量分布，使该光量分布均匀。<15>根据所述<14>所述的滤色片的制造方法，其中，聚光透镜使从光照射机构照射的光以在主光线的角度具有分布的光束向光调制机构照射。<16>根据所述<14>所述的滤色片的制造方法，其中，将从光照射机构射出的光利用聚光透镜系形成为远心光，并向光调制机构照射。<17>根据所述<16>所述的滤色片的制造方法，其中，聚光透镜系具有第一光学透镜，其具有随着从光轴中心远离而透镜功率变小的非球面形状；第二光学透镜，其具有随着从光轴中心远离而透镜功率变大的非球面形状。<18>根据所述<14><17>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，利用聚光透镜系使从光照射机构向光调制机构照射的光的照射区域的周边部的光量增大，使其大于中心部的光量。<19>根据所述<1><18>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，曝光是使用焦点调节机构进行的，该焦点调节机构改变利用光调制机构调制的光的光程长，调节成像于感光层的被曝光面的曝光光的焦点。<20>根据所述<19>所述的滤色片的制造方法，其中，使利用光调制机构调制的光仅成像于包括成像透镜系的中央部的大致矩形状区域。<21>根据所述<21>所述的滤色片的制造方法，其中，大致矩形状的长边的长度是短边的长度的两倍以上。<22>根据所述<19><21>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，焦点调节机构具有以使利用光调制机构调制的光的光轴方向的厚度变化的方式形成的楔型棱镜组，通过使构成该楔型棱镜组的各楔型棱镜移动，调节在将所述调制的光成像于感光层的被曝光面上时的焦点。<23〉根据所述<19><22>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，焦点调节机构具有光学系和压电元件，利用所述压电元件调节所述光学系的间隔，由此调节将利用光调制机构调制的光成像于感光层的被曝光面上时的焦点。<24>根据所述<19><23>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，成像透镜系能够以透镜的光轴为中心旋转，且由能够沿相对于所述光轴的垂直方向移动的透镜构成。<25>根据所述<19><24>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，使大致矩形状的短边方向朝向感光层的弯曲方向而进行曝光。<26>根据所述<12〉所述的滤色片的制造方法，其中，微透镜阵列的各微透镜具有修正描绘像素部的面的歪斜引起的像差的非球面。<27>根据所述<26>所述的滤色片的制造方法，其中，非球面为复曲面。<28>根据所述<12>所述的滤色片的制造方法，其中，微透镜阵列的各微透镜具有修正所述像素部的面的歪斜引起的像差的折射率分布。<29>根据所述<12>所述的滤色片的制造方法，其中，微透镜阵列的各微透镜具有不使来自所述像素部的周边部的光入射的透镜开口形状。<30>根据所述<29>所述的滤色片的制造方法，其中，微透镜阵列的各微透镜具有修正描绘像素部的面的歪斜引起的像差的非球面。<31〉根据所述<30>所述的滤色片的制造方法，其中，非球面为复曲面。<32>根据所述<29>所述的滤色片的制造方法，其中，微透镜阵列的各微透镜具有修正所述像素部的面的歪斜引起的像差的折射率分布。<33>根据所述<29><32>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，微透镜具有圆形透镜开口形状。<34>根据所述<29><33>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，微透镜的开口形状通过在该透镜面的局部设置遮光部来规定。<35>根据所述<1><34>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，使用描绘像素部的列方向相对于扫描方向呈规定的设定倾斜角度e地配置而成的曝光头，对于所述曝光头，利用使用描绘像素部指定机构指定能够使用的所述描绘像素部中使用于N重曝光(其中，N为2以上的自然数)的所述描绘像素部，对于所述曝光头，利用使用描绘像素部控制机构控制所述描绘像素部，使只有由所述使用描绘像素部指定机构指定的所述描绘像素部参与曝光，对于所述感光层，使所述曝光头相对于扫描方向相对移动，进行曝光。<36>根据所述<35>所述的滤色片的制造方法，其中，曝光是利用多个曝光头进行的，使用描绘像素部指定机构指定在参与利用多个所述曝光头形成的被曝光面上的作为重复曝光区域的头间连接区域的曝光的描绘像素部中，用于实现所述头间连接区域中的N重曝光而使用的所述描绘像素部。<37>根据所述<35><36>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，曝光是利用多个曝光头进行的，使用描绘像素部指定机构指定在参与利用多个所述曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域的头间连接区域以外的曝光的描绘像素部中，用于实现所述头间连接区域以外的区域中的N重曝光而使用的所述描绘像素部。<38>根据所述<35><37>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，按照相对于9ideaj满足e^eid^的关系的方式设定设定倾斜角度e，所述eidw相对于N重曝光数N、描绘像素部的列方向的个数s、所述描绘像素部的列方向的间隔p及在使曝光头倾斜的状态下沿与该曝光头的扫描方向正交的方向的描绘像素部的列方向的间距5而满足下述式spsineideal^N<39〉根据所述<35〉<38〉中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，N重曝光的N为3以上的自然数。<40>根据所述<35><39>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，使用描绘像素部指定机构具备在被曝光面上检测作为利用描绘像素部生成的构成被曝光面上的曝光区域的描绘单位的光点位置的光点位置检测机构，和基于所述光点位置检测机构的检测结果来选择用于实现N重曝光而使用的描绘像素部的描绘像素部选择机构。<41〉根据所述<35><40>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，使用描绘像素部指定机构以行为单位指定用于实现N重曝光而使用的使用描绘像素部。<42〉根据所述<40><41>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，基于光点位置检测机构检测出的至少2个光点位置，确定在使曝光头倾斜的状态下的被曝光面上的光点的列方向与所述曝光头的扫描方向所成的实际倾斜角度e，，描绘像素部选择机构选择使用描绘像素部，以吸收所述实际倾斜角度e'与设定倾斜角度e的误差。<43>根据所述<42>所述的滤色片的制造方法，其中，实际倾斜角度e'为在使曝光头倾斜的状态下的被曝光面上的光点的列方向与所述曝光头的扫描方向所成的多个实际倾斜角度的平均值、中值、最大值及最小值的任意一个。<44>根据所述<40><43>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，描绘像素部选择机构基于实际倾斜角度e',导出与满足ttane'-N(其中，N表示N重曝光数的N)的关系的t相近的自然数T，选择被排列成m行(其中，m表示2以上的自然数)的描绘像素部中从第1行到第所述T行的所述描绘像素部作为使用描绘像素部。<45>根据所述<40><43>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，描绘像素部选择机构基于实际倾斜角度e'，导出与满足ttane'=N(其中，N表示N重曝光数的N)的关系的t相近的自然数T，确定被排列成m行(其中，m表示2以上的自然数)的描绘像素部中从第(T+l)行到第m行的所述描绘像素部作为不使用描绘像素部，并将除了该不使用描绘像素部以外的所述描绘像素部选作使用描绘像素部。<46>根据所述<40><45>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，描绘像素部选择机构是如下所述机构中的任意一种，即(1)按照在至少含有利用多个描绘像素部列形成的被曝光面上的重复曝光区域的区域中，使相对理想的N重曝光为曝光过多的区域及曝光不足的区域的总面积成为最小的方式，选择使用描绘像素部的机构；(2)按照在至少含有利用多个描绘像素部列形成的被曝光面上的重复曝光区域的区域中，使相对理想的N重曝光为曝光过多的区域的描绘单位数与曝光不足的区域的描绘单位数相等的方式，选择使用描绘像素部的机构；(3)按照在至少含有利用多个描绘像素部列形成的被曝光面上的重复曝光区域的区域中，使相对理想的N重曝光为曝光过多的区域的面积成为最小，且不产生曝光不足的区域的方式，选择使用描绘像素部的机构；以及(4)按照在至少含有利用多个描绘像素部列形成的被曝光面上的重复曝光区域的区域中，使相对理想的N重曝光为曝光不足的区域的面积成为最小，且不产生曝光过多的区域的方式，选择使用描绘像素部的机构。<47〉根据所述<40><45>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，描绘像素部选择机构是如下所述机构中的任意一种，艮口(1)按照在利用多个曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域的头间连接区域中，使相对理想的N重曝光为曝光过多的区域及曝光不足的区域的总面积成为最小的方式，从参与所述头间连接区域的曝光的描绘像素部中，确定不使用描绘像素部，并将除了该不使用描绘像素部以外的所述描绘像素部选作使用描绘像素部的机构；(2)按照在利用多个曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域的头间连接区域中，使相对理想的N重曝光为曝光过多的区域的描绘单位数与曝光不足的区域的描绘单位数相等的方式，从参与所述头间连接区域的曝光的描绘像素部中，确定不使用描绘像素部，并将除了该不使用描绘像素部以外的所述描绘像素部选作使用描绘像素部的机构；(3)按照在利用多个曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域的头间连接区域中，使相对理想的N重曝光为曝光过多的区域的面积成为最小，且不产生曝光不足的区域的方式，从参与所述头间连接区域的曝光的描绘像素部中，确定不使用描绘像素部，并将除了该不使用描绘像素部以外的所述描绘像素部选作使用描绘像素部的机构；以及(4)按照在利用多个曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域的头间连接区域中，使相对理想的N重曝光为曝光不足的区域的面积成为最小，且不产生曝光过多的区域的方式，从参与所述头间连接区域的曝光的描绘像素部中，确定不使用描绘像素部，并将除了该不使用描绘像素部以外的所述描绘像素部选作使用描绘像素部的机构。<48>根据所述<35><47>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，为了在使用描绘像素部指定机构中指定使用描绘像素部，相对N重曝光的N，仅使用可以使用的所述描绘像素部中构成每(N—O列的描绘像素部列的所述描绘像素部、及构成每1/N行的描绘像素部行的所述描绘像素部的任一个，进行参照曝光。<49>根据所述<35><48>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，使用描绘像素部指定机构具有作为光点位置检测机构的缝隙及光检测器、以及作为描绘像素部选择机构的与所述光检测器连接的运算装置。<50>根据所述<1><49>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，光调制机构还具有基于形成的图案信息生成控制信号的图案信号生成机构，根据该图案信号生成机构产生的控制信号，对从光照射机构照射的光进行调制。<51>根据所述<1><50>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，设定如下所述的(A)、(B)、(C)、(D)中的至少任一个，以使由于感光层的被曝光面上的描绘像素的配置、和与图案信息有关的描绘图案的关系而产生的锯齿的锯齿间距或锯齿振幅成为规定值以上，并按照所述图案信息，以规定的时间间隔调制控制所述各描绘像素部，艮P:由邻接的所述描绘像素部描绘的所述描绘像素间的排列间距(A);由多个所述描绘像素构成的二维状描绘像素组的相对扫描方向的倾斜角度(B);所述扫描方向上的所述描绘像素的扫描间距(C);及在与所述扫描方向大致正交的方向上邻接而描绘的所述描绘像素的所述扫描方向上的描绘位置的相位差(D)。<52>根据所述<51>所述的滤色片的制造方法，其中，通过使曝光头的整体或一部分旋转来改变倾斜角度(B)。<53>根据所述<51>所述的滤色片的制造方法，其中，通过调节所述描绘面上描绘的所述描绘像素组的描绘放大倍数来改变排列间距(A)及描绘间距(C)的至少任一个。<54>根据所述<51>所述的滤色片的制造方法，其中，通过调节利用描绘像素部向感光层的被曝光面上描绘的描绘时间间隔来改变描绘间距(C)。<55>根据所述<51>所述的滤色片的制造方法，其中，通过调节曝光头的相对感光层的被曝光面的相对移动速度来改变描绘间距(C)。<56>根据所述<51>所述的滤色片的制造方法，其中，通过调节邻接的所述描绘像素部的调制控制的时间间隔来改变相位差(D)。<57>根据所述<51>所述的滤色片的制造方法，其中，设定锯齿间距的所述规定值为感光层的被曝光面上的所述描绘像素点直径以下。<58>根据所述<51>所述的滤色片的制造方法，其中，具有多个描绘像素部组，在所述各描绘像素部组，个别地设定排列间距(A)、倾斜角度(B)、描绘间距(C)、及相位差(D)。<59>根据所述<51>所述的滤色片的制造方法，其中，具有多个描绘像素部，设定排列间距(A)、倾斜角度(B)、描绘间距(C)、及相位差(D)的至少任一个，以使在所述各描绘像素部产生的锯齿的锯齿间距或锯齿振幅的平均值成为规定值以下。<60>根据所述<51>所述的滤色片的制造方法，其中，根据描绘图案，设定排列间距(A)、倾斜角度(B)、描绘间距(C)、及相位差(D)的至少任一个。<61>根据所述<51>所述的滤色片的制造方法，其中，根据描绘图案的相对扫描方向的倾斜角度，设定排列间距(A)、倾斜角度(B)、描绘间距(C)、及相位差(D)的至少任一个。<62>根据所述<51>所述的滤色片的制造方法，其中，设定排列间距(A)、倾斜角度(B)、描绘间距(C)、及相位差(D)的至少任一个，以使与扫描方向正交、或大致正交的方向上的由描绘图案生成的所述锯齿间距或所述锯齿振幅成为规定值以下。<63>根据所述<1><50>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，所述制造方法是在感光层的被曝光面上设定至少能够控制开启关闭的二维排列的控制点，使所述控制点、和所述感光层的被曝光面上相对扫描，并且控制所述控制点，进行描绘的描绘方法，求出如下所述的(E)、(F)、(G)、(H)的至少任一个、和由描绘的描绘图案生成的锯齿的形状的相关关系，所述控制点的沿大致扫描方向的点列的间距(E);所述点列的排列方向(F);所述控制点的所述扫描方向上的间距(G);及在与所述扫描方向大致正交的方向上邻接的所述控制点的所述扫描方向上的相位差(H)，基于所述相关关系，设定或改变所述点列的间距(E)、所述点列的排列方向(F)、所述控制点的所述扫描方向上的间距(G)、及所述相位差(H)的至少任一个。<64>根据所述<63〉所述的滤色片的制造方法，其中，将锯齿的形状在容许范围内的点列的间距(E)、点列的排列方向(F)、控制点的扫描方向上的间距(G)、及相位差(H)的至少任一个条件作为选择条件规定。<65>根据所述<64>所述的滤色片的制造方法，其中，将锯齿的形状在容许范围外的点列的间距(E)、点列的排列方向(F)、控制点的扫描方向上的间距(G)、及相位差(H)的至少任一个作为禁止条件规定。<66>根据所述<63>所述的滤色片的制造方法，其中，锯齿的形状利用锯齿间距及锯齿振幅的至少任一个规定。<67>根据所述<63>所述的滤色片的制造方法，其中，对应于描绘图案的方向，求出相关关系。<68>根据所述<63>所述的滤色片的制造方法，其中，对应于含在规定的区域内的描绘图案的代表性方向，求出所述相关关系。<69>根据所述<63>所述的滤色片的制造方法，其中，将包含在规定的区域内，且与曝光头的扫描方向正交、或大致正交的方向的扫描图案的方向作为代表性方向，对应于所述代表性方向，求出所述相关关系。<70>根据所述<63>所述的滤色片的制造方法，其中，按规定的区域内的描绘图案求出相关关系。<71>根据所述<63>所述的滤色片的制造方法，其中，按规定的区域内的描绘图案，设定或改变间距(E)、点列的排列方向(F)、控制点的扫描方向上的间距(G)、及相位差(H)的至少任一个。<72>根据所述<63>所述的滤色片的制造方法，其中，基于由间距(E)、点列的排列方向(F)、控制点的扫描方向上的间距(G)、及相位差(H)的至少任一个求出的计算值求出相关关系。<73>根据所述<63>所述的滤色片的制造方法，其中，基于描绘数据进行描绘，由描绘的图案测量相关关系而求出。<74>根据所述<1><50>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，所述制造方法是在感光层的被曝光面上设定至少能够控制开启关闭的二维排列的控制点，使所述控制点、和所述感光层的被曝光面上相对扫描，并且控制所述控制点，进行描绘的描绘方法，求出所述控制点的排列状态、和由描绘的描绘图案生成的锯齿的形状的相关关系，基于所述相关关系，设定或改变所述排列状态。<75>根据所述<1><50>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，所述制造方法是在感光层的被曝光面上设定至少能够控制开启关闭的二维排列的控制点，使所述控制点、和所述感光层的被曝光面上相对扫描，并且控制所述控制点，进行描绘的描绘方法，设定或改变所述控制点的排列状态，以减少由描绘的描绘图案生成的锯齿。<76>根据所述<1><75>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，利用光调制机构形成具有空间性可变强度的曝光光，利用该曝光光灰色标度化的图案。<77>根据所述<1><75>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，调制曝光时间、及曝光光强度的任一个，形成灰色标度化的图案。<78>根据所述<1><77>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，图案信号生成机构生成的控制信号的速度比从光照射机构照射的脉冲光的脉冲重复速度大。<79>根据所述<1〉<78>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，感光层是通过在基材的表面涂敷感光性组合物，并干燥该感光性组合物来形成。<80>根据所述<1><78>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，将在支撑体上设置有至少一层感光性组合物层的感光性薄膜以使感光层的表面和基材抵接的方式层叠于该基材上，然后剥离支撑体来形成。<81>根据所述<1><80>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，感光性组合物至少着色为黑色(K)。<82>根据所述<1〉<81>中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，使用至少着色为红色(R)、绿色(G)、及蓝色(B)三基色的感光性组合物，对基材的表面以规定的配置，按R、G及B各色依次重复感光层形成工序、曝光工序、及显影工序，形成滤色片。<83>根据所述<82>所述的滤色片的制造方法，其中，红色(R)着色至少使用颜料C.I.颜料红254，绿色(G)着色至少使用颜料C.I.颜料绿36及颜料C.I.颜料黄150的至少任一个颜料，蓝色(B)着色至少使用颜料C丄颜料蓝15:6。<84>根据所述<82>所述的滤色片的制造方法，其中，红色(R)着色使用颜料C丄颜料红254及颜料C丄颜料红177的至少任一个颜料，绿色(G)着色使用颜料C.I.颜料绿36及颜料C.I.颜料黄150的至少任一个颜料，蓝色(B)着色使用颜料C.I.颜料蓝15:6及颜料C丄颜料紫23的至少任一个颜料。<85>—种滤色片，其特征在于，利用所述<1〉<84>中任一项所述的滤色片的制造方法制造。<86>—种液晶显示装置，其特征在于，使用了所述<85>所述的滤色片。根据本发明可知，能够提供不需要使用光掩模，使用适合的感光性组合物，图像的线宽度不均(边缘粗糙度)极其少，能够高精细地形成，低成本，且显示特性优越，适合便携式终端、便携式游戏机、笔记本电脑、电视显示屏等液晶显示装置(LCD)用、PALC(等离子编址液晶)、等离子显示器等中使用的滤色片的制造方法、及利用该滤色片的制造方法制造的显示特性优越的滤色片、及使用了该滤色片的液晶显示装置。另外，根据本发明可知，能够减轻显影后观察到的不均(涂敷不均及显示不均)。图1是表示曝光装置的一例的外观的立体图。图2是表示曝光装置的扫描器的结构的一例的立体图。图3A是表示形成在感光层的被曝光面上的己曝光区域的俯视图。图3B是表示基于各曝光头的曝光区域的排列的俯视图。图4是表示曝光头的概略结构的一例的立体图。图5A是表示表示曝光头的具体结构的一例的俯视图。图5B是表示表示曝光头的具体结构的一例的侧面图。图6是表示图1的曝光装置的DMD的一例的局部放大图。图7A是用于说明DMD的运行的立体图。图7B是用于说明DMD的运行的立体图。图8是基于图案信息，控制DMD的控制器的一例。图9A是在将DMD没有倾斜配置的情况和倾斜配置的情况下，将曝光束的配置及扫描线比较而示出的俯视图的一例。.图9B是在将DMD没有倾斜配置的情况和倾斜配置的情况下，将曝光束的配置及扫描线比较而示出的俯视图的一例。图10是用于说明用基于扫描器的一次扫描将感光层曝光的曝光方式的俯视图的一例。图IIA是用于说明用基于扫描器的多次扫描将感光层曝光的曝光方式的俯视图的一例。图IIB是用于说明用基于扫描器的多次扫描将感光层曝光的曝光方式的俯视图的一例。图12A是表示沿以往的曝光装置中的焦点深度和基于本发明的图案形成方法(曝光装置)的焦点深度的差异的光轴的剖面图的一例。图12B是表示沿以往的曝光装置中的焦点深度和基于本发明的图案形成方法(曝光装置)的焦点深度的差异的光轴的剖面图的一例。图13是适合光量修正方法的曝光头的概略结构图的一例。图14A是以示意性表示照射在DMD上的聚光的主光线的斜度的示意图。图14B是以示意性表示照射在DMD上的聚光的主光线的分布的示意图。图15是对应于图14B所示的照射在DMD上的激光的主光线角度的分布(1)的、表示将具有主光线角度的机构照射在DMD上时的光量分布的曲线图(2)、表示DMD微透镜阵列间的光透过特性的曲线图(3)、表示以像所述曲线图(3)—样调节的激光进行图像曝光来使曝光区域上的光量分布均一化而被修正的状态的曲线图(4)。图16A是表示光量修正方法的第二实施方式中的具有非球面透镜的远心光学系的结构图。图16B是表示具有成为图15A的远心光学系基础的球磨透镜的远心光学系的结构图。图17是适合焦点位置精度修正方法的曝光头的结构示意图。图18A是表示投影透镜的俯视图。图18B是表示投影透镜的俯视图。图19是具备成像光学系的镜筒的概略侧面剖面图和镜筒的概略俯视图。图20A是用于说明构成DMD的微镜的使用区域的图。图20B是用于说明构成DMD的微镜的使用区域的图。图21是表示楔型棱镜组的结构的侧面图。图22是比欧式楔型棱镜组的概略立体图。图23是用于说明构成曝光头的光学要件的图。图24A是表示具备压电元件的微透镜阵列的结构的图。图24B是表示具备压电元件的微透镜阵列的结构的图。图25A是表示具备压电元件的微透镜阵列的结构的图。图25B是表示具备压电元件的微透镜阵列的结构的图。图26A是概略表示感光材料和DMD的位置关系的立体图和侧面图。图26B是概略表示感光材料和DMD的位置关系的立体图和侧面图。图27A是表示结合光学系的不同的其他曝光头的结构的沿光轴的剖面图的一例。图27B是表示在不使用微透镜阵列等的情况下投影于被曝光面的光像的俯视图的一例。图27C是表示在不使用微透镜阵列等的情况下投影于被曝光面的光像的俯视图的一例。图28A是构成微透镜阵列的微透镜的主视图的一例。图28B是构成微透镜阵列的微透镜的侧面图的一例。图29A是在一个剖面内表示基于微透镜的聚光状态的示意图的一例。图29B是在其他剖面内表示基于微透镜的聚光状态的示意图的一例。图30A是表示DMD的使用区域的图的一例。图30B是表示DMD的使用区域的图的一例。图31是表示在有曝光头的安装角度误差及图案形变时曝光面上的图案上产生的不均的例子的说明图。图32是表示基于一个DMD的曝光区域、和对应的间隙的位置关系的俯视图。图33是用于说明使用间隙测定被曝光面上的光点的位置的方法的俯视图。图34是表示曝光中只使用选择的微镜，其结果，曝光面上的图案生成的不均被改进的状态的说明图。图35是表示在邻接的曝光头间有相对位置的偏移时曝光面上的图案中产生的不均的例子的说明图。图36是表示基于邻接的两个曝光头的曝光区域、和对应的间隙的位置关系的俯视图。图37是用于说明使用间隙测定曝光面上的光点的位置的方法的俯视图。图38是表示只运行在图35的例子中选择的使用像素，曝光面上的图案中产生的不均被改进的状态的说明图。图39是表示在邻接的曝光头间有相对位置的偏移及安装角度误差时曝光面上的图案中产生的不均的例子的说明图。图40是表示仅使用在图39的例子中选择的使用描绘像素部的曝光的说明图。图41A是表示放大倍数形变的例子的说明图。图41B是表示束直径形变的例子的说明图。图42A是表示使用了单个曝光头的参照曝光的第一例的说明图。图42B是表示使用了单个曝光头的参照曝光的第一例的说明图。图43是表示使用了多个曝光头的参照曝光的第一例的说明图。图44A是表示使用了单个曝光头的参照曝光的第二例的说明图。图44B是表示使用了单个曝光头的参照曝光的第二例的说明图。图45是表示使用了多个曝光头的参照曝光的第二例的说明图。图46是表示适合锯齿减少方法的曝光装置中的曝光头的概略结构图。图47是表示曝光装置中的曝光头、和在曝光载物台中定位的片薄膜(感光材料)的关系说明图。图48是曝光装置中的曝光头、和片薄膜上的曝光区域的关系说明图。图49是适合锯齿减少方法的曝光装置的控制电路方框图。图50是构成使用于曝光装置中的曝光头的DMD的微镜的排列状态的说明图。图51是利用曝光装置中的曝光头形成的图像的参数的说明图。图52是利用曝光装置中的曝光头形成的图像的参数的说明图。图53是利用曝光装置中的曝光头形成的图像的参数的说明图。图54是利用曝光装置中的曝光头形成的图像的锯齿间距及锯齿振幅的计算结果说明图。图55是利用曝光装置中的曝光头形成的图像的锯齿间距及锯齿振幅的计算结果说明图。图56是利用曝光装置中的曝光头形成的图像的锯齿间距及锯齿振幅的计算结果说明图。。图57是利用曝光装置中的曝光头形成的图像的锯齿间距及锯齿振幅的计算结果说明图。图58是利用曝光装置中的曝光头形成的图像的锯齿间距及锯齿振幅的计算结果说明图。图59是利用曝光装置中的曝光头形成的图像的锯齿间距及锯齿振幅的计算结果说明图。图60是利用曝光装置中的曝光头形成的图像的边缘粗糙度的说明图。图61是利用曝光装置中的曝光头形成的被曝光部的边缘粗糙度的说明图。具体实施方式(滤色片的制造方法)本发明的滤色片的制造方法至少包括曝光工序，包括感光层形成工序、显影工序、以及根据需要适当选择的其他的工序而成。本发明的滤色片利用本发明的所述滤色片的制造方法制造。本发明的液晶显示装置使用本发明的所述滤色片而成，而且根据需要具有其他机构而成。以下，通过说明本发明的滤色片的制造，本发明的滤色片及液晶显示装置的具体情况也变得明确。[感光层形成工序]所述感光层形成工序使用感光性组合物在基材的表面至少形成感光层的工序，而且是形成适当选择的其他层的工序，该感光性组合物是包含粘合剂、聚合性化合物、着色剂、及光聚合引发剂的感光性组合物，所述着色剂中含有的颜料的平均粒径最大为100nm，且该颜料的所述感光性组合物的固态成分中的含量至少为30质量％。作为所述感光层、及其他层的方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出利用涂敷形成的方法、对片状各层进行加压及加热的至少任一种来层叠而形成的方法、它们的合用等。作为所述感光层形成工序，可以适当举出以下所示的第一方式的感光层形成工序及第二方式的感光层形成工序。作为第一方式的感光层形成工序，可以举出通过向基材的表面涂敷所述感光性组合物，并将其干燥，在基材的表面至少形成感光层，进而，形成适当选择的其他层的工序。作为第二方式的感光层形成工序，可以举出向基材的表面，在加热及加压的至少任一种下层叠将所述感光性组合物成形为薄膜状的感光性薄膜(以下，有时称为"感光性转印材料")，由此，在基材的表面至少形成感光层，进而形成适当选择的其他层。在第一方式的感光层形成工序中，作为所述涂敷及干燥的方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出将所述感光性组合物溶解、乳化或分散于水或溶剂中，配制感光性组合物溶液，将该溶液直接涂敷于所述基材的表面，将其干燥，由此层叠的方法。作为所述感光性组合物溶液的溶剂，不特别限制，可以根据目的适当选择。作为所述涂敷的方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出使用旋涂机、狭缝涂敷机、辊涂机、模涂机、帘涂机等，向所述基材直接涂敷的方法。在本发明中，优选使用在液体喷出的部分具有狭缝状孔的狭缝状喷嘴的涂敷装置(狭缝涂敷机)来进行。具体来说，适合使用特开2004—89851号公报、特开2004—17043号公报、特开2003—170098号公报、特开2003—164787号公报、特开2003—10767号公报、特开2002一79163号公报、特开2001—310147号公报等中记载的狭缝状喷嘴或者狭缝涂敷机。作为所述干燥条件，根据各成分、溶剂的种类、使用比例等的不同而不同，但在通常60H(TC温度下为30秒钟15分钟左右。所述感光层的光学特性，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以由吸光度、厚度等来表示。所述吸光度由透过率的常用对数、即吸光度^一log(T/100)表示。其中，T在将试料上照射的光的强度设为X，将通过了试料后的光的强度设为Y时，由T-X/Y表示。例如，若透过率=85.3%，则吸光度(abs)=—log(85.3/100)=0.069。该吸光度在黑图像用感光材料的情况下是指每当记录时使用的激光的峰波长下的所述感光层的吸光度，在黑以外的图像用感光材料的情况下是指在350750nrn中作为透过率最大的峰波长下所述感光层的吸光度，例如，可以使用公知的分光光度计进行测定，可以使用(株)岛津制作所制UV—分光光度计UV—240等。另外，所述吸光度通过包括支撑体的吸光度值减去支撑体单独的吸光度值的值表示。所述感光层的厚度可以通过通过由环氧树脂包埋涂敷的材料，然后用低温切片机切削，对剖面进行SEM观察等来读取。所述感光层中，将记录中使用的激光的吸收波长或透过率最大的峰波长下的该感光层的吸光度设为A，将该感光层的厚度设为X(pm)的情况下，所述感光层的光学特性可以通过A/X来表示。所述A/X的值不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，在黑图像用感光材料的情况下，优选2.05.0，更优选2.44.6，尤其优选3.04.4。另外，在黑以外的图像用感光材料的情况下，优选1.02.8，更优选1.32.5，尤其优选1.62.2。若所述A/X小于1.0，则图像显示有时得不到充分的浓度，若大于5.0，则利用曝光的膜固化不充分，有时得不到显影性。当然，图像显示不需要光学浓度的情况下，也可以为比1.0小的值。作为在第一方式的感光层形成工序中形成的其他层，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，举出阻氧层、剥离层、粘接层、光吸收层、表面保护层等。作为所述其他层的形成方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出在所述感光层上涂敷的方法、层叠形成为片状的其他层的方法等。在所述第二方式的感光层形成工序中，作为在基材的表面形成感光层、以及根据需要适当选择的其他层的方法，可以适当举出在进行加热及加压的至少任一种的同时层叠在所述基材的表面具有层叠支撑体、和该支撑体上的感光性组合物而成的感光层、和根据需要适当选择的其他层的的感光性薄膜(感光性转印材料)，将在支撑体上层叠感光性组合物而成的感光性薄膜以使该感光性组合物位于基材的表面侧的方式层叠，然后将支撑体从感光性组合物上剥离的方法。通过剥离所述支撑体，防止由于支撑体引起的光的散射或折射等影响，导致在感光性组合物层上成像的像中产生模糊像，从而以高析像度得到规定的图案。还有，在所述感光性薄膜具有后述的保护薄膜的情况下，优选剥离该保护薄膜，以所述感光层叠合的方式层叠于所述基材。所述加热温度不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，优选70160°C，更优选80110。C。所述加压的压力不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，优选0.011.0MPa，更优选0.051.0MPa。作为进行加热及加压的至少任一种的装置，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，适合举出热压机、热辊层压机(例如，(株)日立工业制、LamicII型)、真空层压机(例如，名机制作所制、MVLP500)等。作为所述支撑体，不特别限制，可以根据目的适当选择，优选可以剥离所述感光层，光的透过性良好的支撑体，更优选进而表面的平滑性良好的支撑体。所述支撑体的厚度，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，优选4300pm，更优选5175pm，尤其优选10100pm。所述支撑体的形状不特别限制，可以根据目的适当选择，优选长条状。所述长条状的支撑体长度不特别限制，，例如，可以举出1020，OOOm的长度的支撑体。所述支撑体优选合成树脂制，且透明的支撑体，例如，可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、三乙酸纤维素、二乙酸纤维素、聚(甲基)丙烯酸垸基酯、聚(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚偏二氯乙烯共聚物、聚酰胺、聚酰亚胺、氯化乙烯*乙酸乙烯酯共聚物、聚四氟乙烯、聚三氟乙烯、纤维素系薄膜、尼龙薄膜等各种塑料薄膜，其中，特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。这些可以单独使用一种，也可以合用两种以上。还有，作为所述支撑体，例如，还可以使用特开平4一208940号公报、特开平5—80503号公报、特开平5—173320号公报、特开平5—72724号公报等中记载的支撑体。所述感光性薄膜中的感光层的形成可以使用与向所述基材涂敷所述感光性组合物并将其干燥(所述第一方式的感光层形成方法)相同的方法进行。所述保护薄膜是防止所述感光层的污染或损伤，具有保护的功能的薄膜。所述保护薄膜的厚度不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，优选5100jim，更优选850pm，尤其优选1040^m。所述保护薄膜的在所述感光性薄膜设置的部位不特别限制，可以根据目的适当选择，通常，设置在所述感光层上。在使用所述保护薄膜的情况下，所述感光层及所述支撑体的粘接力A、和所述感光层及保护薄膜的粘接力B的关系优选粘接力A〉粘接力B。作为所述支撑体和所述保护薄膜的静摩擦系数，优选0.3L4，更优选0.5l-2。若所述静摩檫系数小于0.3，则过度滑溜，有时在巻绕成辊状的情况下容易发生巻绕偏移，若大于1.4，则有时难以巻绕成良好的辊状。作为所述保护薄膜，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出在所述支撑体上使用的薄膜、硅酮纸、聚乙烯、聚丙烯层叠的纸、聚烯烃或聚四氟乙烯片等，其中，尤其优选举出聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜等。作为所述支撑体和保护薄膜的组合(支撑体/保护薄膜)，例如，可以举出特开2005—70767号公报的段落编号0151中记载的组合或聚对苯二甲酸乙二醇酯/聚对苯二甲酸乙二醇酯等。作为所述保护薄膜，为了满足上述粘接力的关系，优选为了配制所述保护薄膜和所述感光层的粘接性而进行表面处理，例如，可以举出特开2005—70767号公报的段落编号0151中记载的方法等。作为所述其他层，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出热塑性树脂层、中间层等。一热塑性树脂层一所述热塑性树脂层(以下，有时也称为"缓冲层")从能够显影，另外，能够防止在转印时突出的该热塑性树脂层污染被转印体的观点出发，优选碱可溶性，优选具有作为有效防止在将所述感光性转印材料转印于被转印体上时，该被转印体上存在的凹凸引起而发生的转印不良的缓冲材料的功能，更优选在将该感光性转印材料加热密接于所述被转印体上时，可以根据该被转印体上存在的凹凸而变形。作为所述热塑性树脂层中使用的材料，例如，优选特开平5—72724号公报中记载的有机高分子物质，尤其优选从利用维卡一Vicat法(具体来说，利用美国材料试验法ASTMD1235的聚合物软化点测定法)测得的软化点在约80。C以下的有机高分子物质选择。具体来说，可以举出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃，乙烯与醋酸乙烯酯的共聚物或其皂化物等乙烯共聚物，乙烯与丙烯酸酯的共聚物或其皂化物、聚氯乙烯、氯乙烯与醋酸乙烯酯的共聚物及其皂化物等氯乙烯共聚物，聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯与(甲基)丙烯酸酯的共聚物或其皂化物等苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯与(甲基)丙烯酸酯的共聚物或其皂化物等乙烯基甲苯共聚物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯与醋酸乙烯酯的共聚物等(甲基)丙烯酸酯共聚物，醋酸乙烯酯共聚物尼龙、共聚合尼龙、N—烷氧基甲基化尼龙、N—二甲基氨基化尼龙等聚酰胺树脂等有机高分子。所述热塑性树脂层的干燥厚度优选23(^m，更优选520pm，尤其优选716萍。一中间层一所述中间层设置在所述感光层上，所述感光层转印材料具有热塑性树脂层的情况下，设置在该感光层和该热塑性树脂层之间。该感光层和该热塑性树脂层的形成中，使用有机溶剂，因此，若该中间层位于其间，则能够防止两层相互混合。作为所述中间层，优选分散乃至溶解于水或碱水溶液中。作为所述中间层的材料，可以使用公知的材料，例如，可以举出特开昭46—2121号公报及特公昭56—40824号公报中记载的聚乙烯酯/马来酸酐聚合物、羧基烷基纤维素的水溶性盐、水溶性纤维素酯类、羧基烷基淀粉的水溶性盐、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酰胺类、水溶性聚酰胺、聚丙烯酸的水溶性盐、明胶、环氧乙烯聚合物、各种淀粉及其类似物构成的组的水溶性盐、苯乙烯/马来酸的共聚物、马来酸酯树脂等。这些可以单独使用一种，也可以合用两种以上。其中，优选使用亲水性高分子，在该亲水性高分子中，也至少优选使用聚乙烯醇，尤其优选合用聚乙烯醇和聚乙烯吡咯垸酮。作为所述聚乙烯醇，不特别限制，可以根据目的适当选择，优选其皂化率为80%以上。在使用所述聚乙烯吡咯垸酮的情况下，其含量相对于该中间层的固体成分优选为175质量％，更优选160质量％，尤其优选1050质量％。所述含量若为175质量％，则容易得到与所述感光层的充分的密接性，且还难以降低阻氧能力。所述中间层优选氧透过率小。在所述中间层的氧透过率小，且阻氧能力高的情况下，不需要在对所述感光层曝光时增加光量，曝光时间短，容易得到高的析像度。所述中间层的厚度不特别限制，可以根据目的适当选择，优选0.15pm左右，更优选0.52jum。若所述厚度为0.15pm，则氧透过性不会过高，且在显影时或中间层除去时不需要长时间。作为所述感光性薄膜的结构，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出在所述支撑体上依次具有热塑性树脂层、中间层、感光层的方式等。还有，所述感光层可以为单层，也可以为多层。所述感光性薄膜，例如，优选巻绕在圆筒状巻芯，以长条状巻绕成辊状而保管。作为所述长条状感光性薄膜的长度，不特别限制，例如，可以从1020，OOOm的范围适当选择。另外，也可以进行间隙切割加工，以便使用人便于使用，将1001，OOOm的范围的长条体形成为辊状。还有，在这种情况下，优选巻绕成所述支撑体位于最外侧。另外，也可以将所述辊状感光性薄膜切割为片状。从防止在保管时的端面的保护、熔边的观点出发，端面优选设置分隔片，另外，优选包装使用透湿性低的原材料。所述分隔片尤其优选防湿性材料、混有干燥剂的材料。所述感光性薄膜，广泛用作印刷电路板、滤色片或液晶取向控制用突起、间隔物、隔壁等显示器用部件、全息照片、微机、校验机等的图案形成用，其中可以适合使用于本发明的滤色片的制造方法。还有，作为对具有利用所述第二方式的感光性形成方法形成的感光层的层叠体的曝光方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，在支撑体上经由缓冲层存在的感光层构成的薄膜的情况下，优选剥离所述支撑体，根据需要也剥离缓冲层之后，经由所述阻氧层对所述感光层进行曝光。<感光层>作为在所述感光层形成工序中形成的感光层(彩色光阻(colorresist)层)，使用至少包含粘合剂、着色剂、聚合性化合物、及光聚合引发剂，所述着色剂中含有的颜料的数均粒径最大为100nm，且该颜料的所述感光性组合物的固态成分中的含量至少为30质量°/。，而且含有根据需要适当选择的其他成分的感光性组合物。粘合剂》作为所述粘合剂，例如，优选对碱性水溶液为溶胀性，更优选对碱性水溶液为可溶性。作为对碱性水溶液显示溶胀性或溶解性的粘合剂，例如，可以适当举出具有酸性基的粘合剂。作为所述酸性基，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可举出羧基、磺酸基、磷酸基等，其中也优选羧基。作为具有羧基的粘合剂，例如，可以举出具有羧基的乙烯基共聚物、聚氨酯树脂、聚酰胺酸树脂、改性环氧树脂等，其中，从向涂敷溶剂的溶解性、向碱显影液的溶解性、合成适合性、膜物性的调节的容易度等的观点出发，优选具有羧基的乙烯基共聚物。所述具有羧基的乙烯基共聚物可以至少通过(1)具有羧基的乙烯基单体、及(2)与这些能够共聚的单体的共聚合来得到。作为这些单体，具体来说，例如，可以举出特开2005—258431号公报的段落编号01640205所述的化合物等。作为所述感光层中的所述粘合剂的含量，不特别限定，可以根据目的适当选择，例如，相对于感光层的总固态成分优选580质量％，更优选1070质量％，特别优选1550质量％。若所述含量为580质量％，则与碱显影性或基板的粘附性降低不会降低，对显影时间的稳定性或固化膜的(遮盖膜)的强度也不降低。还有，所述含量也可以为所述粘合剂和根据需要合用的高分子结合剂的总计含作为所述粘合剂的酸值，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如，优选70250mgKOH/g，更优选90200mgKOH/g，特别优选100180mgKOH/g。若所述酸值小于70mgKOH/g，则有时显影性不足、或析像性变差，不能高精细地得到配线图案等永久图案，若大于250mgKOH/g，则图案的耐显影液性及粘附性的至少任一种变差，有时不能高精细地得到图案。<<聚合性化合物>>作为所述聚合性化合物，不特别限制，可以根据目的适当选择，优选在分子中具有至少1个加聚的基团、沸点在常压下为IOCTC以上的化合物，例如，适合举出从具有(甲基)丙烯酰基的单体选择的至少一种。作为所述具有(甲基)丙烯酰基的单体，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出向聚乙二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯以及(甲基)丙烯酸苯氧基乙基酯等单官能丙烯酸酯或单官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙垸三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三(丙烯酰氧基乙基)三聚异氰酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)三聚氰酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯；向三羟甲基丙烷或甘油、双酚等多官能醇加成环氧乙垸或环氧丙烷之后(甲基)丙烯酸酯化的产物等、特公昭48—41708号公报、特公昭50—6034号公报及特开昭51—37193号公报中记载的尿烷丙烯酸酯类；特开昭48一641S3号公报、特公昭49—43191号公报及特公昭52—30490号公报中记载的聚酯丙烯酸酯类；作为环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应产物的环氧丙烯酸酯类等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等。其中，优选三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。这些可以单独使用一种，也可以合用两种以上。所述聚合性化合物的所述感光性组合物固态成分中的固态成分含量优选1060质量％，更优选1550质量％，尤其优选2040质量％。若该固态成分含量为1060质量％，则显影性的变差、曝光感度的降低等问题不发生。另外，还没有感光层的粘合性变得过大的情况。所述聚合性化合物和所述粘合剂的比率以质量比优选聚合性化合物/粘合剂=0.51.5，更优选0.61.2，尤其优选0.651.1。若在这个范围，则显影时不产生残渣，完成的滤色片的耐力性也不降低。<<光聚合引发剂>>作为所述光聚合引发剂，只要具有引发所述聚合性化合物的聚合的能力，就不特别限制，可以从公知的光聚合引发剂中适当选择，例如，优选对从紫外线区域到可见光线具有感光性的光聚合引发剂，也可以与被光激励的增感剂发生某种作用，生成活泼自由基的活泼剂，也可以根据单体的种类引发阳离子聚合的引发剂。另外，所述光聚合引发剂优选至少含有一种在波长约300800nm的范围内具有至少约50的分子吸光系数的成分。所述波长更优选330500亂作为所述光聚合引发剂，例如，可以举出卤化烃衍生物(例如，具有三嗪骨架的、具有噁二唑骨架的等)、膦氧化物、六芳基联二咪唑、肟衍生物、有机过氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族錄盐、酮肟醚等。作为所述肟衍生物以外的光聚合引发剂，具体来说，例如，可以举出特开2005—258431号公报中记载的段落编号02880299及段落编号03050308中记载的化合物等。作为在本发明中优选使用的肟衍生物，例如可以举出3—苯甲酰氧基亚氨基丁垸一2—酮、3—乙酰氧基亚氨基丁垸一2—酮、3—丙酰氧基亚氨基丁烷一2—酮、2—乙酰氧基亚氨基庚垸一3—酮、2—乙酰氧基亚氨基一l一苯基丙垸一l一酮、2—苯甲酰氧基亚氨基一1一苯基丙烷一1一酮、3—(4一甲苯磺酰氧基)亚氨基丁烷一2—酮、及2—乙氧羰基氧亚氨基一1一苯基丙烷一l一酮等。所述光聚合引发剂的含量相对于所述感光性组合物中的总固体成分为0.150质量％，更优选0.530质量％，尤其优选120质量％。所述光聚合引发剂的含量用与所述聚合性化合物的质量比表示的情况下，优选光聚合引发剂/聚合性化合物=0.010.2，更优选0.020.1，尤其优选0.030.08。若为该范围内，则不存在显影残渣产生，或析出故障发生的问题。另外，容易得到充分的感度。另外，为了调节后述的对感光层的曝光中的曝光强度或感光波长，除了所述光聚合引发剂，还可以添加增感剂。可以根据后述的作为光照射机构的可见光线或紫外光激光及可见光激光器等来适当选择所述增感剂。所述增感剂在活性能量线的作用下成为激励状态，可以通过与其他物质(例如自由基产生剂、酸产生剂等)相互作用(例如能量移动、电子移动等)，产生自由基或酸等有用基。作为所述增感剂，没有特别限制，可以从公知的增感剂中适当选择，例如可以举出特开2005—258431号公报的段落编号03130314中记载的化合物等。上述增感剂的含量，相对所述感光性组合物中的全部成分，优选为0.0530质量％，更优选为0.120质量％，特别优选为0.210质量％。该含量如果为0.0530质量％,则对活性能量线的感度不降低，曝光工序为短时间，实现高生产率。在保存时上述增感剂从上述感光层不析出。所述光聚合引发剂可以单独使用一种，也可以合用两种以上。作为所述光聚合引发剂的特别优选的例子，可以举出在后述的曝光中，可以应对波长405nm的激光的上述氧化膦类、上述a—氨基烷基酮类、组合了上述具有三嗪骨架的卤代烃化合物与后述的作为增感剂的胺化合物的合成光引发剂，六芳基联二咪唑化合物，或者二茂钛(titanocene)等。着色剂〉>作为所述着色剂，只要是所述着色剂中含有的颜料的平均粒径最大为100nm，且该颜料的所述感光性组合物的固态成分中的含量至少为30质量%，就不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出有机颜料、无机颜料、染料等。作为着色剂，还可以含有与这些着色剂不同地或合用的、选自配位了金属粒子的树状支化分子、及含有金属粒子及合金粒子的至少任一种的金属系粒子的树状支化分子的任一个树状支化分子。作为所述着色剂，可以举出黄色颜料、红色颜料、紫颜料、蓝色颜料、绿色颜料、棕色颜料、黑色颜料等，但在形成滤色片的情况下，使用分别着色为3基色(B、G、R)及黑色(K)的多个感光性组合物，因此，适合使用蓝色颜料、绿色颜料、红色颜料、及黑色颜料。作为所述颜料，例如，适合举出特开2005—17716号公报-中记载的色材、特开2005—361447号公报中记载的颜料或特开2005—17521号公报中记载的着色剂等。还有，上述有机颜料、无机颜料、或染料等着色剂可以单独使用一种，或还可以组合两种以上使用。在本发明中，作为用于在携式终端或便携式游戏机等设备中的透过模式、及反射模式的任一种下都有效地实现良好的显示特性(颜色更浓)的所述着色剂的组合，优选(i)在R的感光性组合物中使用颜料C.I.颜料红254,(ii)在G的感光性组合物中合用颜料C.I.颜料绿36及颜料C.I.颜料黄139，(iii)在B的感光性组合物中使用颜料C.I.颜料蓝15:6。另外，在本发明中，作为在使用于笔记本电脑用显示器或电视显示屏等大画面的液晶显示装置等的情况下，用于实现高的显示特性(色再现区域宽，色温度高)的所述着色剂的组合，优选(I)红色(R)的感光性组合物中使用颜料C.I.颜料红254及C.I.颜料红177的至少任一个，(II)在绿色(G)的感光性组合物中合用颜料C.I.颜料绿36及颜料C.I.颜料黄150，(III)在蓝色(B)的感光性组合物中合用颜料C.I.颜料蓝15:6及C.I.颜料紫23。在使用上述着色剂的情况下，所述颜料的数均粒径最大为100nm，就不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，优选1080nm，更优选2060nm，尤其优选3040nm。所述颜料的数均粒径若小于10nm，则有时滤色片的制作时、及制作后的稳定性不足够，若大于100nm，则有时不能充分得到边缘粗糙度降低的效果。为了使所述颜料的数据粒径为10100nm，可以利用公知的方法将颜料进行微细化处理来实现。所述颜料微循环处理的具体例，可以举出特开2001—214077号公报的段落00210030中记载的磨碎法、析出法、合成析出法等。进而，通过调节颜料分散物的分散时间，也可以进行颜料微细化。为了分散，可以使用公知的分散机。分散时间优选1030小时，更优选1830小时，尤其优选2430小时。通过设为所述分散时间范围，能够将颜料的数据粒径设为上述优选范围。作为在分散所述颜料时使用的分散机，不特别限制，例如，可以举出朝仓邦造著，"颜料的事典"，第一版，朝仓书店，2000年，438页中记载的捏合机(kneader)、辊磨机(rollmill)、磨碎机(attritor)、超微磨机(supermill)、高速分散器(dissolver)、均质混合器(homomixer)、砂磨机(sandmill)等公知的分散机等。进而也可以通过该文献310页记载的机械磨碎，利用摩擦力微粉碎颜料。还有，在此所说的"粒径"是指将粒子的电子显微镜照片图像做成同面积的圆时的直径，另外，"数均粒径"是指利用多个粒子求出上述粒径，对100个取的平均值。在此，所述边缘粗糙度是指由于从曝光装置射出的激光导致的描绘在感光性材料的感光层面的被曝光部的线宽度的不均及被曝光部的浓度的不均。所述边缘粗糙度由于所述曝光装置的光照射机构等的精度或感光性材料的光学特性的不均而产生。本发明的感光性组合物可以通过限定所述颜料的粒径，限定该颜料的所述感光性组合物的固态成分中的含量来抑制所述感光性材料的光学特性的不均，能够减小所述边缘粗糙度。所述边缘粗糙度，具体来说，如图50-所示，是指在将所述感光性材料的扫描方向定义为y，将与扫描方向正交的方向定义为x，将沿大致扫描方向y排列的微镜40的列定义为细长列(swath)77的情况下，由该细长列77描绘的被曝光部的线宽度或浓度的不均。所述细长列77为了提高描绘的图像的x方向上的析像度，相对于x方向，设定为规定的角度0s(以下，称为细长列倾斜角度9s(-90°))，该细长列77上，包含DMD像素A、B的像素以等间隔排列。但是，以所述细长列77的精度感光性材料的光学特性等为原因，如图61所示，产生相对于被曝光部210的中心线212，线宽度214的大小不均，线宽度变粗，或变细的部分(边缘粗糙度)。作为所述边缘粗糙度的评价方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出使用激光显微镜(VK—9500、基恩斯(年一工y只)(株)制、物镜50倍)观察线宽度30pm的线的任意五处，求出视野内的边缘位置中最膨出的部位(山顶部)、与最凹陷的部位(谷底部)之差的绝对值，算出观察的五处的平均值，将该平均值作为评价基准的方法等。作为在这种情况下的边缘粗糙度，值越小，越显示良好的性能，因此优选。具体来说，优选lpm以下，更优选0.5pm以下。若所述平均值大于lpim，则有时析像度降低，滤色片的对比度降低。另外，如图60所示，与图中的中央部所示的适当曝光的情况相比，有时像面向图时的左侧的粗线一样，由于所述各像素的列方向的重叠、或所述感光性材料的感度等，导致曝光过多。有时像另一方右侧的虚线一样，由于所述各像素的列方向的间隙、或所述感光性材料的感度等，导致曝光不足。由于该曝光过多或曝光不足，导致被曝光部产生浓淡，成为边缘粗糙度。所述颜料的所述感光性组合物的固态成分中的含量至少为30质量％，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，优选3060质量％，更优选3560质量％，尤其优选4560质量％。若所述颜料的含量为3060质量％，则每单位厚度的光学浓度不至于不充分，不需要为了实现希望的光学浓度而增加膜厚。另外，容易显示曝光部和未曝光部对显影液的溶解性之差。<<其他成分>>所述感光性组合物也可以含有例如，热交联剂、增塑剂、表面活性剂、紫外线吸收剂、热聚合抑制剂等成分作为其他成分。作为所述热交联剂，不特别限制，可以根据目的适当选择，为了改进使用所述感光性组合物形成的感光层的固化后的膜强度，在不对显影性等产生差的影响的范围内，例如，可以使用在一个分子内具有至少两个环氧乙垸基的环氧树脂化合物、在一个分子内具有至少两个氧杂环丁垸基的氧杂环丁烷化合物、蜜胺树脂化合物等。作为所述环氧树脂化合物，例如可以举出双二甲苯酚型或双酚型环氧树脂("YX4000日本环氧树脂(-亇^y工求年、yp^y)公司制"等)或它们的混合物、具有三聚异氰酸酯骨架等的杂环式环氧树脂("TEIPIC;日产化学工业公司制"、"7，/P夕、V卜PT810;fv《只入、乂亇少亍^么S力》乂公司制"等)、双酚A型环氧树脂、酚酸清漆型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、氢化双酚A型环氧树脂、縮水甘油胺型环氧树脂、己内酰脲型环氧树脂、脂环式环氧树脂、三羟基苯基甲烷型环氧树脂、双酚S型环氧树脂、双酚A型酚醛清漆型环氧树脂、四苯酚基乙烷型环氧树脂、邻苯二甲酸縮水甘油基酯树脂、四縮水甘油基二甲苯酚酰基(年乂^乂^A)乙垸树脂、含萘基环氧树脂("ESN—190、ESN—360;新日铁化学公司制"、"HP—4032、EXA—4750、EXA—4700;大日本油墨化学工业公司制"等)、具有二环戊二烯骨架的环氧树脂("HP—7200、HP—7200H;大日本油墨化学工业公司制"等)、甲基丙烯酸缩水甘油酯共聚物环氧树脂("CP—50S、CP—50M;日本油脂公司制"等)、环己基马来酰亚胺与甲基丙烯酸縮水甘油酯的共聚合环氧树脂等，但不被这些所限定。这些环氧树脂可以单独使用一种或合用两种以上。作为所述氧杂环丁垸化合物，例如可以举出双[(3—甲基一3—氧杂环丁垸基甲氧基)甲基]醚、双[(3—乙基一3—氧杂环丁垸基甲氧基)甲基]醚、1，4一双[(3—甲基一3—氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]苯、1，4一双[(3—乙基一3—氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]苯、丙烯酸(3—甲基一3一氧杂环丁烷基)甲基酯、丙烯酸(3—乙基—3—氧杂环丁烷基)甲基酯、甲基丙烯酸(3—甲基一3—氧杂环丁烷基)甲基酯、甲基丙烯酸(3—乙基一3—氧杂环丁烷基)甲基酯竭它们的寡聚物或者共聚物等多官能氧杂环丁烷类，除此以外，还可以举出氧杂环丁烷基与酚醛清漆树脂、聚(对羟基苯乙烯)、卡尔多(力々K)型双酚类、杯(Calix，力y、乂夕7)芳烃类、杯(Calix，力y:y夕7)间苯二酚芳烃类、倍半硅氧烷(Silsesquioxane，、乂》ir7年才年f"y)等具有羟基的树脂等之间的醚化合物，此外，还可以举出具有氧杂环丁烷环的不饱和单体与(甲基)丙烯酸垸基酯之间的共聚物等。作为所述蜜胺树脂化合物，例如，可以举出烷基化羟甲基蜜胺、六甲基化羟甲基蜜胺等。所述环氧树脂化合物或氧杂环丁烷化合物在所述图感光性组合物固态成分中的固态成分含量优选为150质量％，更优选为330质量％。如果该固体成分含量不到1质量％，则固化膜的吸湿性会变高，有时会发生绝缘性的劣化，如果超过50质量。Z，则有时会发生显影性的恶化或曝光感度的降低，故不优选。另外，为了促进所述环氧树脂化合物或所述氧杂环丁烷化合物的热固化，例如可以使用二氰基二酰胺、苄基二甲胺、4一(二甲胺)一N，N—二甲基苄胺、4一甲氧基一N，N—二甲基苄胺、4一甲基一N，N—二甲基苄胺等胺化合物；三乙基苄基氯化铵等季铵盐化合物；二甲胺等封闭型异氰酸酯化合物；咪唑、2—甲基咪唑、2—乙基咪唑、2—乙基一4—甲基咪唑、2—苯基咪唑、4一苯基咪唑、l一氰乙基一2—苯基咪唑、l一(2—氰乙基)—2—乙基一4一甲基咪唑等咪唑衍生物二环式二胺化合物及其盐；三苯膦等磷化合物；蜜胺、鸟粪胺、甲基胍胺、苯鸟粪胺等鸟粪胺化合物；2，4一二氨基—6—甲基丙烯酰氧基乙基一S—三嗪、2—乙烯基一2,4—二氨基一S—三嗪、2—乙烯基一4，6—二氨基一S—三嗪.三聚异氰酸加成物、2，4—二氨基一6—甲基丙烯酰氧基乙基一S—三嗪'三聚异氰酸加成物等S—三嗪衍生物等。它们可以单独使用一种或合用两种以上。此外，只要是所述环氧树脂化合物或所述氧杂环丁烷化合物的固化催化剂或者可以促进羧基与它们的反应的物质即可，没有特别限制，也可以使用所述以外的可以促进热固化的化合物。可以促进所述环氧树脂、所述氧杂环丁垸化合物以及它们和羧酸的热固化的化合物，在所述感光性组合物固态成分中的固态成分含量通常为0.0115质量％。另外，作为所述热交联剂，可以使用特开平5—9407号公报中记载的聚异氰酸酯化合物，该聚异氰酸酯化合物也可以从至少含有两个异氰酸酯基的脂肪族、环式脂肪族或芳香族基取代脂肪族化合物衍生。具体而言，可以举出l，3—亚苯基二异氰酸酯与1，4—亚苯基二异氰酸酯的混合物、2，4一及2，6—甲苯二异氰酸酯、1，3—及1，4一二甲苯二异氰酸酯、双(4一异氰酸酯一苯基)甲烷、双(4一异氰酸酯一环己基)甲烷、异佛尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯等二官能异氰酸酯；该二官能异氰酸酯与三羟甲基丙烷、季戊四醇、甘油等的多官能醇；该多官能醇的环氧烷烃加成物与所述二官能异氰酸酯的加成物；六亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基一l，6—二异氰酸酯及其衍生物等环式三聚物等。进而，为了提高本发明的感光性组合物或本发明的感光性薄膜的保存性，也可以使用使嵌段剂与所述聚异氰酸酯及其衍生物的异氰酸酯基反应得到的化合物。作为所述异氰酸酯基嵌段剂，可以举出异丙醇、叔丁醇等醇类；s—己内酰胺等内酰胺类；苯酚、甲酚、对叔丁基苯酚、对仲丁基苯酚、对仲戊基苯酚、对辛基苯酚、对壬基苯酚等苯酚类、3—羟基吡徒、8—羟基喹啉等杂环式羟基化合物；丙二酸二烷基酯、甲基乙基甲酮J3亏、乙酰丙酮、烷基乙酰乙酸肟、丙酮月亏、环己酮肟等活性亚甲基化合物等。此外，还可以使用特开平6—295060号公报中记载的在分子内具有至少一个可以聚合的双键及至少一个封闭型异氰酸酯基的任意一方的化合物等。另外，可以使用醛缩合产物、树脂前体等。具体来说，可以举出N，N'—二羟甲基尿素、N，N'—二羟甲基丙二酰胺、N,N'—二羟甲基琥珀酰胺、三羟甲基蜜胺、四羟甲基蜜胺、六羟甲基蜜胺、1，3—N，N，一二羟甲基对苯二甲酸酰胺、2，4，6—三羟甲基苯酚、2，6—二羟甲基一4一羟甲基茴香酰、1，3—二羟甲基一4，6—二异丙基苯等。还有，也可以代替这些羟甲基化合物，使用对应的乙基或丁基酯、或乙酸或丙酸的酯。另外，也可以使用蜜胺和尿素的甲醛縮合产物构成的六甲氧基甲基蜜胺、或蜜胺和甲醛缩合产物的丁基酯等。所述热交联剂的添加量可以在不牺牲本发明的效果的范围内添加，所述热交联剂的含量优选感光性组合物的总固态成分的0.0110质量％，更优选0.025质量％，尤其优选0.053质量％。所述增塑剂也可以为了控制所述感光层的膜物性(挠曲性)而添加。所述增塑剂，例如，可以举出特开2005—258431号公报的段落编号0318中记载的化合物等。所述增塑剂的含量优选所述感光层的总成分为0.150质量％，更优选0.540质量％，尤其优选130质量％。作为所述表面活性剂，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以从阴离子系表面活性剂、阳离子系表面活性剂、非离子系表面活性剂、两性表面活性剂等适当选择。而且，作为所述表面活性剂，可以适当举出下式C8FnSO2NCR"CH2CH2O(CH2CH20NR2)表示的氟系表面活性剂。其中，式中W及W分别表示氢原子或碳原子数14的垸基，n表示230的整数。作为所述R'，适当举出甲基、乙基、异丙基，作为所述R2，适当举出氢原子。作为所述n，优选1025，更优选1020。作为由所述式表示的表面活性剂的具体例，可以举出麦克法克F—141(n=5)、F—142(n=10)、F-143(n=15)、F—144(n=20)(都是商品名大日本油墨化学工业(株)制)。而且，作为所述表面活性剂，适当举出下式(1)(5)表示的表面活性剂。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage42</formula>在所述式(1)(4)中，R'及W为碳原子数为118的垸基，优选碳原子数110，更优选碳原子数14的烷基。作为所述烷基，可以举出饱和烷基、不饱和垸基。作为所述烷基的结构，可以举出具有直链结构、支化结构的垸基，其中，优选举出具有支化结构的垸基。作为所述垸基的具体例，可以举出甲基、乙基、丙基、丁基、庚基、己基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十六烷基、十八烷基、二十垸基、二十二烷基、2—氯代乙基、2—溴代乙基、2—氰基乙基、2—甲氧基羰基乙基、2—甲氧基乙基、3—溴代丙基等。另外，这些垸基可以被卤素原子、酰基、氨基、氰基、烷基、垸氧基、可被烷基或卣代烷基取代的芳基、酰胺基等取代。在所述式(1)(4)中，Rfl及Rf2分别独立表示碳原子数118，优选212，更优选410的全氟基。作为所述全氟基，可以举出饱和全氟基、不饱和全氟基。作为所述全氟基的结构，可以举出具有直链结构、支化结构的全氟基，其中，优选举出具有支化结构的全氟基，更优选举出所述Rfl及Rf2的至少任一个具有支化结构。作为所述全氟基，例如，可以举出全氟壬烯、全氟甲基、全氟丙烯、全氟壬烷、全氟安息香酸、全氟丙烯、全氟丙基、全氟(9一甲基辛基)、全氟甲基辛基、全氟丁基、全氟3—甲基丁基、全氟己基、全氟辛基、全氟7—辛基乙基、全氟丁基、全氟癸基、全氟丁基等。另外，这些全氟基可以被卤素原子、酰基、氨基、氰基、烷基、垸氧基、垸基或卤代烷基取代，也可以被芳基、酰胺基等取代。所述Rfl及Rf2可以相互相同，也可以互不相同。在所述(1)(4)中，n表示l40的整数，优选表示425的整数。在所述(1)(4)中，m表示040的整数，优选表示025的整数。在所述(1)(4)中，一X—表示一(CH2),—(I表示l10，优选表示15的整数)、—CO—O—、一O—、—NHCO—、一NHCOOO—的任一个。在所述式(5)中，R3、R4、R5表示氢原子、或甲基，a、b、c、p、q表示任意的整数，可以根据需要适当选择，但例如，可以举出a=50、b=c=25、p二q^0等。r、s表示任意的正整数，可以根据需要适当选择，但例如，可以举出F2、s-6等。作为CrH2r、CsF2S+l，r、s为3以上时，包括直链结构、支化结构的任一个。作为由所述式(5)表示的表面活性剂的具体例，可以举出麦克法克F—780F(a=40、b=5、c=55、r=2、s=6、p=q=7;大日本油墨化学工业(株)制)等。由所述式(1)(5)表示的表面活性剂，可以单独一种或组合两种以上使用。若所述含量小于0.001质量％，则有时得不到面状改进的效果，若大于10质量％，则有时粘附性降低。通过使所述感光性组合物含有所述表面活性剂，作为涂敷液的流动性良好，改进涂敷工序中使用的旋涂机或狭缝涂敷机的喷嘴或配管、容器中的液体的附着性，能够有效地减少在所述喷嘴内作为污垢残留的残渣，因此，能够减少更换涂敷液时清洗所需的清洗液的量或作业时间，能够提高滤色片的生产率。另外，能够改进在形成所述彩色光阻层时产生的面状不均等。作为所述热聚合抑制剂，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出特开2005—258431号公报的段落编号0316中记载的化合物等。所述热聚合抑制剂的含量相对于感光性组合物的总成分为0.000110质量％，更优选0.00055质量％，尤其优选0.0011质量％。作为所述紫外线吸收剂，除了特开平5—72724号公报中记载的化合物之外，可以举出水杨酸酯系、二苯甲酮系、苯并三唑系、氰基丙烯酸酯系、镍螯合物系、受阻胺系等。具体来说，可以举出苯基水杨酸酯、4一叔丁基苯基水杨酸酯、2，4一二叔丁基苯基一3'，5，一二一叔一4'一羟基甲苯酸酯、4一叔丁基苯基水杨酸酯、2，4一二羟基二苯甲酮、2—羟基一4一甲氧基二苯甲酮、2—羟基一4一正辛氧基二苯甲酮、2—(2，一羟基一5，甲基不二甲基)苯并三唑、2—(2，一羟基一3，一叔丁基一5，一甲基苯基)一5—氯苯并三唑、乙基一2—氰基一3，3—二一苯基丙烯酸酯、2，2，一羟基一4甲氧基二苯甲酮、镍二丁基二硫氨基甲酸酯、双(2，2，6，6—四甲基一4一吡啶)一癸二酸酯、4一叔丁基苯基水杨酸酯、水杨酸苯基酯、4一羟基一2，2，6，6—四甲基哌啶縮合物、琥珀酸一双(2，2，6，6—四甲基一4一哌啶基)一酯、2—[2—羟基一3，5—双(a，a—二甲基苄基)苯基]一2H—苯并三唑、7—{[4—氯一6—(二乙基氨基)—5—三嗪—2—基]氨基}一3—苯基香豆素等。还有，相对于感光性组合物的总固态成分的紫外线吸收剂的含量优选0.515质量％，更优选112质量％，尤其优选1.210质量％。形成所述感光层的感光性组合物可以使用溶剂配制。作为所述溶剂，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、正己醇等醇类；丙酮、丁酮、甲基异丁基酮、环己酮、二异丁基酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸正戊基酯、硫酸甲酯、丙酸乙酯、苯二甲酸二甲酯、安息香酸乙酯、及甲氧基丙基乙酸酯等酯类；甲苯、二甲苯、苯、乙基苯等芳香族烃类；四氯化碳、三氯乙烯、氯仿、1，1，l一三氯乙烷、二氯甲烷、单氯苯等卤化烃类；四氢呋喃、二乙基醚、乙二醇单甲基醚、乙二醇多单乙基醚、l一甲氧基一2—丙醇等醚类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基磺基氧化物、环丁砜等。这些可以单独使用一种，也可以合用两种以上。其中，优选举出3—乙氧基丙酸甲酯、3—乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲基醚、乙酸丁酯、3—甲氧基丙酸甲酯、2—庚酮、环己烷、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲基醚乙酸酯等。这些溶剂可以单独使用或组合两种以上使用。所述感光性组合物的配制时的所述溶剂的添加量不特别限制，可以根据目的适当选择，优选所述感光性组合物的总固态成分浓度成为580质量％地添加，更优选成为1060质量％地添加，尤其优选成为1550质量％地添加。所述感光层的厚度优选0.31(Him，更优选0.756nm，尤其优选1.03]im。若所述感光层的厚度为0.310pm，则在感光层用涂敷液的涂敷时不易发生针孔，制造适应性不会降低。另外，显影时除去未曝光部也不需要长时间。<基材>在所述感光层形成工序中使用的所述基材，不特别限制，可以根据目的从公知的材料中适当选择表面平滑性高的材料至具有凹凸的表面的额材料，优选板状基材(基板)，具体来说，可以举出(玻璃板(例如，钠玻璃板、溅射氧化硅的玻璃板、无碱玻璃板、石英玻璃板等)、合成树脂性薄膜、纸、金属板等。所述基材可以形成在该基材上所述感光层中的感光层重叠地层叠而成的层叠体而使用。即，通过对所述层叠体中的感光层的所述感光层进行曝光，固化曝光的区域，从而，能够利用后述的显影工序形成图案。[曝光工序]作为所述曝光工序，使至少具备光照射机构及光调制机构的曝光头、和所述感光层的至少任一个移动，同时将从所光照射机构射出的光利用所述光调制机构根据图案信息调制，并从所述曝光头向所述感光层照射，对所述感光层进行曝光，而且该曝光是无掩模曝光。所述无掩模曝光(还称为"无掩模图案曝光")是指基于图案信息(还称为"图像数据")，调制来自光照射机构的光，同时使曝光头和所述感光层的被曝光面相对扫描，由此在所述感光层的被曝光面上形成二维图案(还称为"图像")的曝光方法。对此，使用掩模的以往的曝光方法是在感光层的被曝光面上的光程上配置用使曝光光不透过的材质或使曝光光减弱透过的材质形成图案而成的掩模，进行曝光的方法。作为从所述光照射机构照射的光的光源，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出超高压水银灯、氙气灯、碳弧灯、卤素灯、复印机用等荧光灯、LED、及激光(半导体激光器、固体激光器、液体激光器、气体激光器)等，其中，优选超高压水银灯及激光，从在短时间内可以进行光的开启关闭控制，容易进行光的干涉控制的观点出发，优选激光。所述光源的波长，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，作为所述超高压水银灯，优选i线(365nm)，作为固体激光器，优选YAG—SHG固体激光器(532nm)、半导体激励固体激光器(532nm、355nm、266nm)，作为气体激光器，优选KrF激光器(249nm)、ArF激光器(193nm)。作为半导体激光器，从缩短感光性组合物的曝光时间，容易得到的观点出发，优选300500nm，更优选340450rnn，尤其优选405nm或410nm。作为激光的束直径，不特别限制，可以根据目的适当选择，从所述感光层中的析像度的观点出发，高斯束的1/eZ值的情况下优选530nm，更优选720,。另外，作为所述激光的光能量，不特别限制，可以根据目的适当选择，从曝光时间的縮短和析像度的观点出发，优选l100mJ/cm2，更优选520mJ/cm2。作为所述光源，优选将多条光纤捆扎的束状光纤光源，所述光纤从一端入射光，并从另一端射出入射的所述光，所述光纤优选能够射出将来自光源的两种以上光合成的合波激光。作为所述合波激光的照射方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，可以举出利用多个激光光源、多模光纤、及将从该多个激光源照射的激光聚光，将其耦合于所述多模光纤的多模光纤的透镜系合成合波激光，照射的方法。'在曝光工序中，作为调制来自所述光照射机构的光的光调制机构，只要是具有接受来自所述光照射机构的光，将其射出的n个(其中，n为2以上的自然数)的排列为二维状的描绘像素部，且能够基于图案信息控制描绘像素部的机构，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出空间调制元件、及光多面镜(光学多面体(polygonmirror))等。作为所述空间光调制元件，不特别限制，可以根据目的适当选择，适当举出数字微镜设备(DMD)、MEMS(MicroElectroMechanicalSystems.)类型的空间光调制元件(SLM;SpecialLightModulator)、镜灰度性空间调制元件、利用电光学效果调制透过光的光学元件(PLZT元件)、液晶光快门(FLC)等。还有，MEMS是指基于以IC制造工序为基板的微研磨技术的将微尺寸的传感器、促动器、及控制电路集成化的微细系统的总称，MEMS类型的空间光调制元件表示通过利用了静电力的电机械运行驱动的空间光调制元件。进而，还可以使用将栅光阀(GLV:GratingLightValve)排列多个而构成为二维状的元件。在使用这些反射型空间光调制元件(GLV)、或透过型空间光调制元件(LCD)的结构中，作为所述光源，除了激光器之外，还可以使用灯等。这些空间光调制元件中，更优选举出DMD、及镜灰度空间光调制元件，尤其优选举出DMD。作为所述光多面镜(光学多面体(polygonmirror))，只要是具有多面(例如，6面)的平面反射面的旋转部件，利用旋转使光扫描，就不特别限制，可以根据目的适当选择。例如，在使用所述光多面镜(光学多面体(polygonmirror))的曝光中，通过使所述感光层的被曝光面沿与所述光多面镜(光学多面体(polygonmirror))的扫描方向垂直的方向移动，能够对所述被曝光面前面进行曝光。在所述曝光工序中，作为对感光层进行曝光的方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出数字曝光、模拟曝光等，优选数字曝光。作为所述数字曝光的方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，优选使用根据基于规定的图案信息生成的控制信号调制的激光来进行。进而，在所述曝光工序中，作为对感光层进行曝光的方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，从短时间、且能够进行高速曝光的观点出发，优选使曝光光和感光层相对地移动的同时进行，尤其优选与所述数字，微镜设备(DMD)合用。在所述曝光工序中，优选在惰性气体气氛下进行。作为将利用所述感光层形成工序形成的感光层进行曝光的方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出将惰性气体向所述感光层表面直接输送的方法、在框状框架的一边开放，且惰性气体的导入孔至少形成于剩余的一边的试料台中的曝光空间中，载置作为曝光对象的形成有感光层的试料，从所述惰性气体的导入孔导入惰性气体，用惰性气体覆盖感光层表面，同时进行曝光的方法等。另外，也可以将所述曝光空间作为密封空间，在减压下向该密封空间内导入惰性气体。作为所述惰性气体，只要能够防止由于氧的影响而导致所述感光层的聚合反应被阻碍的情况，就不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出氮、氦、氩等。以下，参照附图，对本发明的滤色片的制造方法的方式、及该滤色片的制造方法中适合使用的曝光装置进行说明。作为所述曝光装置，除了所谓的平板头类型的曝光装置之外，也可以为感光材料巻绕在鼓的外周面的外置鼓类型的曝光装置、及感光材料安装在汽缸的内周面的内置鼓类型的曝光装置。以下，作为一例，对平板头类型的曝光装置进行说明。<曝光装置>如图1所示，所述曝光装置具备在表面吸附将所述感光层层叠于所述基体上而成的层叠体12(以下，表示为"感光层12"、或"感光材料12")，将其保持的平板状的移动载物台14。在由4条脚部16支撑的厚的板状设置台18的上面，设置有沿载物台移动方向延伸的2条导轨20。载物台14配置为其长边方向朝向载物台移动方向，并且被导轨20支撑为往返移动。还有，该曝光装置10上设置有将载物台14沿导轨20驱动的载物台驱动装置(未图示)。还有，在设置台18的中央部设置有横跨载物台14的移动路径的"〕"字状门22。该字状门22的端部分别固定在设置台18的两侧面。夹着门22，在一侧设置有扫描器24，另一侧设置有检测感光层12的前端及后端的多个(例如，2个)传感器26(或照相机26)。扫描器24及传感器(或照相机26)26分别固定在门22上，并分别固定在载物台14的移动路径的上方。还有，扫描器24及传感器(或照相机26)26与控制这些的控制器(未图示)连接。如图2及图3所示，扫描器24具备m行n歹U(例如，2行5列)的排列为大致矩阵状的IO个曝光头。如图2所示，各曝光头30以使后述的内部的数字，微镜，设备(DMD)36的各扫描部(微镜)的列方向与扫描方向成规定的设定倾斜角度e的方式安装于扫描器24的情况下，基于各曝光头30的曝光区域32成为相对于扫描方向倾斜的矩形状的区域。随着载物台14的移动，在感光层12上胺曝光头30每一个形成带状己曝光区域34。还有，以下中，在示出第m行的第n列上排列的各个曝光头的情况下，标记为曝光头30^，在示出基于第m行的第n列上排列的各个曝光头的曝光区域的情况下，标记为曝光区域32mn。另外，如图3A及图3B所示，按照带状已曝光区域34分别与邻接的已曝光区域34部分重叠的方式以线状排列的各行曝光头30分别在其排列方向上错开规定间隔(曝光区域的长边的自然数倍，在本实施方式中为2倍)而配置。因此，第1行的曝光区域32和曝光区域3212之间的不能曝光的部分可以利用第2行的曝光区域3221进行曝光。若利用扫描器24结束对感光层12的副扫描，用传感器26(或照相机26)检测感光层12的后端，则载物台14利用载物台驱动装置304沿轨道20复位到位于门22的最上游侧的原点，再次沿轨道20从门22的上游侧向下游侧以恒定速度移动。在此，为了说明，如图1所示，在与载物台14的表面平行的平面内轨道相互正交的X轴及Y轴。也可以在载物台14的扫描方向的上游侧(以下，有时简单称为"上游侧")的端缘部，以等间隔形成有10条向X轴方向开口的形成为"〈"字型的缝隙28。各缝隙28由位于上游侧的缝隙28a和位于下游侧的缝隙28b构成。缝隙28a和缝隙28b相互正交，并且缝隙28a相对于X轴具有一45度，缝隙28b相对于X轴具有+45度的角度。缝隙28的位置与所述曝光头30的中心大致一致。另外，各缝隙28的大小形成为充分覆盖基于对应的曝光头30的曝光区域32的宽度的大小。另外，作为缝隙28的位置，与邻接的己曝光区域34间的重复部分的中心位置大致一致。在这种情况下，各缝隙28的大小形成为充分覆盖已曝光区域34间的重复部分的宽度。在载物台14内部的各缝隙28的下方的位置，也可以组入有作为光点位置检测机构的单一单元型光检测器(未图示)，该光点位置检测机构在进行N重曝光的情况下，选择用于实现理想的N重曝光的描绘像素部的后述的使用描绘像素部指定处理中，检测作为描绘像素单位的光点。另外，所述光检测器与作为在后述的使用描绘像素部指定处理中，进行所述描绘像素部的选择的描绘像素部选择机构的运算装置(未图示)连接。作为在曝光时的所述曝光装置的工作方式，可以是使曝光头时常移动的同时连续地进行曝光的方式，也可以是使曝光头阶段性地移动的同时，在各移动目的地的位置使曝光头静止，进行曝光工作的方式。另外，作为所述曝光的方法，优选使曝光光和所述感光层相对地移动的同时进行，在这种情况下，优选与所述高速调制合用。由此，能够在短时间内进行高速的曝光。曝光头>>图4、图5A、及图5B中示出曝光头30的概略结构的一例。在图4、图5A及图5B中，沿在所述曝光头30中传播的光的光程示出了各构成要素。在本例子中，作为根据图像数据按描绘像素部调制入射的光的光调制机构(按描绘像素部调制的空间光调制元件)，具备DMD36(美国德克萨斯仪器公司制)，作为光照射机构，具备光纤阵列光源38。如图4所示，在DMD36的光入射侧，依次配置有具备光纤的射出端部(发光点)沿与曝光区域32的长边方向一致的方向排列成一列的激光射出部的光纤阵列光源38、修正从光纤阵列光源38射出的激光并将其聚光于DMD上的聚光透镜系40、将透过了该聚光透镜系40的激光朝向DMD36反射的反射镜42。还有，在图4中，概略示出了聚光透镜系40。另外，在DMD36的光反射侧，配置有将由DMD36反射的激光成像于感光层12的曝光面上的成像透镜系50。还有，在图4中，概略示出了成像透镜系50。如图5A及图5B所示，所述聚光透镜系40例如包括使从光纤阵列光源38射出的激光平行光化的一对组合透镜44、将被平行光化的激光的光量分布校正成均一地修正的一对组合透镜46及将光量分布己被修正的激光聚光于DMD36上的聚光透镜48、以及后述的其他部件等。所述成像透镜系50例如包括以使DMD36和感光层12的曝光面成为成对的关系的方式配置的两片透镜52及54、以及微透镜阵列、及孔阵列等后述的其他透镜组。一光调制机构一如图6所示，作为所述光调制机构的DMD36是在SRAM单元(存储器单元)56上，使大多数微镜58作为分别构成描绘像素(像素(pixel))的描绘像素部，排列成格子状而成的镜设备。各微镜58被支柱支撑，在其表面蒸镀铝等反射率高的材料。此外，在本实施方式中，各微镜58的反射率在90%以上，其排列间距在纵方向、横方向均为13.7pm。SRAM单元56是借助包括枢轴(hinge)及轭(yoke)的支柱，在通常的半导体存储器的制造线上制造的硅栅(silicongate)的CMOS的SRAM单元，整体被构成为单片型(monolithic)(—体型)。如果向DMD36的SRAM单元(存储器单元)56输入以2值表示构成需要的二维图案的各点的浓度的图像信号，则被支柱支撑的各微镜58，在以对角线为中心相对配置有DMD36的基板侧，以土a度(例如土10度)的任意角度倾斜。图7A表示微镜58处于作为开(ON)状态的向+a度200680028618.2说明书第46/107页倾斜的状态，图7B表示微镜58处于作为关(OFF)状态的向一oc度倾斜的状态。这样，如图6所示，通过对应图像信号控制DMD36的各像素中的微镜58的斜度，向DMD36入射的激光B被向各自的微镜58的倾斜方向反射。利用与DMD36连接的图8的控制器302，进行各微镜58的开启关闭控制。另外，在关闭状态的微镜58反射的激光B前进的方向上，配置光吸收体(未图示)。另外，DMD36优选配置为按照其短边与副扫描方向成规定角度e9例如，0.1°5°)的方式略微倾斜。图9A示出了使DMD36不倾斜的情况下的各微镜产生的发生光像(曝光束)53的扫描轨迹，图9B示出了使DMD36倾斜的情况下的曝光束53的扫描轨迹。DMD36中，沿长边方向排列了多个(例如，1024个)微镜的微镜列沿短边方向排列有多组(例如，756组)，但如图9B所示，通过使DMD36倾斜，使得基于各微镜的曝光束53的扫描轨迹(扫描线)的间距P2比使DMD36不倾斜的情况下的扫描线的间距P,狭窄，从而能够大幅度提高析像度。另一方面，DMD36的倾斜角微小，因此，使DMD36倾斜的情况下的扫描宽度W2、和使DMD36不倾斜的情况下的扫描宽度W,大致相同。通过利用不同的微镜列使相同的扫描线上重叠而曝光，能够微量控制相对校直位置，从而能够实现高精细的曝光。另外，通过微量控制沿主扫描方向排列的多个曝光头之间的连接缝(头间连接区域)，能够没有高低差地连接。代替使DMD倾斜，将各微镜列向与副扫描方向正交的方向错幵规定间隔，如图IO所示地配置为交错状，也能够得到相同的效果。还有，如图10所示，可以利用扫描器24沿X方向进行一次扫描来对感光层12的整个面进行曝光，也可以如图11A及图11B所示，利用扫描器24沿X方向对感光层12进行扫描后，将扫描器24沿Y方向移动一步，沿X方向进行扫描，通过这样重复扫描和移动，利用多次的扫描对感光层12的整个面进行曝光。—光照射机构—作为所述光照射机构的优选的例子，对能够照射合波激光的机构，例如，具有多个激光器、多模光纤、和将从该多个激光器分别照射的激光束聚光而将其耦合于所述多模光纤的透镜系的机构(光纤阵列光源)进行说明。以下，作为所述能够照射合波激光的机构(光纤阵列光源)，例如可以举出特开2005—258431号公报的段落中记载的机构等。一亮度一在各激光器模块中，向激光器束B1B7的多模光纤30的耦合效率是0.85，GaN系半导体激光器LD1LD7的各输出为30mW的情况下，排列为阵列状的光纤64可以分别得到输出180mW(=30mWX0.85X7)的合波激光束B。从而，6条光纤64排列为阵列状的激光器射出部的输出约为1W("180mWX6)。在光纤阵列光源的激光器射出部上，这样高亮度的发光点沿主扫描方向排列在一列。将来自单个半导体激光器的激光耦合于一条光纤的以往的光纤光源是低输出，因此，不排列多列就不能得到希望的输出，但所述合波激光器光源是高输出，因此，即使为少数列例如一列也能够得到希望的输出。例如，在将半导体激光器和光纤一对一耦合的以往的光纤光源中，通常，作为半导体激光器，使用输出30mW(毫瓦)左右的激光器，作为光纤，使用芯径5(Vm、包覆直径125pm、NA(开口数)0.2的多模光纤，因此，若要得到约1W(瓦)的输出，则需要捆扎48条(8X6)多模光纤，发光区域的面积为0.62mm2(0.675mmX0.925mm)，因此，激光器射出部中的亮度为1.6X106(W/m2)、光纤每1条的亮度是3.2X106(W/m2)。对此，在所述光照射机构为能够照射合波激光的机构的情况下，用6条多模光纤可以得到约1W的输出，激光器射出部上的发光区域的面积是0.0081mm2(0.325X0.025mm)，因此，激光器射出部68上的亮度成为123X106(W/m2)，与以往相比，能够得到约80倍的高亮度化。另外，光纤每一条的亮度是卯X106(W/m2)，与以往相比，能够实现约28倍的高亮度化。一焦点深度一在此，参照图12A及图12B，对以往的曝光头和本实施方式的曝光头的焦点深度的差异进行说明。以往的曝光头的束状光纤光源的发光区域的副扫描方向的直径是0.675mm,曝光头的光纤阵列光源的发光区域的副扫描方向的直径是0.025mm。如图12A所示，在以往的曝光区域中，光照射机构9束状光纤光源)38a的发光区域大，因此，向DMD36入射的光束的角度变大，其结果，向扫描面(感光层12)入射的光束的角度变大。因此，在聚光方向(焦点方向的偏离)上，束直径容易变粗。另一方面，如图12B所示，在本发明的曝光装置中的曝光头中，光纤光源38b的发光区域的副扫描方向的直径小，因此，通过了聚光透镜系40并向DMD36入射的光束的角度变小，其结果，向扫描面(感光层12)入射的光束的角度变小。即，焦点深度变深。在该例子中，发光区域的副扫描方向上的直径成为以往的约30倍，可以得到相当于大致折射限度的焦点深度。从而，适合微小部位的曝光。对该焦点深度的效果是曝光头的需要光量越大越显著，而且有效。在该例子中，投影于曝光面上的l个描绘像素尺寸是10jnmX10Mm。还有，DMD是反射型空间光调制元件，但为了说明光学性关系，图12A及图12B做成展开图。[光量分布的修正方法]在具备所述光调制机构的数字曝光装置中，为了以各描绘单位高精度地形成微细的图案，重要的是曝光头内的各描绘单位的光量均一。但是，实际上，从曝光头照射的光束主要由于透镜系的原因，存在周边部的光强度与光轴的中心部相比降低的问题。因此，以下，对修正从所述光照射机构向所述光调制机构照射的光的光量分布，均一地修正被曝光面上的曝光光的光量分布的方法进行说明。还有，图13中示出适合该方法的曝光头的结构示意图。所述光量分布修正方法是利用聚光透镜系使从光照射机构向光调制机构照射的光的照射区域内的光量具有分布，修正利用光调制机构调制的光的感光层的被曝光面上的光量分布，使其均一的方法，适当举出以下说明的第一方式、及第二方式。一第一实施方式一上，因此，从DMD36侧向感光层12依次配置有透镜系26、微透镜阵列128、物镜系130的各曝光用光学构件。所述透镜系126及所述物镜系130构成为组合多片透镜9凸透镜或凹透镜O的放大光学系，通过放大由DMD36反射的激光束(光线束)的剖面积，将基于由DMD36反射的激光束的感光层12上的曝光区域的面积放大为规定的大小。还有，感光层12配置在物镜系130的后方焦点位置。如图13所示，微透镜阵列128中，以二维状排列有与反射从光纤阵列光源38照射的激光的DMD36的各物镜58—对一对应的多个微透镜132，而且该微透镜一体地成形为矩形平板状，各微透镜132分别配置在透过了透镜系126的各激光束的光轴上。该微透镜阵列128例如可以将树脂或光学玻璃模塑成形来形成。另外，在本实施方式的曝光头30中，所述的聚光透镜系114与具备柱状积分仪U8的光量分布修正功能不同，能够以更高的精度、均一地修正利用DMD36调制的曝光束的曝光面上的光量分布，因此，具有使照射在DMD36的激光的照射区域内的光量具有规定的分布，具体来说，使从光纤阵列光源38入射的激光在主光线的角度上具有规定的分布，并射出该激光，向DMD36照射的功能。在此，使用图14A图14B说明将在该主光线的角度上具有分布的激光向DMD36照射的例子进行说明。还有，主光线(principalmy/chiefray)是指通过光学系中物体空间中的入射孔(或开口光圈)的中心的光线(即使将开口光圈形成为最小，也不存在重影(少，的光线)，广义来说是斜光线束的中心的光线，在此以后者的意思使用。图14A是以示意性示出了照射在DMD36上的激光的主光线的斜度的图。如图14A所示，在照射于DMD36上的特定的位置P的激光LB中，激光LB的主光线向负(一)侧倾斜的情况下，如箭头一PR所示，主光线向靠近激光的光轴(光轴附近)X的方向倾斜，在向正(+)侧倾斜的情况下，如箭头+PR所示，向远离激光的光轴X的方向倾斜。图14B是从本实施方式的聚光透镜系114射出的激光以根据自光轴中心的距离，在主光线的角度上具有分布的状态照射在DMD36上的照明区域的图。如图14B所示，照射在DMD36上的照明区域(激光照射区域)的激光的主光线角度的分布是如下所述的分布，即在激光的光轴中心，主光线不倾斜，与光轴平行，随着从光轴中心靠向照明区域的周边部，主光线逐渐向+侧倾斜，并且其倾斜角度逐渐变大，若达到规定距离YA，则主光线的向+侧的倾斜角度变为最大(最大倾斜角度A)，若超过规定距离YA，则主光线的向一侧的倾斜角度逐渐变小，若到达照明区域的周边端部，则与光轴中心相同地形成主光线的斜度消失的分布。通过使激光的主光线的角度具有这样的分布，向DMD36上的照明区域照射与光轴中心相比，提高周边部的光密度的激光，即与光轴中心相比周边部的光亮度提高的激光。还有，在激光的主光线角度上具有上述分布的情况下，取决于主光线的最大倾斜角度A的分布量的大小优选周边部上的光量降低量以上，且满足曝光面要求的曝光束的远心性(主光线和光轴的平行度)的量以下。在本实施方式的曝光头30的情况下，曝光面上的曝光束的周边部的光量降低主要是由于配置在DMD36的光反射侧的投影光学系的微透镜阵列128(参照图13)而引起，因此，优选将上述分布量的大小设定为例如由该微透镜阵列128而产生的周边部的光量降低量以上。另外，对规定距离YA，可以根据该周边部的光量降低量及光量降低区域(修正光量的区域)适当设定，在图14B所示的例子中，在将从光轴中心到照明区域的周边端部(DMD36的外周端部0的距离设为YS的情况下，设定为YS〉YA>YS/2。从光纤阵列光源38经由聚光透镜系114向DMD36照射的照明光(激光)根据各微镜58的反射面的角度而被向规定方向反射，并调制，调制的光束被透镜系126放大，入射于微透镜阵列128中设置的各个微透镜132而聚光。然后，该聚光的光束利用物镜系130成像于感光层12的被曝光面上，这样，从光纤阵列光源38照射的激光按每个像素进行开启关闭(调制)，感光层12以与DMD36的使用像素数目大致相同的数目的像素单位(曝光区域)被曝光。通常，该光束的光量(光强度)的分布主要由于透镜系，与光轴的中心部相比，周边部降低，但在本实施方式的曝光头30中，为了将从光纤阵列光源38射出的激光的光量分布均一化，将其照射于DMD36上，在配置于DMD36的光入射侧的光程上的聚光透镜系114上设置柱状积分仪118。但是，即使该柱状积分仪118存在，像本实施方式一样，将各描绘单位利用微透镜阵列128进行聚光的系统中，相对光轴中心部的周边部的光强度降低也显著，在以更高精度进行图像曝光的情况下，难以将光量分布修正至要求的精度。另外，为了提高该光量分布的修正精度，还考虑了长条化柱状积分仪118，但在这种情况下，柱状积分仪118是非常高价的光学部件，因此，存在装置成本上升，且曝光头30变得大型化的缺陷。对此，在本实施方式的曝光头30中，如上所述，从光纤阵列光源38向聚光透镜系114入射的激光如图15中的(1)所示，作为在主光线的角度上具有分布，，与光轴中心相比，周边部的光亮度提高的激光，从聚光透镜系114射出，并照射于DMD36，因此，照射于DMD36的激光照射区域上的光量分布如图15中的(2)所示，与光轴中心相比，周边部的光量提高。因此，若利用DMD36按每一个像素调制的光束如图15中的(3)所示，透过具有光透过量随着从光轴中心靠向周边部而降低的特性的微透镜阵列128后，照射于感光层12的曝光面上，则如图15中的(4)所示，曝光面上的光束的光量分布修正为均一。如上所述，在本实施方式的曝光装置中，在二维分布的多个像素部中，各描绘单位的光量修正为均一，从而能够进行高精细的图像曝光。另外，在组合以根据光量分布改变DMD36的各微镜58的驱动时间间隔的方式驱动控制的技术而使用的情况下，也预先将各描绘单位的光量修正为均一，因此，减轻施加在DMD36的驱动控制部的负荷，降低对处理速度的影响，能够简单化电路结构或处理软件，从而能够抑制成本。另外，在本实施方式中，作为上述修正光量分布的机构，使用光学系(聚光透镜系114)，只要是由这样的光学系构成的光量分布修正机构，就能够由简略且廉价的结构实现。一第二实施方式一第二实施方式是在上述的第一实施方式中的曝光装置的曝光头30中，在聚光透镜系114中设置具有非球面透镜的远心光学系，由此与第一实施方式相同地，使曝光面上的光束的光量分布均一化的技术。第二实施方式中的曝光头中，例如聚光退休金114中，设置有如图16A所示的由2片为一组的平凸透镜152、154构成的远心光学系150，该远心光学系150例如配置在柱状积分仪118和聚光透镜120之间。平凸透镜152、154做成凸面侧形成为非球面状的非球面透镜。配置于激光的入射侧(光纤阵列光源38侧)的平凸透镜152中，入射面S2的面形状为曲率半径随着从光轴(光轴中心)X远离而变大的非球面、换而言之，曲率随着从光轴X远离而变小的非球面，射出面S2为平面状。另外，配置于激光的射出侧(DMD36侦0的平凸透镜I54中，入射面S4为平面状，射出面S5的面形状为曲率半径随着从光轴(光轴中心)X远离而变小的非球面、换而言之，曲率随着从光轴X远离而变大的非球面。以下，表1中示出本实施方式的远心光学系150的透镜数据的一例，表2中示出本实施方式中的入射面S2及射出面S5的非球面数据的一例。[表l]透镜数据<table>tableseeoriginaldocumentpage58</column></row><table>[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage58</column></row><table>另外，上述非球面数据由表示非球面形状的下述式(1)中的系数表示。[数1]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage59</formula>在上述式中，如下所述地定义各系数。Z:从位于自光轴为高度h的位置的非球面上的点向非球面的顶点的切平面(与光轴垂直的平面)下划的垂线的长度(mm)h:自光轴的距离(mm)(h2=x2+y2)R:曲率半径(曲率1/R)A:非球面数据通过以上的结构，在本实施方式的曝光装置中，如图16A所示，在从平凸透镜152射出的激光LB2中，随着从光轴X远离而焦点距离变长。从而，在激光LB2到达平凸透镜154的入射面S4时，通过了中央附近的光与通过了平凸透镜152的周边部的光相比，从光轴X远离的倾斜变强。由此，与透镜的中央附近相比，周边部的光的亮度变高。另外，平凸透镜154与平凸透镜152相反，随着从光轴X远离而焦点距离变短，因此，若将这些两片平凸透镜152、154组合，则能够组成远心光学系。由此，就由具有该平凸透镜152、154的远心光学系150平行化后射出的激光LB3的光量分布来说，相对于光轴中心，周边部的分布密度变高，在该激光LB3照射的DMD36中，与激光照射区域的中心部(光轴中心)相比，周边部的光量增加。图16B中示出作为形成为非球面透镜系的本实施方式的远心光学系150的基础的球面透镜系的远心光学系160的光线图。在该远心光学系160中，配置于激光(LB1)的入射侧的平凸透镜162的入射面S2'为球面，配置于激光(LB3')的射出侧的平凸透镜164的射出面S5'为球面，从而，在该远心光学系160中，从射出面S5'射出的激光1B3'的光量分布如图16B所示，在光轴中心到周边部之间具有大致均等的分布。这样，在第二实施方式的非球面透镜系(远心光学系150)中，与使用上述球面透镜系(远心光学系160)的情况下的光量分布相比可知，就射出的激光的光量分布来说，相对于光轴中心，周边部的分布密度变高，与光轴中心相比，周边部的光量增加。从而，与第一实施方式相同地，通过使利用DMD36调制的光束透过微透镜阵列128，使得即使相对于光轴中心部的周边部的光量降低，在曝光面上也照射光量分布修正为均一的光束，通过具备该远心光学系150的曝光装置也能够进行高精细的图像曝光。另外，如上所述，从远心光学系150射出的激光作为远心光射出，并照射在DMD36，因此，能够同时实现照射在DMD36的激光的远心性、和利用DMD36调制的光束的曝光面上的光量分布的均一性。另外，本实施方式也与第一实施方式相同地，作为修正光量分布的机构，使用由2片为一组的平凸透镜152、154构成的光学系，从而，只要是由这样的光学系构成的光量分布修正机构，就能够由简单的结构实现。另外，在本实施方式中，通过使用上述远心光学系150增加激光的周边部的光量来抑制曝光中的光利用效率的降低。另外，由此，也可以降低从光纤阵列光源38射出的激光的输出，因此，还能够抑制光纤阵列光源38的长寿命化、或高亮度光引起的光学系污染/劣化。进而，还能够减少光纤阵列光源38或光学系的维护次数，还能够将少曝光装置的维护成本。[焦点位置精度的修正方法]构成所述成像透镜系的投影透镜的像面弯曲、像差、畸变等降低远心性，导致使曝光光的焦点位置精度变差的问题。为了排除这个影响，进行多重曝光的情况下，存在曝光速度的降低、画质的降低等发生的问题。因此，以下，对在成像透镜系中，修正被曝光面上的曝光光的焦点位置精度的方法进行说明。还有，图17、及图23中示出适合该方法的曝光头的结构示意图。作为所述焦点位置精度的修正方法，例如，适当举出使用改变利用光调制机构调制的光的光程长，调节在感光层的被曝光面上成像的曝光光的焦点的焦点调节机构、及仅在包括所述成像透镜系的中央部的大致矩形状区域，将利用光调制机构调制的光成像的方法。另外，还适当举出将所述感光层(感光材料)的相对移动的方向向该感光材料的弯曲方向移动的方法。如图17所示，成像透镜系50具备第一投影透镜51、第二投影透镜52、微透镜阵列55、和孔阵列59。通过构成DMD36的各微镜反射而形成的二维图案透过第一投影透镜51，放大规定倍数(例如，3倍)而成像。在此，透过了第一投影透镜51的光束La通过基于第一投影透镜51的成像位置的附近配设的微透镜阵列55的各微透镜55a个别地聚光。该个别地聚光的光束通过孔59而成像。通过了微透镜阵列55及孔阵列59而成像的二维图案透过第二投影透镜52而进而放大为规定的倍数(例如，1.67倍)，透过楔型棱镜组54而成像于感光材料12上。最后，通过DMD36形成的二维图案以分别积算第一投影透镜51和第二投影投影52的放大倍率的倍率(例如，3倍乂1.67倍=5倍)放大，投影在感光材料12上。还有，成像透镜系50未必为具备第二投影透镜52的结构。一投影透镜—对第一投影透镜51及第二投影透镜52进行详细的说明。图18A及图18B是示出构成第一投影透镜51、第二投影透镜52的投影透镜300的俯视图。为了提高所述曝光装置的曝光性能，需要具有高的透镜光学性能(抑制像面弯曲、像差、畸变等、高远心性)的投影透镜。然而，若欲在投影透镜的整个区域提高透镜光学性能，则导致透镜的成本上升，大口径透镜的制造变得困难的问题。另一方面，为了提高投影透镜的任意区域的透镜光学性能，近年来的研究中明确了可以故意使规定的区域歪斜来制造投影透镜。因此，例如，使投影透镜的周边部分歪斜，使中央部的歪斜少，由此提高包括投影透镜的中央部的区域的透镜光学性能，进而能够使通过DMD36形成的二维图案透过包括中央部的区域来成像。具体来说，如图18A所示，使作为投影透镜300的周边区域的区域320具有像面弯曲的特性，使区域330具有歪曲特性，相对于此减少包括该投影透镜300的中央部的区域的歪斜，由此能够使透镜光学性能变高地制造。但是，例如，如图18A所示，通过DMD36形成的二维图案照射在投影透镜300的区域310而透过的情况下，二维图案的一部分透过包含像面弯曲或歪曲大的特性的区域，因此，二维图案需要照射在投影透镜300中的透镜光学性能良好的区域340。因此，为了选择投影透镜300的透镜光学性能良好的区域340照射二维图案，例如，优选以二维图案的光的光轴为中心，将投影透镜300沿图8B所示的箭头A方向旋转。通过该旋转，使透镜性能良好的区域340和二维图案照射的区域310—致，从而能够使二维图案透过透镜光学性能良好的区域340。这样，通过使二维图案透过透镜光学性能良好的区域而成像，能够提高二维图案投影于感光材料12上时的画质。另外，在使用大口径的投影透镜的情况下，若要在投影透镜的整个面区域得到充分的透镜光学性能，则制造困难，但通过减少包括中央部的区域的透镜歪斜，能够使其具有高透镜光学性能。通过使用这样的大口径的投影透镜，能够扩大曝光面积，提高曝光速度。还有，为了在投影透镜的包括中央部的一部分的区域成像从DMD36反射的光，优选通过DMD36形成的二维图案如图18A及图18B所示的区域310—样，长边的长度是比短边的长度长两倍以上的长度的大致矩形状的图案。为了向投影透镜300的透镜光学性能良好的区域340选择照射二维图案，成像透镜系50是能够以二维图案的光的光轴为中心旋转的结构。图19的上部剖面图是具备成像透镜系50的镜筒400的概略侧面剖视图，图19的下部俯视图是从图19上部剖面图中的箭头B的方向观察的镜筒400的概略俯视图。镜筒400在侧面具备护腕状凸缘410。在凸缘410按每a[°]形成有螺钉贯通孔412。在托架420上对应螺钉贯通孔按每a[°]同样形成有内螺纹孔(未图示)，将螺钉插通凸缘410的螺钉贯通孔412中，使其与托架420的对应的内螺纹孔螺合，由此固定凸缘410和托架420。通过该结构，镜筒400能够以第一投影透镜51及第二投影透镜52的光轴为中心以a[°]旋转而在任意的角度位置固定。另外，通过螺钉固定凸缘410和托架420时，也可以将螺钉插通螺钉贯通孔412中的所有的螺钉贯通孔412中而使其与托架420的对应的内螺纹孔螺合，也可以例如将螺钉插通位于对角线上的两处螺钉贯通孔412中使其与托架420的对应的内螺纹孔螺合。若使镜筒400旋转，则第一投影透镜51及投影透镜52共同旋转。还有，测量在感光材料12上投影的二维图案的焦点、画质(析像度)等曝光性能的同时，在显示最良好的曝光性能的旋转位置固定凸缘410和托架420。这样，通过使镜筒400以二维图案的光的光轴为中心旋转，使第一投影透镜51及第二投影透镜52旋转，使得在构成第一投影透镜51及第二投影透镜52的投影透镜中透镜光学性能良好的区域、和二维图案的照射区域能够一致。还有，构成第一投影透镜51及第二投影透镜52的各投影透镜也可以构成为能够按各投影透镜独立旋转。另外，镜筒400也可以构成为能够在与二维图案的光轴垂直的方向上移动。或者，也可以构成为构成第一投影透镜51及第二投影透镜52的各投影透镜在二维图案的光轴的垂直方向上独立地移动。为了这样将二维图案成像于投影透镜的包括中央部的一部分的区域，利用DMD36形成的二维图案如图18B所示的区域310—样，优选长边的长度比短边的长度长两倍以上的大致矩形状图案。为了形成如上所述的大致矩形状二维图案，本实施方式的DMD36驱动控制DMD36的一部分的微镜58来形成长边的长度比短边的长度长2倍以上的大致矩形状二维图案。使用图20A及图20B进行详细说明。DMD36中，例如，在曝光时的主扫描方向、即行方向上配置有1024像素，进而在曝光时的副扫描方向、即列方向上配置有756像素，形成为二维状。在本实施方式中，使用在列方向上排列756像素的微镜58中的一部分微镜58(例如，240像素)，形成1024X240像素的二维图案。在此，在列方向排列的微镜58中使用的微镜58的数目优选为行方向上排列的微镜58的数目的1/21/5左右的数目。另外，如图20A所示的区域80C—样，对于构成DMD36的所有微镜，使用占据DMD36的中央部的微镜，也可以如图20B所示的区域80T—样，使用占据DMD36的端部附近的微镜。进而，在使用的微镜中发生缺陷的情况下，也可以通过使用未发生缺陷的微镜的区域等来根据状况适当变更使用的微镜的区域。这样，通过使用在构成DMD36的微镜58中沿列方向排列的微镜58中的一部分微镜58，能够形成长边的长度比短边的长度长的大致矩形状的二维图案，能够容易地仅向构成第一投影透镜51及第二投影透镜52的投影透镜的具有高透镜光学性能的区域照射二维图案。另外，DMD36的数据处理速度与控制微镜58的数目(像素数目)成比例，因此，通过使用在列方向上排列的微镜58中的一部分微镜58，能够提高数据处理速度，能够提高曝光速度。进而，通过减小由DMD36形成的二维图案，能够小型化高价的微透镜阵列55，因此，能够减小曝光装置的成本。还有，为了形成长边的长度比短边的长度长的大致矩形状的二维图案，说明了使用DMD36中的沿列方向排列的微镜58中的一部分微镜58的情况，但也可以预先使用长边方向的微镜的数目比短边方向的微镜的数目多两倍以上的DMD。—焦点调节机构一图21是表示楔型棱镜组54的结构的侧面图，图13是表示楔型棱镜组54的概略立体图。楔型棱镜组54是改变二维图案的光的光程长度，调节成像二维图案时的焦点的焦点调节机构。楔型棱镜组54具备楔型棱镜540A及540B、分别固定楔型棱镜540A及540B的基底棱镜固定器541A及541B、包括配设在基底棱镜固定器541A的两端的滑动基底542A及在滑动基底542AA上移动的滑块542B的滑动部545、使滑动部545移动的驱动部546。如图22所示，楔型棱镜组54可以将把例如玻璃或压克力等透明材料构成的平行平板沿相对于该平行平板的平行平面Hll及H22倾斜的平面Hk切断而得到的一对楔型棱镜A及B作为上述楔型棱镜540A及540B使用。如图21所示的楔型棱镜540A及540B经由宽度t(例如，10[Mffl])的空气层550固定在基底棱镜固定器541及541B。另外，通过滑动基底542A及滑块542B的组合，能够线性滑动，驱动部546按照楔型棱镜540A及540B的相互的位置确保空气层550的宽度t不变化的方式使滑动部545沿一个方向(图中箭头ii方向)相对移动。通过该滑动部545的移动，改变楔型棱镜组54的二维图案的光轴方向的厚度(从平行平面板的厚度减去空气层550的宽度t的厚度)。g卩，通过楔型棱镜组54改变形成二维图案的光的光程长度。这样，通过在第二投影透镜52和感光材料12间配设楔型棱镜组54,能够简单地调节二维图案的光的光程长度。从而，与以往相比，能够简单且短时间内进行将通过第二投影透镜52成像的二维图案成像于感光材料12上时的焦点调节。还有，如图23所示，也可以通过在微透镜阵列55和第二投影透镜52间配置楔型棱镜组54，改变二维图案的光的光程长度，调节二维图案的焦点。作为所述焦点调节机构，说明了使用的楔型棱镜组54的情况，但所述焦点调节机构不限于这个，也可以为不改变构成成像透镜系50的投影透镜的位置而进行焦点调节的高束位置精度的焦点调节机构。例如，如图24A、图24B、图25A、及图25B所示，通过利用压电元件600使微透镜阵列55向焦点方向(图中为箭头X的方向)移动，进行焦点调节也可。通过使用压电元件600，能够抑制微透镜阵列55的向与焦点方向垂直的方向的变位，同时能够向焦点方向微小移动，因此，能够保持稳定的束位置精度的同时，进行焦点调节。一感光材料的移动方向一其次，对曝光时的相对移动中的感光材料的移动方向进行说明。是概略表示了图26A所示的感光材料12和DMD36的位置关系的立体图。还有，如图2所示，说明了曝光装置10具备10个具有DMD36的曝光头30的情况，但简化图26A及图26B，仅着眼于一个DMD36而图示及说明。如图26A所示，在相对于DMD36的所有的微镜81使用占据区域80T的微镜81的情况下，优选使区域80T的短边方向朝向感光材料12的弯曲方向，使感光材料12沿该弯曲方向移动(使区域80T的短边方向朝向感光材料12的移动方向)，同时对感光材料12进行曝光。在图26A中，曝光区域81是使用DMD36的所有的微镜81形成二维图案时的曝光区域，曝光区域81T是使用在DMD81中占据区域80T的微镜81形成二维图案时的曝光区域。图26B是放大表示在图26A中用虚线框P包围的部分的侧面图。如图26B所示，使用DMD36的所有的微镜81形成二维图案的情况下，微镜81的相对感光材料12的最大深度差(微镜81内中感光材料12表面的最大高低差)是d2。另一方面，在使用DMD36中占据区域80T的微镜81的情况下，曝光区域81T的相对感光材料12的最大深度差是dl。如图26B所示，dl<d2，深度差小的情况与深度差大的情况相比，二维图案内的感光材料12的弯曲的程度小。从而，能够将二维图案的焦点位置对位在更适当的位置。另外，若结束一个帧(frame)的曝光，使载物台14沿扫描方向移动，由此使感光材料12移动，则曝光区域81T的位置变化，曝光区域81T内的感光材料12的弯曲程度变化，因此，焦点位置也变化，但通过楔型棱镜组54进行焦点调节，由此焦点位置被调节到当前位置。从而，能够进行应对感光材料12的弯曲的具有长焦点深度的曝光。这样，在构成DMD36的微镜58中，使用沿列方向排列的微镜58中的一部分微镜58，形成大致矩形状二维图案时，使二维图案的短边方向朝向扫描器24的弯曲方向进行曝光，由此，能够减小曝光区域81T内的感光材料12的弯曲的程度。因此，能够将二维图案的焦点位置对位在适当的位置，与以往的曝光装置相比，能够在外观上增大曝光装置10的焦点深度。从而，能够提高曝光画质。还有，如图2所示，实际上曝光头30按照DMD36的像素列方向与扫描方向成规定的设定倾斜角度的方式安装在扫描器24。从而，利用各曝光头30的曝光区域32(相当于图26A及图26B中的曝光区域81T)成为相对扫描方向倾斜的矩形状的区域。为了最小限度地抑制利用曝光区域81T内的感光材料12的弯曲导致的影响的程度，理想的是使曝光区域81T的短边方向和感光材料12的弯曲方向完全一致，但即使曝光区域81T呈上述规定的设定倾斜角度，也只要曝光区域81T的短边方向从长边方向朝向感光材料12的弯曲方向即可。[曝光图案像歪斜的修正方法]所述空间光调制元件的各描绘像素部的面的歪斜导致给聚光位置上的光束带来歪斜的问题，尤其，在将所述DMD作为空间光调制元件使用的情况下显著，存在不能形成高精细的曝光图案的问题。因此，在汇聚来自所述DMD的光的微透镜阵列中，修正该idmd的射出面的歪斜。还有，适合该方法的曝光头，例如，可以举出特开2005—258431号公报的段落编号00400046中记载的结构。作为所述曝光图案像歪斜的修正方法，例如，可以举出将所述微透镜阵列的各微透镜形成为具有修正所述描绘像素部的面的歪斜引起的像差的特性的透镜的方法，作为这样的微透镜，具体来说，可以举出具有非球面的微透镜、具有折射率分布的微透镜、及具有不使来自周边部的光入射的透镜开口形状的微透镜等。具体来说，例如，可以举出特开2005—258431号公报的段落编号00510088中记载的微透镜等。[利用其他光学系的修正方法]作为利用上述以外的光学系的感光光的修正方法，不特别限制，可以与从公知的光学系中适当选择的其他光学系合用，例如，可以举出由一对组合透镜构成的光量分布修正光学系等。所述光量分布修正光学系该各射出位置上的光束宽度，使相对于靠近光轴的中心部的光束宽度的周边部的光束宽度之比在入射侧比射出侧小，由此在将来自光照射机构的平行光束向DMD照射时，修正被曝光面上的光量分布，使其大致均一。作为所述光量分布修正光学系，例如，可以举出特开2005—258431号公报的段落编号00890105中记载的机构。〈图案信号生成机构〉优选所述光调制机构还具有基于形成的图案信息生成控制信号的图案信号生成机构，对应该图案信号生成机构产生的控制信号，对从光照射机构照射的光进行调制。通过具有所述图案信号生成机构，能够在所述光调制机构的使用描绘像素部的选择、或曝光图案的形成中进行灰色标度。一高速调制一所述光调制机构的数据处理速度存在极限，正比于使用的描绘像素数目，确定每一线的调制速度，因此，通过仅使用连续排列的任意的小于n个的描绘像素部，使得每一线的调制速度加快。作为能够进行所述高速调制的机构，例如，可以举出特开2005—258431号公报的段落编号00230027中记载的机构。如所述公报中记载的机构一样，通过控制器进行控制，使得仅驱动一部分的微镜列，从而，与驱动全部的微镜列的情况相比，提高每一线的调制速度。[利用多重曝光的修正]如上所述，构成所述曝光头的各种透镜系导致的曝光光的歪斜的影响还可以通过选择使用的微镜，利用N重曝光的弥补的效果来均化。进而，所述曝光头的安装位置或安装角度的偏移导致的析像度的不均或浓度不均也可以通过选择使用的微镜，利用N重曝光的弥补的效果来均化。具体来说，适当举出以下所述的方法，即使用曝光头，所述曝光头配置成描绘像素部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度e，利用使用描绘像素部指定机构，对于所述曝光头，指定可以使用的所述描绘像素部中的用于N重曝光(其中，N为2以上的自然数)的所述描绘像素部，利用描绘像素部控制机构，对于所述曝光头，进行所述描绘像素部的控制，使得只有由所述使用描绘像素部指定机构指定的所述描绘像素部参与曝光，相对于所述感光层，使所述曝光头在扫描方向上相对地移动，从而进行曝光。所述N重曝光是指被在所述感光层的被曝光面上的曝光区域的大致全部区域，与所述曝光头的扫描方向平行的直线与照射到所述被曝光面上的N条光点列交叉的曝光。作为所述N重曝光的N，只要是2以上的自然数，没有特别限制，可以根据目的适当选择，优选3以上的自然数，更优选3以上7以下的自然数。<<使用描绘像素部指定机构>>作为所述使用描绘像素部指定机构，优选至少具备在被曝光面上检测作为描绘单位的光点的位置的光点位置检测机构、和基于所述光点位置检测机构的检测结果来选择用于实现N重曝光而使用的描绘像素部的描绘像素部选择机构。以下对利用所述使用描绘像素部指定机构指定N重曝光中使用的描绘像素部的方法的例子进行说明。(1)单个曝光头内的使用描绘像素部的指定方法在本实施方式(1)中，是利用曝光装置10，对感光材料12进行2重曝光的情况，对减轻各曝光头30的安装角度误差引起的析像度的不均和浓度不均的、用于实现理想的2重曝光的使用描绘像素部的指定方法进行说明。作为相对曝光头30的扫描方向的描绘像素部(微镜58)的列方向的设定倾斜角度e，如果是没有曝光头30的安装角度误差等的理想的状态，使用可以使用的1024列X256行的描绘像素部，采用略大于恰好成为2重曝光的角度eid^的角度。该角度eid^是对于N重曝光的数目N、可以使用的微镜58的列方向的个数s、可以使用的微镜58的列方向的间隔p及在使曝光头30倾斜的状态下利用微镜形成的扫描线的间距5，利用下述式lSpsin0jdeai^NS(式1)得到。本实施方式中的DMD36如上所述，纵横配置间隔相等的大多数微镜58被配置成矩形格子状，所以为pcos0ideai=S(式2)上述式1成为stan9ideai二N(式3)在本实施方式(1)中，如上所述，s=256、N=2，所以根据所述式3，角度0id^约为O.45度。因而，作为设定倾斜角度e，例如也可以采用0.50度左右的角度。曝光装置10在可以调节的范围内，被初期调节为各曝光头30即各DMD36的安装角度成为接近该设定倾斜角度9的角度。图31是表示在被如上所述初期调节的曝光装置10中，在1个曝光头30的安装角度误差及图案偏斜的影响下，在被曝光面上的图案上产生的不均的例子的说明图。在以下的附图及说明中，对于由各描绘像素部(微镜)产生的作为构成被曝光面上的曝光区域的描绘单位的光点，分别将第m行的光点标记成r(m)、第n列的光点标记成c(n)、第m行第n列的光点标记成P(m，n)图31的上段部分表示在使载物台14静止的状态下在感光材料12的被曝光面上投影的、来自可以使用的微镜58的光点组的图案，下段部分表示在上段部分所示之类的光点组的图案出现的状态下使载物台14移动并进行连续曝光时，在被曝光面上形成的曝光图案的状态。其中，在图3中，为了便于说明，将可以使用的微镜58分成奇数列的曝光图案和偶数列的曝光图案进行表示，但实际上的被曝光面上的曝光图案重叠了这2个曝光图案。在图31的例子中，作为设定倾斜角度采用若干大于所述角度eidea'的角度的结果，另外还由于曝光头30的安装角度的微调节很困难，所以作为实际的安装角度与所述设定倾斜角度e之间具有误差的结果，在被曝光面上的任意区域也产生了浓度不均。具体而言，在利用奇数列的微镜的曝光图案及利用偶数列的微镜的曝光图案双方，在由多个描绘像素部列形成的被曝光面上的重复曝光区域，相对理想的2重曝光，曝光变得过多，产生描绘变得冗长的区域，产生浓度不均。进而，在图31的例子中，是在被曝光面上出现的图案偏斜的一例，产生投影到被曝光面上的各像素列的倾斜角度变得不均一的"角度偏斜"。作为这样的角度偏斜产生的原因，可以举出DMD36与被曝光面间的光学系的各种像差或定位偏离及DMD36自身的偏斜或微镜的配置误差等。图31的例子中出现的角度偏斜是相对扫描方向的倾斜角度，越在图的左方列越变小、越在图的右方列越变大的方式的偏斜。作为该角度偏斜的结果，变得曝光过多的区域，越在图的左方所示的被曝光面上越变小、越在图的右方所示的被曝光面上越变大。为了减轻如上所述的利用多个描绘像素部列形成的被曝光面上的重复曝光区域的浓度不均，将缝隙28及光检测器的组用作所述光点位置检测机构，在每个曝光头30，确定实际倾斜角度e'，基于该实际倾斜角度e'，将与所述光检测器连接的所述运算装置用作所述描绘像素部选择机构，进行选择实际的曝光中使用的微镜的处理。基于光点位置检测机构检测出的至少2个光点位置，利用在使曝光头倾斜的状态下的被曝光面上的光点的列方向与所述曝光头的扫描方向所成的角度来确定实倾斜处理e'。以下使用图32及图33，对所述实际倾斜角度e'的确定及使用像素选择处理进行说明。一实际倾斜角度e'的确定一图32是表示1个DMD36的曝光范围32与对应的缝隙28之间的位置关系的俯视图。缝隙28的大小为充分覆盖曝光范围32的宽度的大小。在本实施方式(1)的例子中，将位于曝光范围32的大致中心的第512列光点列与曝光头30的扫描方向之间所成的角度作为所述实际倾斜角度e'测定。具体而言，使DMD36上的第1行第512列的微镜58及第256行第512列的微镜58处于开(ON)状态，检测对应它们的被曝光面上的光点P(1，512)及P(256，512)的位置，将连接它们的直线与曝光头的扫描方向所成角度确定为实际倾斜角度e'。图33是表示说明光点P(256，512)的位置的检测方法的俯视图。首先，在使第256行第512列的微镜58点亮的状态下，缓慢移动载物台14，沿着Y轴使缝隙28相对移动，使缝隙28位于使光点P(256，512)位于上游侧的缝隙28a与下游侧的缝隙28b之间的任意位置。此时的缝隙28a与缝隙28b之间的交点的座标为(X0，Y0)。该座标(X0，Y0)的值由直到给予载物台14的驱动信号所示的所述位置的载物台14的移动距离及已知的缝隙28的X方向位置来确定并被记录。接着，使载物台14移动，使缝隙28沿着Y轴在图33的右方相对移动。那么，在图33中，如两点划线所示，光点P(256，512)的光通过左侧的缝隙28b并被光检测器检测出后，使载物台14停止。将此时的缝隙28a与缝隙28b的交点的座标(X0，Yl)作为光点P(256,512)的位置进行记录。接着，使载物台14向相反方向移动，使缝隙28沿着Y轴在图33的左方相对移动。那么，在图33中，如两点划线所示，光点P(256，512)的光通过右侧的缝隙28a并被光检测器检测出后，使载物台14停止。将此时的缝隙28a与缝隙28b的交点的座标(X0，Y2)作为光点P(256，512)的位置进行记录。从以上的测定结果，利用X=X0+(Yl—Y2)/2、Y=(Yl+Y2)/2的计算，确定表示光点P(256，512)在被曝光面上的位置的座标(X，Y)。也利用同样的测定，确定表示P(1，512)的位置的座标，导出连接它们的座标的直线与曝光头30的扫描方向所成的倾斜角度，将其确定为实际倾斜角度e'。一使用描绘像素部的选择一使用这样确定的实际倾斜角度e，，与所示光检测器连接的所示运算装置导出满足下述式4ttane，=N(式4)的关系的值t最近的自然数T，进行将DMD36上的第1行到第T行的微镜选作本曝光时实际使用的微镜的处理。这样，在第512列附近的曝光区域中，可以将相对理想的2重曝光成为曝光过多的区域与成为曝光不足的区域的面积总计为最小的微镜选作实际使用的微镜。在此，也可以代替导出与所述值t相近的自然数，导出值t以上的最小的自然数。这种情况下，在第512列附近的曝光区域中，可以将相对理想的2重曝光为曝光过多的区域的面积变得最小而且不产生曝光不足的区域的微镜选作实际使用的微镜。另外，也可以导出值t以下的最大的自然数。这种情况下，在第512列附近的曝光区域中，可以将相对理想的2重曝光为曝光不足的区域的面积变得最小而且不产生曝光过多的区域的微镜选作实际使用的微镜。图34是表示在仅使用被选作如上所述实际使用的微镜的微镜产生的光点迸行曝光中，如何改善图31所示的被曝光面上的不均的说明图。在该例中，导出T=253作为所述自然数T，选择从第1行到第253行的微镜。相对被选择的第254行第256行的微镜，利用所述描绘像素部控制机构，传送设定时常关状态的角度的信号，这些微镜实际上不与参与曝光。如图34所示，在第512列附近的曝光区域，曝光过多及曝光不足几乎被完全消解，可以实现与理想的2重曝光极为接近的均一的曝光。另一方面，在图34的左方的区域(图中的c(1)附近)，在所述角度偏斜的作用下，被曝光面上的光点列的倾斜角度变得小于中央附近(图中的c(512)附近)的区域的光线列的倾斜角度。因而，在基于以c(512)为标准测定的实际倾斜角度e'而选择的微镜的曝光中，分别在偶数列的曝光范围及奇数列的曝光范围中，略微产生相对理想的2重曝光而成为曝光不足的区域。但是，在重叠图示的利用奇数列的曝光图案与利用偶数列的曝光图案而成的实际的曝光图案中，成为曝光不足的区域被彼此补充，可以用利用2重曝光的补偿的效果使所述角度偏斜引起的曝光不均最小。另外，在图34的右方的区域(图中的c(1024)附近)，在所述角度偏斜的作用下，被曝光面上的光线列的倾斜角度变得大于中央附近(图中的c(512)附近)的区域的光线列的倾斜角度。因而，在基于以c(512)为标准测定的实际倾斜角度e'而选择的微镜的曝光中，如图所示，略微产生相对理想的2重曝光而成为曝光过多的区域。但是，在重叠图示的利用奇数列的曝光图案与利用偶数列的曝光图案而成的实际的曝光图案中，成为曝光过多的区域被彼此补充，可以用利用2重曝光的补偿的效果使所述角度偏斜引起的浓度不均最小。在本实施方式(1)中，如上所述，测定第512列的光线列的实际倾斜角度e'，使用该实际倾斜角度e'，选择基于利用所述式(4)导出的T使用的微镜58，但作为所述实际倾斜角度e'的确定方法，也可以为分别测定多个描绘像素部的列方向(光点列)与所述曝光头的扫描方向所成的多个实际倾斜角度，将这些平均值、中值、最大值及最小值的任意一个确定作为实际倾斜角度e'，利用所述式(4)等选择实际的曝光时实际使用的微镜的方式。如果将所述平均值或所述中值作为实际倾斜角度e'，则可以实现相对理想的n重曝光而成为曝光过多的区域与成为曝光不足的区域的平衡良好的曝光。例如，可以实现将成为曝光过多的区域与成为曝光量不足的区域的总面积抑制为最小，而且成为曝光过多的区域的描绘单位数(光点数)与成为曝光不足的区域的描绘单位数(光点数)变成相等的曝光。另外，如果将所述最大值作为实际倾斜角度e',则可以实现更加重视相对理想的n重曝光而成为曝光过多的区域的排除的曝光，例如可以实现将成为曝光不足的区域的面积抑制为最小，而且不产生成为曝光过多的区域的曝光。进而，如果将所述最小值作为实际倾斜角度e'，则可以实现更加重视相对理想的n重曝光而成为曝光不足的区域的排除的曝光，例如可以实现将成为曝光过多的区域的面积抑制为最小，而且不产生成为曝光不足的区域的曝光。另一方面，所述实际倾斜角度e'的确定不限于基于同一描绘像素部的列(光点列)中的至少2个光点的位置的方法。例如也可以将从同一描绘像素部列c(n)中的1个或多个光点的位置和该c(n)附近的列中的1个或多个光点的位置求得的角度确定作为实际倾斜角度e，。具体而言，可以检测c(n)中的1个光点位置和沿着曝光头的扫描方向的直线上而且附近的光点列中含有的1个或多个光点位置，从这些位置信息求得实际倾斜角度e'。进而，也可以将基于c(n)列附近的光点列中的至少2个光点(例如配置成跨越c(n)的2个光点)的位置求得的角度确定作为实际倾斜角度e'。如上所述，如果利用使用曝光装置10的本实施方式(1)的使用描绘像素部的指定方法，可以减轻各曝光头的安装角度误差或图案偏斜的影响引起的析像度的不均或浓度不均，实现理想的N重曝光。(2)多个曝光头间的使用描绘像素部的指定方法<1>在本实施方式(2)中，对在利用曝光装置IO，对感光材料12进行2重曝光的情况下、减轻在作为利用多个曝光头30形成的被曝光面上的重复曝光区域的头间连接区域、2个曝光头(作为一例为曝光头3012和3021)的X轴方向相关的相对位置从理想状态偏离引起的析像度的不均和浓度不均、用于实现理想的2重曝光的使用描绘像素部的指定方法进行说明。作为各曝光头30即各DMD36的设定倾斜角度e，如果为没有曝光头30的安装角度误差等的理想状态，采用使用可以使用的1024列X256行的描绘像素部微镜58而恰好成为2重曝光的角度eideal的状态。该角度0id^与所述实施方式(1)同样地从所述式13求得。在本实施方式(2)中，曝光装置10被初期调节成各曝光头30即各DMD36的安装角度成为该角度eu^。图35是表示在如上所述进行初期调节的曝光装置10中，在2个曝光头(作为一例为曝光头3012和3021)的X轴方向相关的相对位置从理想状态偏离的影响下，在被曝光面上的图案上产生浓度不均的例子的说明图。各曝光头的X轴方向相关的相对位置的偏离可以由于难以微调节曝光头间的相对位置而产生。图35的上段部分是表示在使载物台14静止的状态下，向感光材料12的被曝光面上投影的来自可以使用具有曝光头3012和3021的DMD36的微镜58的光点组的图案的图。图35的下段部分是表示在表现如上段部分所示的光点组的图案的状态下使载物台14移动进行连续曝光时，对曝光范围3212和3221在被曝光面上形成的曝光图案的状态的图。其中，在图35中，为了便于说明，将可以使用的微镜58的每隔l列的曝光图案分成利用像素列组A的曝光图案和利用像素列组B的曝光图案表示，而实际的被曝光面上的曝光图案重叠了这2个曝光图案。在图35的例子中，作为所述X轴方向相关的曝光头3012和3021之间的相对位置从理想状态的偏离结果，在利用像素列组A的曝光图案和利用像素列组B的曝光图案的双方，在曝光范围3212和3221的所述头间连接区域，相对于理想的2重曝光的状态，产生曝光量过多的部分。为了减轻如上所述的利用多个所述曝光头而在被曝光面上形成的所述头间连接区域出现的浓度不均，在本实施方式(2)中，将缝隙28及光检测器的组用作所述光点位置检测机构，对来自曝光头3012和3021的光点组中构成在被曝光面上形成的所述头间连接区域的几个光点，检测其位置(座标)。基于该位置(座标)，使用与所述光检测器连接的运算装置作为所述描绘像素部选择机构，进行选择实际曝光中使用的微镜的处理。一位置(座标)的检测一图36是表示与图35同样的曝光范围3212及3221与对应的缝隙28之间的位置关系的俯视图。缝隙28的大小为充分覆盖利用曝光头3012和3021的已曝光区域34间的重复部分的宽度的大小，即充分覆盖利用曝光头3012和3021在被曝光面上形成的所述头间连接区域的大小。图37是表示作为一例检测曝光范围322,的光点P(256，1024)的位置时的检测方法的俯视图。首先，在使第256行第1024列的微镜点亮的状态下，缓慢移动载物台14，沿着Y轴使缝隙28相对移动，使缝隙28位于使光点P(256，1024)位于上游侧的缝隙28a与下游侧的缝隙28b之间的任意位置。此时的缝隙28a与缝隙28b之间的交点的座标为(XO，YO)。该座标(XO，YO)的值由直到给予载物台14的驱动信号所示的所述位置的载物台14的移动距离及已知的缝隙28的X方向位置来确定并被记录。接着，使载物台14移动，使缝隙28沿着Y轴在图37的右方相对移动。那么，在图37中，如两点划线所示，光点P(256，1024)的光通过左侧的缝隙28b并被光检测器检测出后，使载物台14停止。将此时的缝隙28a与缝隙28b的交点的座标(X0，Yl)作为光点P(256，1024)的位置进行记录。接着，使载物台14向相反方向移动，使缝隙28沿着Y轴在图37的左方相对移动。那么，在图37中，如两点划线所示，光点P(256，1024)的光通过右侧的缝隙28a并被光检测器检测出后，使载物台14停止。将此时的缝隙28a与缝隙28b的交点的座标(X0，Y2)作为光点P(256，1024)的位置进行记录。从以上的测定结果，利用X=X0+(Y1—Y2)/2、Y=(Yl+Y2)/2的计算，确定表示光点P(256，1024)在被曝光面上的位置的座标(X，Y)。一不使用描绘像素部的确定一在图35的例子中，首先利用缝隙28和光检测器的组作为所述光点位置检测机构检测曝光范围32u的光点P(256，1)的位置。接着，按照P(256，1024)、P(256，1023)…的顺序检测曝光范围3221的第256行的光点行r(256)上的各光点的位置，检测表示大于曝光范围32,2的光点P(256，1)的X座标的曝光范围32^的光点P(256，n)后，结束检测工作。接着，将对应构成从曝光范围3221的光点光点列c(n+l)到c(1024)的光点的微镜确定作为本曝光时不使用的微镜(不使用描绘像素部)。例如，在图35中，曝光范围322,的光点P(256，1020)表示大于曝光范围3212的光点P(256，1)的X座标，如果在检测该曝光范围3221的光点P(256，1020)之后结束检测动作，对应构成相当于在图38中被斜线覆盖的部分70的曝光范围3221的第1021行1024行的光点的微镜，在本曝光时被确定作为不使用的微孔。接着，相对N重曝光的数目N，检测曝光范围32,2的光点P(256，N)的位置。在本实施方式(2)中，N二2，所以检测光点P(256，2)的位置。接着，曝光范围3221的光点列中，除了被确定作为对应在所述本曝光时不使用的微镜的光点列以外，将构成最右侧的第1020列的光点的位置，从P(1，1020)依次检测为P(1，1020)、P(2，1020)…，检测表示大于曝光范围32u的光点P(256，2)的X座标的光点P(m，1020)后，结束检测工作。然后，在与所述光检测器连接的运算装置中，比较曝光范围3212的光点P(256，2)的X座标和曝光范围3221的光点P(m，1020)及P(m一l，1020)的X座标，曝光范围32^的光点P(m,1020)的X座标的一方接近曝光范围32,2的光点P(256，2)的X座标的情况下，对应曝光范围3221的从光点P(1，1020)到P(m—l，1020)的微镜被确定作为本曝光时不使用的微镜。另外，曝光范围3221的光点P(m—l，1020)的X座标的一方接近曝光范围32,2的光点P(256，2)的X座标的情况下，对应曝光范围3221的从光点P(1，1020)到P(m—2，1020)的微镜被确定作为本曝光时不使用的微镜。进而，对曝光范围3212的光点P(256，N—l)即光点P(256，1)的位置和构成作为曝光范围3221的次列的第1019列的各光点的位置，也进行同样的检测处理及不使用的微镜的确定。结果，例如在图38中对应构成用网格表示的区域72的光点的微镜被追加为实际的曝光时不使用的微镜。经常向这些微镜送来将该微镜的角度设定为关状态的角度的信号，这些微镜实际上在曝光时不使用。这样，通过确定在实际的曝光时不使用的微镜，将除了该不使用的微镜以外的微镜选作实际曝光时使用的微镜，在曝光范围3212与3221的所述头间连接区域，可以使相对理想的2重曝光成为曝光过多的区域及成为曝光不足的区域的总面积为最小，如图38的下段所示，可以实现极为接近理想的2重曝光的均一的曝光。其中，在所述例子中，在图38中确定构成用网格表示的区域72的光点时，也可以不比较曝光范围32,2的光点P(256，2)的X座标和曝光范围322,的光点P(m，1020)及P(m—l，1020)的X座标，而立即将对应曝光范围3221的光点P(1，1020)到P(m—2，1020)的微镜确定作为本曝光时不使用的微镜。这种情况下，在所述头间连接区域，可以将相对理想的2重曝光成为曝光过多的区域的面积变得最小，而且不产生成为曝光不足的区域之类的微镜，选作实际使用的微镜。另外，也可以将对应曝光范围32^的光点P(1，1020)到P(m—l，1020)的微镜确定作为本曝光时不使用的微镜。这种情况下，在所述头间连接区域，可以将相对理想的2重曝光成为曝光不足的区域的面积变得最小，而且不产生成为曝光过多的区域之类的微镜，选作实际使用的微镜。进而，在所述头间连接区域，也可以在选择实际使用的微镜时，使相对理想的2重描绘成为曝光过多的区域的描绘单位数(光点数)与成为曝光不足的区域的描绘单位数(光点数)相等。如上所述，如果利用使用曝光装置10的本实施方式(2)的使用描绘像素部的指定方法，可以减轻多个曝光头的X轴方向相关的相对位置的偏离引起的析像度的不均和浓度不均，实现理想的N重曝光。(3)多个曝光头间的使用描绘像素部的指定方法<2>在本实施方式(3)中，对在利用曝光装置10，相对感光材料12进行2重曝光的情况下、减轻在作为利用多个曝光头30形成的被曝光面上的重复曝光区域的头间连接区域、2个曝光头(作为一例为曝光头3012和3021)的X轴方向相关的相对位置从理想状态偏离以及各曝光头的安装角度误差及2个曝光头间的相对安装角度误差引起的析像度的不均和浓度不均、用于实现理想的2重曝光的使用描绘像素部的指定方法进行说明。作为各曝光头30即各DMD36的设定倾斜角度，如果为没有曝光头30的安装角度误差等的理想状态，则采用使用可以使用的1024列X256行的描绘像素部(微镜58)而恰好若干大于成为2重曝光的角度eidealW角度的状态。该角度eid^为使用所述式13与所述(1)的实施方式同样地求得的值，在本实施方式中，如上所述，s=256、N=2，所以角度0i^约为0.45度。因而，作为设定倾斜角度e，例如也可以采用0.50度左右的角度。曝光装置10在可以调节的范围内，被初期调节为各曝光头30即各DMD36的安装角度成为接近该设定倾斜角度e的角度。图39是表示在将各曝光头30即各DMD36的安装角度如上所述初期调节的曝光装置10中，在2个曝光头(作为一例为曝光头3012和3021)的安装角度误差以及各曝光头3012和3021间的相对安装角度误差及相对位置的偏离的影响下，在被曝光面上的图案上产生的不均的例子的说明图。在图39的例子中，与图35的例子相同，作为X轴方向相关的曝光头3012和3021的相对位置的偏离的结果，在利用每隔一列的光点组(像素列组A及B)的曝光图案的双方，在曝光范围3212与3221在与被曝光面上的所述曝光头的扫描方向正交的坐标轴上重复的曝光区域，产生与理想的2重曝光的状态相比曝光量过多的区域74，这引起浓度不均。进而，在图39的例子中，由于使各曝光头的设定倾斜角度e若干大于满足所述式(1)的角度9idw的结果，另外还由于各曝光头的安装角度的微调节很困难，所以作为实际的安装角度偏离所述设定倾斜角度e的结果，在与被曝光面上的所述曝光头的扫描方向正交的坐标轴上重复的曝光区域以外的区域，利用每隔一列光点组(像素列组A及B)的曝光图案的双方，在利用多个描绘像素部列形成的作为被曝光面上的重复曝光区域的描绘像素部列间连接区域，产生相对理想的2重曝光的状态成为曝光过多的区域76，这引起了进一步的浓度不均。在本实施方式(3)中，首先进行用于减轻各曝光头3012和3021的安装角度误差及相对安装角度的偏离的影响下产生的浓度不均的使用像素选择处理。具体而言，将缝隙28及光检测器的组用作所述光点位置检测机构，对每个曝光头3012和3021，确定实际倾斜角度e'，基于该实际倾斜角度e'，将与光检测器连接的运算装置用作所述描绘像素部选择机构，进行选择实际的曝光中使用的微镜的处理。一实际倾斜角度e'的确定一实际倾斜角度e'的确定是通过利用在所述实施方式(2)中使用的缝隙28和光检测器的组分别检测，对于曝光头3012而言的曝光范围3212内的光点P(1，1)和P(256，1)的位置，对于曝光头3021而言的曝光范围32^内的光点P(1，1024)和P(256，1024)的位置，测定连接它们的直线的倾斜角度与曝光头的扫描方向所成角度来进行的。一不使用描绘像素部的确定一使用如上所述确定的实际倾斜角度e'，与光检测器连接的运算装置与所述实施方式(1)中的运算装置同样，分别对于曝光头3012和3021，导出满足下述式4ttane，=N(式4)的关系的值t最近的自然数T，进行将DMD36上的第(T+l)行到第256行的微镜确定作为本曝光时不使用的微镜。例如，如果对于曝光头3012导出丁=254、对于曝光头3021导出丁=255，在图40中对应构成用斜线覆盖的部分78及80的光点的微镜被确定作为本曝光中不使用的微镜。这样，在曝光头32,2和3221中头间连接区域以外的各区域，可以使相对理想的2重曝光成为曝光过多的区域及成为曝光不足的区域的总面积成为最小。在此，也可以代替导出与所述值t相近的自然数，而导出值t以上的最小的自然数。这种情况下，在曝光范围3212和3221的作为利用多个曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域的头间连接区域以外的各区域中，可以将相对理想的2重曝光成为曝光过多的区域的面积变得最小而且不产生成为曝光不足的面积。或者，也可以导出值t以下的最大的自然数。这种情况下，在曝光范围3212和3221的作为利用多个曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域的头间连接区域以外的各区域中，可以将相对理想的2重曝光成为曝光不足的区域的面积变得最小而且不产生成为曝光过多的区域。在作为利用多个曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域的头间连接区域以外的各区域中，也可以在确定本曝光时不使用的微镜时，使相对理想的2重曝光成为曝光过多的区域的描绘单位数(光点数)与成为曝光不足的区域的描绘单位数(光点数)变得相等。然后，关于在图40中对应构成用斜线覆盖的区域78及80的光点以外的微镜，进行与使用图3539说明的本实施方式(3)同样的处理，确定在图40中对应构成用斜线覆盖的区域82及用网格表示的区域84的光点的微镜，追加作为在本曝光时不使用的微镜。相对被确定作为这些曝光时不使用的微镜，利用所述描绘像素部控制机构，传送设定成经常关状态的角度的信号，这些微镜实际上不参与曝光。如上所述，如果利用使用曝光装置10的本实施方式(3)的使用描绘像素部的指定方法，可以减轻多个曝光头的X轴方向相关的相对位置的偏离以及各曝光头的安装角度误差及曝光头间的相对安装角度误差引起的析像度的不均或浓度不均，实现理想的N重曝光。以上对利用曝光装置10的使用描绘像素部指定方法进行了详细说明，但所述实施方式(1)(3)只不过为一例，可以在不脱离本发明的范围下进行各种变更。另外，在所述实施方式(1)(3)中，作为用于检测被曝光面上的光点的位置的机构，使用缝隙28和单一单元型的光检测器的组，但也可以不限于此而使用任意方式的机构，例如可以使用二维检测器等。进而，在所述实施方式(1)(3)中，从利用缝隙28和光检测器的组进行被曝光面上的光点的位置检测结果求得实际倾斜角度e'，选择基于该实际倾斜角度e'使用的微镜，但也可以为选择可以不经过实际倾斜角度e'的导出而使用的微镜的方式。进而，例如通过进行使用所有可以使用的微镜的参照曝光，利用目视参照曝光结果来确认析像度或浓度的不均等，从而用手动指定操作者使用的微镜的方式也被包括在本发明的范围。此外，在被曝光面上产生得到的图案偏斜，除了在所述例子中说明的角度偏斜以外，还存在各种方式。作为一例，如图41A所示，来自DMD36上的各微镜58的光线，存在以不同倍率到达曝光面上的曝光范围32的倍率偏斜的方式。另外，作为其他例子，如图41B所示，来自DMD36上的各微镜58的光线，还存在以不同的光束直径到达被曝光面上的曝光范围32的光束直径偏斜的方式。这些倍率偏斜及光束直径偏斜主要由于DMD36与被曝光面间的光学系的各种像差或定位偏离引起产生。进而作为另一个例子，来自DMD36上的各微镜58的光线，还存在以不同的光量到达被曝光面上的曝光范围32的光量偏斜的方式。该光量偏斜除了各种像差或定位偏离以外，还由于DMD36与被曝光面间的光学要件(例如作为1张透镜的图5A及图5B的透镜52及54)的透过率的位置依存性或DMD36本身引起的光量不均引起产生。这些方式的图案偏斜也在被曝光面上形成的图案产生析像度或浓度的不均。利用所述实施方式(1)(3)，在选择本曝光中实际使用的微镜之后的这些方式的图案偏斜的残留要素，也可以与所述角度偏斜的残留要素同样地用利用多重曝光的补偿效果来平均，可以在各曝光头的整个曝光区域减轻析像度或浓度不均。<<参照曝光>>作为所述实施方式(1)(3)的变更例，为了只使用构成可以使用的微镜中的每隔(N—l)列的微镜列或全光点行中相当于1/N行的相邻行的微镜组进行参照曝光，可以实现均一的曝光，也可以确定在所述参照曝光中使用的微镜中实际曝光时不使用的微镜。取样输出利用所述参照曝光机构的参照曝光的结果，相对该输出的参照曝光结果，确认析像度的不均或浓度的不均，进行推断实际倾斜角度等的分析。所述参照曝光的结果的分析也可以为利用操作者的目视的分析。图42A及图42B是表示使用单一曝光头，只使用每隔(N—l)列的微镜进行参照曝光的方式的一例的说明图。在该例中，本曝光时为2重曝光，因而N二2。首先，只使用对应图42A中用实线表示的奇数列的光点列的微镜，进行参照曝光，取样输出参照曝光结果。通过基于所述取样输出的参照曝光结果，确认析像度的不均或浓度的不均或者推断实际倾斜角度，可以指定在本曝光时使用的微镜。例如，对应图42B中用斜线覆盖的光点列的微镜以外的微镜，被指定作为在构成奇数列的光点列的微镜中的本曝光中实际使用的微镜。对应偶数列的光点列，也可以另外同样地进行参照曝光，指定本曝光时使用的微镜，也可以适用与相对奇数列的光点列的图案相同的图案。可以通过这样指定在本曝光时使用的微镜，在使用奇数列及偶数列双方的微镜的本曝光中，实现接近理想的2重曝光的状态。图43是表示使用多个曝光头，只使用每隔(N—l)列的微镜进行参照曝光的方式的一例的说明图。在该例中，本曝光时为2重曝光，因而N二2。首先，只使用对应图43中用实线表示的X轴方向相关的相邻的2个曝光头(作为一例为3012和3021)的奇数列的光点列的微镜，进行参照曝光，取样输出参照曝光结果。通过基于所述输出的参照曝光结果，确认利用2个曝光头在被曝光面上形成的头间连接区域以外的区域中的析像度的不均或浓度的不均或者推断实际倾斜角度，可以指定在本曝光时使用的微镜。例如，对应图43中用斜线覆盖表示的区域86及用网格表示的区域88内的光点列的微镜以外的微镜，被指定作为在构成奇数列的光点的微镜中在本曝光时实际使用的微镜。对应偶数列的光点列，也可以另外同样地进行参照曝光，指定本曝光时使用的微镜，也可以适用与相对第奇数列的像素列的图案相同的图案。可以通过这样指定在本曝光时使用的微镜，在使用奇数列及偶数列双方的微镜的本曝光中，在利用2个曝光头在被曝光面上形成的所述头间连接区域以外的区域，实现接近理想的2重曝光的状态。图44A图44B是表示使用单一曝光头，只使用构成相当于全光点行数的1/N行的相邻的行的微镜组进行参照曝光的方式的一例的说明图。在该例中，本曝光时为2重曝光，因而N二2。首先，只使用对应图21A中用实线表示的第1行第128(=256/2)行的光点的微镜，进行参照曝光，取样输出参照曝光结果。可以通过基于所述取样输出的参照曝光结果，指定在本曝光时使用的微镜。例如，对应图44B中用斜线覆盖表示的光点组的微镜以外的微镜，可以被指定作为在第1行第128行的微镜中的本曝光时实际使用的微镜。对于第129行第256行的微镜，也可以另外同样地进行参照曝光，指定本曝光时使用的微镜，也可以适用与相对第1行第128行的微镜的图案相同的图案。可以通过这样指定在本曝光时使用的微镜，在使用全体微镜的本曝光中，实现接近理想的2重曝光的状态。图45是表示使用多个曝光头，对于X轴方向相关的相邻的2个曝光头(作为一例的曝光头3012和3021)，只使用分别构成相当于总光点行数的1/N行的相邻的行的微镜组进行参照曝光的方式的一例的说明图。在该例中，本曝光时为2重曝光，因而N二2。首先，只使用对应图22中用实线表示的第1行第128(=256/2)行的光点的微镜，进行参照曝光，取样输出参照曝光结果。通过基于所述取样输出的参照曝光结果，可以指定在本曝光时使用的微镜，使其能够实现将利用2个曝光头在被曝光面上形成的头间连接区域以外的区域中的析像度的不均或浓度的不均控制在最小限度的本曝光(本露光)。内的光点列的微镜以外的微镜，被指定作为在第1行第128行的微镜中在本曝光时实际使用的微镜。对于第129行第256行的微镜，也可以另外同样地进行参照曝光，指定本曝光时使用的微镜，也可以适用与相对第1行第128行的微镜的图案相同的图案。可以通过这样指定在本曝光时使用的微镜，在利用2个曝光头在被曝光面上形成的所述头间连接区域以外的区域，实现接近理想的2重曝光的状态。在以上的实施方式(1)(3)及变更例中，均对本曝光为2重曝光的情况进行了说明，但不限定于此，也可以为2重曝光以上的任意多重曝光。特别是可以通过使其为3重曝光7重曝光，实现确保高析像度，减轻析像度的不均及浓度不均的曝光。另外，为了使图像数据所表示的二维图案的规定部分的尺寸与可以利用选择的使用像素实现的对应部分的尺寸一致，优选在所述实施方式及变更例中的曝光装置中进一步设置转换图像数据的机构。可以通过这样转换图像数据，在曝光面上形成按照需要的二维图案的高精细的图案。[锯齿减少方法]若为了提高析像度而使所述曝光头倾斜来进行曝光，则存在形成的曝光图案中产生不能忽视的锯齿的问题。例如，在形成沿扫描方向或与之正交的方向延伸的直线状图案的情况下，有时将由所述光调制机构形成的各描绘像素部的位置、和图案的希望的描绘位置之间的偏离作为锯齿辨认。针对该问题，不寻求增加每单位面积的描绘像素数目等的机构，而设定最佳描绘条件，由此说明抑制锯齿的产生的方法。图46表示图47所示的各曝光头24a24j的结构。所述曝光头24a24j如图47所示，在与片薄膜F(感光材料12)的扫描方向(移动载物台的移动方向)正交的方向上以两列交错状排列。如图48所示，组入各曝光头24a24j的DMD36设定为相对于扫描方向倾斜规定角度的状态，以实现高析像度。即，通过使DMD36相对于片薄膜F(感光材料12)的扫描方向倾斜，使在与构成DMD36的微镜40的扫描方向正交的方向上的间隔变窄，由此，能够提高与扫描方向正交的方向上的析像度。还有，将基于各曝光头24a24j的曝光区域58a58j在与扫描方向正交的方向上重叠地设定，以免在曝光头24a24j之间产生连接缝。图49是图1所示的曝光装置10的控制电路的要部结构方框图。控制曝光装置10的控制单元42(控制机构)具备基于利用编码器62检测的移动载物台14的位置数据生成同步信号的同步信号生成部64、基于所生成的同步信号使移动载物台14沿扫描方向移动的曝光载物台驱动部66、存储描绘在片薄膜F(感光材料12)的图像的描绘数据的描绘数据存储部68、基于同步信号及描绘数据调制控制DMD的SRAM单元，并驱动微镜的DMD调制部70。另外，控制单元42具备调节利用同步信号生成部64生成的同步信号的频率变更部72(描绘时间间隔变更机构)、相位差变更部74(相位差变更机构)、及移动速度变更部75(移动速度变更机构)。频率变更部72改变确定构成DMD36的微镜40的扫描方向上的开启关闭控制的时间间隔的频率，将其向同步信号生成部64供给，调节描绘在片薄膜F(感光材料12)的像素的扫描方向的间隔。相位差变更部74改变在与扫描方向大致正交的方向上邻接而排列的微镜40的开启关闭控制的时间间隔的相位差，将其向同步信号生成部64供给，调节在片薄膜F(感光材料12)上描绘的像素的扫描方向上的相位差。移动速度变更部75改变移动载物台14的移动速度，将其向同步信号生成部64供给，由此调节移动载物台14的移动速度。进而，在控制单元42根据需要配设有曝光头旋转驱动部76(描绘像素组旋转机构)、及光学放大倍数变更部78(描绘放大倍数变更机构)。曝光头旋转驱动部76使曝光头24a24j围绕激光束L的光轴旋转规定的角度，调节形成在片薄膜F(感光材料12)上的像素排列的相对扫描方向的倾斜角度。还有，通过使曝光头24a24j的一部分光学部件旋转，调节像素排列的倾斜角度也可。光学放大倍数变更部78控制由曝光头24a24j的第二成像光学透镜50、52构成的变焦光学系79改变光学放大倍数，调节利用邻接的微镜40形成在片薄膜F(感光材料12)上的像素的排列间距或基于同一微镜40的描绘间距。本发明的曝光装置10基本上如上所述地构成，以下，对其的运行进行说明。在移动载物台14上吸附保持感光材料12后，控制单元42驱动曝光载物台驱动部66，使移动载物台14沿固定板14的导轨16向一方的方向移动。在移动载物台14通过柱22间时，摄像机26读取记录在感光材料12的规定位置的排列标记。控制单元42基于读取的排列标记的位置数据，算出片薄膜F的位置修正数据。在算出位置修正数据后，控制单元42使移动载物台14向另一方的方向移动，利用扫描器26对片薄膜F(感光材料12)开始进行描绘图案(图像)的曝光。艮卩，从光源单元28输出的激光束L经由光纤30导入各曝光头24a24j中。导入的激光束L从柱透镜32经由反射镜34射入DMD36中。另一方面，从描绘数据存储部68读取，且被位置修正数据修正的描绘数据在DMD调制部70中，以按照从同步信号生成部64供给的同步信号的时间间隔经过调制后，被供给到DMD36。其结果，按照描绘数据以对应于同步信号的时间间隔开启关闭控制构成DMD36的各微镜。如图50所示，被构成DMD36的各微镜40有选择地向希望的方向反射的激光束L通过第一成像光学透镜44及46放大后，经由微孔阵列54、微透镜阵列48、及微孔阵列56调节为规定的直径，然后被构成光学放大倍数变更部78的第二成像光学透镜50及52调节为规定的放大倍数后，导入感光材料12。在这种情况下，移动载物台14移动，在片薄膜F(感光材料12)上通过在与移动载物台14的移动方向正交的方向上排列的多个曝光头24a24j描绘希望的二维图像。可是，如上所述地描绘在片薄膜F(感光材料12)上的二维图像由基于构成DMD36的微镜40的离散的多个像素的集合构成。在这种情况下，描绘前的原始图像映射在片薄膜F(感光材料12)上的离散的描绘点而被再现，因此，由于原始图像和描绘点的配制之间的关系，存在与描绘像素部对应的像素构成的再现图像中，产生锯齿，或原始图像的线宽度的精度降低等不妥善的情况之患。本发明中，通过调节形成在片薄膜F(感光材料12)上的描绘点的配置，抑制锯齿的产生，能够进行适当的图像的描绘。以下，对其调节方法进行说明。图50是以示意性表示构成一个DMD36的多个微镜40的排列的图。在图50中，将感光材料12的扫描方向设为y，将与扫描方向y正交的方向设为x，将沿大致扫描方向y排列的微镜40的列设为细长列(swath)77。在这种情况下，细长列77提高描绘的图像的x方向上的析像度，因此，将其设定为相对x方向的规定的角度8s(以下，称为细长列倾斜角度9s(#90°)。还有，将细长列77上邻接的两个微镜40设为DMD像素A、B。图51是以示意性表示作为使用如图50所示的DMD36且能够在感光材料12上描绘的像素点的地址格子点(控制点)、和希望描绘的直线状原始图像80的关系的图。在这种情况下，原始图像80由用实线圆表示的多个地址格子点再现。还有，激光束L用以各地址格子点为中心的规定的束直径(点直径)形成像素。从而，实际上在片薄膜F(感光材料12)上形成的图像为如外廓线82所示一样比用实线表示的地址格子点的轮廓扩大的图像。地址格子点的排列如图51所示，有格子点列l、格子点列2、及格子点列3三种样子。作为确定各格子点列的参数，有格子点列13相对x方向的倾斜角度egi(i=l3)、构成格子点列13的格子点的格子点间距pgi(i=l3)、及格子点列13的列间距dgi(i=l3)。这些参数是通过由细长列77上的邻接的DMD像素A、B(参照图50)在感光材料12上形成的地址格子点(以下，还称为地址格子点A、B)的排列间距ps、细长列倾斜角度9s(将x方向作为基准，将逆时针旋转设为+)、各地址格子点的相对y方向的描绘间距py确定的。以下，说明这些参数间的关系。(a)倾斜角度egi-(i=l3)考虑图52所示的三个邻接的地址格子点A、B'、B"。格子点列3的倾斜角度9g3是<formula>formulaseeoriginaldocumentpage87</formula>=90°式(l)另外，关于格子点列l、2的倾斜角度6gl、9g2，设为如下，Nl=integer(ps'sin0s/py)(integer表示舍去小数运算)N2=N1+1则相对于地址格子点A的地址格子点B'、B"的y方向的距离Ayl、△y2(相位差)如下，Ayi=Ips'sin0s—py'NiI(i二l、2)另外，地址格子点A、B'、B〃的x方向的描绘间距px如下，px=ps*cos0s因此，tan0gi=厶yi/px(i=l、2)式(2)从而，格子点列l3的倾斜角度9gl、6g2如下求出，0gi=tan_1{Ips'sin0s—py'Ni|/(ps'cos0s)}(i=l、2)式(3)(b)格子点间距pgi(i=l3)格子点列3由在y方向上排列的地址格子点构成，因此如下，pg3=py式(4)另外如下，pgi:px/cos0gi(i=l、2)式(5)(c)列间距dgi(i=i3)格子点列3的列间距dg3如下，dg3=px式(6)另外如下。dgi=另一方面，通过地址格子点再现原始图像80时产生的锯齿由于格子点列13而产生，因此，可以使用上述中求出的格子点列13的参数及原始图像80的相对x方向的倾斜角度eL进行定义。在这种情况下，锯齿通过锯齿间距pjlpj3、及锯齿振幅ajlaj3规定。(d)锯齿间距pji(i=l3)锯齿间距pji通过格子点列13的列间距dgi、与格子点列13的倾斜角度9gi及原始图像80的倾斜角度9L之差(6gi—9L)确定。在这种情况下，假设地址格子点连续地形成在各格子点列13上，作为平均值的锯齿间距pji如下，pji=dgi/sin(0gi—0L)(i=l3)式(8)(e)锯齿振幅aji(i=l3)图35是在格子点列1和原始图像80之间产生的锯齿的说明图。在这之情况下，原始图像80的边界和格子点列1的交叉点间的距离成为锯齿间距pjl。另外，锯齿振幅ajl分别在格子点列l及格子点列2、格子点列1及格子点列3之间定义。若这些锯齿振幅ajl中，将小的一方选择为作为代表值的锯齿振幅ajl，则由图53所示的关系成为如下，ajl=pjl.tan0'1,tan0'2/(tan0'2—tan0'1)(0'1=0g1—0U从而，锯齿振幅aji如下，aji=pji'tan0'i'tan0'k/Z(tan0'k—tan0'i)(i=l3、0'i=0gi—0L、k=l3、i#k)式(9)还有，9'k是选择的锯齿振幅aji的小的格子点列和原始图像80所成的角度。再现于感光材料12上的描绘图案在锯齿间距pji及锯齿振幅aji都大到某种程度的情况下可视觉辨认。构成描绘图案的各像素以图51所示地地址格子点为中心，用基于激光束L的束直径的规定的直径描绘，因此，在锯齿间距pji小的情况下，即使锯齿振幅aji大也视觉辨认不到锯齿。从而，为了降低锯齿的视觉辨认，设定参数，使锯齿间距pji及锯齿振幅aji的任一个为规定值即可。还有，作为规定值，可以将激光束L的束直径设定为规定值。由式(1)(9)通过原始图像80的相对x方向的倾斜角度6L、细长列倾斜角度es、细长列77上邻接的DMD形成的描绘像素A及B的排列间距ps、地址格子点的y方向上的描绘间距py的各参数确定锯齿间距pji及锯齿振幅aji。从而，个别地调节这些参数，或者同时调节2个以上参数，由此能够再现降低锯齿的视觉辨认度的图像。在这种情况下，通过感光材料12上形成的原始图像80预先确定倾斜角度eL。通过组入曝光头24a24j的DMD36的倾斜角度确定细长列倾斜角度6s，但该倾斜角度可以通过曝光头旋转驱动部76使曝光头24a24j围绕光轴旋转规定角度来调节。还有，也可以通过使曝光头24a24j的一部分光学部件、例如，微透镜阵列48、微孔阵列54、56旋转来调节所述倾斜角度。另外，也可以配设使光学像旋转的双棱镜等像旋转元件，使该像旋转元件旋转来调节所述倾斜角度。像旋转元件可以配置在第二成像光学透镜50、52后。另外，在不配设第二成像光学透镜50、52，利用微透镜阵列48将激光束L直接成像于片薄膜F(感光材料12)上之类的装置结构的情况下，可以将像旋转元件配置在微透镜阵列48后。排列间距ps依赖于构成DMD36的微镜的间隔，但利用光学放大倍数变更部78改变构成变焦光学系79的第二成像光学透镜50、52的位置，能够调节片感光材料12上的排列间距ps。描绘间距py可以通过来自频率变更部72的频率变更信号调节利用同步信号生成部64生成的同步信号的输出时间间隔，或可以通过将来自移动速度变更部75的移动速度变更信号供给给同步信号生成部64，改变同步信号的输出时间间隔，利用曝光载物台驱动部66改变移动载物台14的y方向上的移动速度来调节。还有，对倾斜角度eL根据y方向的位置变化的原始图像80来说，难以根据原始图像80的倾斜角度9L迅速改变细长列倾斜角度，因此，例如，适合利用频率变更部72改变描绘间距py。进而，锯齿间距pji及锯齿振幅aji，例如，在图51中，不是同时描绘利用DMD形成的描绘像素A及B，而通过利用相位差变更部74使y方向上的DMD像素A及B的描绘时间间隔错开规定时间，改变DMD像素A的x方向上邻接而形成的DMD像素B'、B〃的相位差Ayi、其结果，还能够改变倾斜角度9gi进行调节。图54图56及图57图59表示将各参数设定为规定的值，按照所述式(8)及式(9)，计算各格子点列13的锯齿间距pji及锯齿振幅aji的结果。还有，对在格子点列间产生的锯齿振幅，选择小的值的绝对值。另外，锯齿间距pji的容许宽度设置-5pm+5pm，将锯齿振幅aji的容许范围设在-lpm+l)im。在图54所示的格子点列1中，预测在原始图像80的倾斜角度6L=0°55°的范围内产生不容许的锯齿，在图55所示的格子点列2中，预测原始图像80的倾斜角度9I^U0。135°的范围内产生不容许的锯齿，在图56所示的格子点列3中，预测不产生锯齿。在这种情况下，例如，若在原始图像80中含有倾斜角度15。左右的直线，则存在该直线中产生格子点列1引起的不可容许的锯齿。对此，在改变参数的图57图59所示的格子点列13中，任何一个在原始图像80的倾斜角度15°左右没有发生锯齿，从而，期待得到良好的描绘图案。在此，在上述的实施方式中，对抑制由一个DMD36产生的锯齿的情况进行了说明，但毋庸置疑，可以对构成多个曝光头24a24j的各DMD36进行同样的调节。在这种情况下，可以按多个曝光头24a24j每一个进行调节处理，但作为描绘的图像整体来说，减少锯齿，因此，例如，调节移动载物台的移动速度，以使各曝光头24a24j中产生的锯齿的锯齿间距及锯齿振幅的平均值成为规定值以下也可。另外，各参数也可以根据原始图像80的图案、例如，各原始图像80的y方向上倾斜角度9L设定或变更。尤其，在原始图像80的图案为锯齿容易显眼的x方向或与x方向相近的方向延伸的线状图案的情况下，适合调节参数，使相对该图案的锯齿最大幅度减少。另外，预先求出通过锯齿间距或锯齿振幅规定的原始图像80的锯齿的形状、和用于调节锯齿的各参数的相关关系，基于该相关关系设定最佳参数，或已经设定了参数的情况下，改变该参数，由此能够容易地得到适当的图像。另外，预先求出能够使所述锯齿的形状在容许范围内的各参数的条件作为选择条件，选择并设定与原始图案信息80对应的希望的参数，或预先求出将所述锯齿的形状设在容许范围外的各参数的条件作为禁止条件，根据原始图像80禁止该参数的选择也可。原始图像80和参数的相关关系可以选择并求出构成原始图像80的参数的方向、例如，原始图像80的规定的区域内的支配性图案的方向、平均值、方向的柱状图(匕7卜夕、、，厶)成为最大的方向等。还有，将原始图像80分割为多个区域，按各区域每一个求出所述相关关系，按各区域每一个设定能够降低锯齿的参数也可。进而，用于减少锯齿的参数还可以通过以设定了初始参数的状态描绘图案信息，由该图像测量各参数和锯齿形状等的相关关系，探索最佳参数来设定。在上述实施方式中，使用了将微镜排列在正交的格子上的DMD，但只要使用将微镜40排列在以倾斜角度6s交叉的格子上的DMD，就能够在不使DMD倾斜的情况下，将其组入曝光头24a24j，以形成抑制了锯齿的图像。[显影工序]作为所述显影工序，具有利用所述曝光工序将所述感光层进行曝光，除去未固化区域而进行显影的工序。作为所述未固化区域的除去方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如举出使用显影液除去的方法等。作为所述显影液，不特别限制，可以根据目的适当选择，但例如可以举出碱性水溶液、水系显影液、有机溶剂等，其中，优选弱碱性水溶液。作为该弱碱性水溶液的碱成分，例如，可以举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钠、碳酸氢钾、磷酸钠、磷酸钾、焦磷酸钠、焦磷酸钾、硼砂等。作为所述弱碱性水溶液的pH，例如优选约812，更优选约911。作为所述弱碱性水溶液，例如，可以举出0.15质量％的碳酸钠水溶液或碳酸钾水溶液、0.010.1质量％的氢氧化钾水溶液等。作为所述显影液的温度，可以根据所述感光层的显影性，适当选择，但例如优选约25i:4(rc。所述显影液可以与表面活性剂、消泡剂、有机碱(例如，乙二胺、乙醇胺、四甲基铵氢氧化物、二亚乙基三胺、三亚乙基五胺、吗啉、三乙醇胺等)或、用于促进显影的有机溶剂(例如，醇类、酮类、酯类、醚类、酰胺类、内酯类等)。另外，所述显影液可以为混合了水或碱水溶液和有机溶剂的水系显影液，也可以为单独的有机溶剂。还有，作为显影的方式，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出刮板(paddle)显影、喷淋显影、喷淋&旋转显影、浸渍显影等。在此，说明上述喷新显影，通过向曝光后的感光性树脂层利用喷淋输送显影液，能够除去未固化部分。还有，优选在显影前，利用喷淋等输送感光性树脂层的溶解性低的碱性液体，除去热塑性树脂层、中间层等。另外，优选在显影后，利用喷淋输送清洗剂等，用刷子等擦拭，同时，除去显影残渣。[其他工序]作为所述其他工序，不特别限制，可以从公知的滤色片制造方法中的工序中适当选择，但例如，可以举出固化处理工序等。这些可以单独使用一种，也可以合用两种以上。一固化处理工序一优选在进行所述显影工序之后，具有对感光层进行固化处理的工序。作为所述固化处理，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如可以优选举出全面曝光处理、全面加热处理等。作为所述全面曝光处理的方法，例如可以举出在所述显影工序之后，对形成有所述图案的所述层叠体上的全面进行曝光的方法。利用该全面曝光，可以促进将要形成所述感光层的感光性组合物中的树脂的固化，可以使形成的图案的表面固化。作为进行所述全面曝光的装置，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以适当举出超高压汞灯等UV曝光机。作为所述全面加热处理的方法，可以举出在所述显影工序之后，对形成有所述图案的所述层叠体上的全面进行加热的方法。利用该全面加热，可以提高所述图案的表面的膜强度。作为所述全面加热中的加热温度，优选为120250'C，更优选为12020(TC。如果该加热温度不到120°C，则有时不能得到利用加热处理的膜强度的提高，如果超过250'C，则有时发生所述感光性组合物中的树脂的分解，膜质轻微变脆。作为所述全面加热的加热时间，优选为10120分钟，更优选为1560分钟。作为进行所述全面加热的装置，没有特别限制，可以从公知的装置中根据目的适当选择，例如可以举出干烤箱(dryoven)、热板、IR加热器等。本发明的滤色片制造方法中，通过抑制成像于感光层的被曝光面上的的像的歪斜，能够高精细且有效地形成图案，因此，可以适合使用于需要高精细的曝光的各种图案的形成等中，尤其可以适合使用于高精细的滤色片图案的形成。在本发明的滤色片的制造方法中，如上所述，可以利用本发明的图案形成方法，在玻璃基板等透明基板上，将由至少3个基色构成(例如，RGB)的像素配置成马赛克状或条纹状的形状。各像素的尺寸不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，适当举出40200pm。若为条纹状，则通常使用40200nm宽度。作为所述滤色片的制造方法，例如，可以举出使用被着色为黑色的感光层，在透明基板上进行曝光及显影，形成黑矩阵，然后，使用被着色为RGB的3个基色的任一种的感光层，对所述黑矩阵，以规定的配置按各色依次重复曝光及显影，形成在所述透明基板上形成RGB的3基色配置成马赛克状或条纹状的滤色片的方法。(滤色片)本发明的滤色片利用本发明的所述滤色片的制造方法制造。所述滤色片在红色(R)着色使用颜料C丄颜料红254、绿色(G)着色使用颜料C.L颜料绿36及颜料C.I.颜料黄150、蓝色(B)着色使用颜料C.I.颜料蓝15:6及颜料C.I.颜料紫23来制作的情况下，能够制作色再现范围宽，色温度高的TV用滤色片。(液晶显示装置)本发明的液晶显示装置是在互相对置而配置的一对基板间封入液晶而成，具有本发明的所述滤色片、以及根据需要的其他部件。本发明的滤色片除了将液晶显示装置的对置基板(TFT等有源元件没有的一侧的基板)上形成的方式作为对象，也可以将形成在TFT基板侧的COA方式、在TFT基板侧仅形成黑的BOA方式、或在TFT基板上具有高孔结构HA方式作为对象。在所述滤色片上，进而根据需要，可以形成外涂膜或透明导电膜。然后，向滤色片和对置基板之间封入液晶，制作液晶显示装置。作为适用的液晶的显示方式，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以举出ECB(电动双折射)(ElectricallyControlledBirefringence)、TN(扭曲向列)(TwistedNematic)、OCB(光学补偿弯曲)(OpticallyCompensatoryBend)、VA(垂直排列)(VerticallyAligned)、HAN(混合排列向列)(HybridAlignedNematic)、STN(超扭曲向列)(SupperTwistedNematic)、IPS(面内转换)(In—PlaneSwitching)、GH(宾主)(GuestHost)、FLC(铁电液晶)(FerroelectricLiquidCrystal)、AFLC(反强介电性液晶)、及PDLC(高分子分散型液晶)等。作为所述液晶显示装置的基本的结构方式，可以举出(O夹着间隔物，对置配置排列形成有薄膜晶体管(以下，称为"TFT")等驱动元件和像素电极(导电层)的驱动侧基板、和具备滤色片及对置电极(导电层)的滤色片侧基板，并向其间隙部封入液晶材料的结构、(2)夹着间隔物，对置配置滤色片直接形成在所述驱动侧基板的滤色片一体型驱动基板、和具备对置电极(导电层)的对置基板，并向其间隙部封入液晶材料的结构等。本发明的液晶显示装置通过使用在D65光源视野2度具有良好的色度的本发明的滤色片，能够在透过模式及反射模式的任一种下均显示鲜艳的颜色，可以适合使用于兼用透过模式和反射模式的便携式终端或便携式游戏机等设备。另外，本发明的液晶显示装置通过使用在F10光源视野2度具有良好的色度的本发明的滤色片，能够实现高的色纯度和色温度，例如，可以适合使用于笔记本电脑、电视显示屏等液晶显示装置等。实施例以下，利用实施例更具体说明本发明，但本发明不限于这些。(实施例1)〈滤色片图案的形成(涂敷法)〉(1)黑(K)图像的形成用UV清洗装置清洗无碱玻璃基板后，使用清洗剂进行刷子清洗，然后用超纯水进行超声波清洗。在120'C下对该基板进行3分钟热处理，使表面状态稳定化。冷却该基板，调节为23'C后，用具有狭缝状喷嘴的玻璃基板用涂敷机(FAS日本公司制、商品名MH—1600)涂敷下述表3所述的组成构成的下述着色感光性组合物K1。接着，用VCD(真空干燥装置、东京应化工业(株)制)干燥溶剂的一部分30秒钟，消除涂覆层的流动性，然后在120X:下预烘培30分钟，得到厚度1.5陶的感光层K1。一感光性组合物K1的配制一感光性组合物K1通过如下所述得到，即首先量取表3所述的量的K颜料分散物1、丙二醇单甲基醚乙酸酯，在温度24°C(±2°C)下混合，以150RPM搅拌IO分钟，然后量取丁酮、粘合剂4、酚噻嗪、DPHA液、2，4—双(三氯甲基)一6—[4，一(N，N—双乙氧基羰基甲基)氨基一3，一溴苯基]一s—三嗪、表面活性剂l，在温度25'C(±2°C)下依次添加，在温度40。C(±2°C)下以150RPM搅拌30分钟而得到。[表3]<table>tableseeoriginaldocumentpage96</column></row><table>一6—[4，—(N，N—双乙氧基羰基甲基)氨基_3'—溴苯基]一s一三嗪表面活性剂10.0430.0430.0430.0430.0430.043单位质量份颜料/固态成分(％)45%35%30%60%25%10%还有，表3中记载的组合物中，'K颜料分散物1的组成包括炭黑(迪克斯(f夕':y廿)公司制)13.1质量％、分散剂(下述化学式)0.65质量％、聚合物(苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、分子量3.7万)6.72质量％、及丙二醇单甲基醚乙酸酯79.53质量％。'K颜料分散物2的组成包括炭黑(迪克斯(f夕':y廿)公司制)13.1质量％、分散剂(下述化学式)0.65质量％、聚合物(苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、分子量3.7万)4.0质量％、及丙二醇单甲基醚乙酸酯82.25质量％。，粘合剂4的组成包括聚合物(苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、分子量3.8万)27质量％、及丙二醇单甲基醚乙酸酯73质量％。DPHA液的组成包括二季戊四醇六丙烯酸酯(含有聚合抑制剂MEHQ500ppm、日本化药(株)制、商品名KAYARADDPHA)76质量％、及丙二醇单甲基乙酸酯24质量％。表面活性剂1的组成包括30质量％的下述结构物1、及70质量％的丁酮(MEK)。[化2]CONHCONH化学式1[化3]结构物l<formula>formulaseeoriginaldocumentpage98</formula>(n=6，x=55，y=5，Mw=33940，Mw/Mn=2.55PO:环氧丙烷，EO:环氧乙烷)其中，所述结构物l的式中，x及y的数值表示摩尔比。使用马达磨机M—50(艾格日本公司制)、和直接0.65mm的氧化锆珠，以周向速度9m/s分散上述K颜料分散物27分钟，配制颜料分散组合物。此时的颜料的数均粒径示出在表8中。一曝光工序一使用图1所示的曝光装置，对于基材上的所述感光层Kl，使所述感光层Kl和曝光头相对移动，同时进行相对于200mJ/cr^的滤色片图案的曝光。以波长405nm的激光进行曝光。作为光源，使用波长405nm的激光，进行照射并进行曝光，使得得到长边、短边的长度分别不同的长方形图案，然后使所述感光层的一部分区域固化。一显影工序一HNNH在室温下将结束了曝光的所述感光层静置10分钟后，使用将富士胶片电子材料(株)制KOH显影液(商品名CDK—1)稀释为IOO倍(质量比)的溶液，在23'C下以平板嘴压力0.04MPa对感光层的整个面进行喷淋显影，然后使用超高压喷嘴以9.8MPa的压力喷射超纯水，除去残渣，得到黑矩阵图案。然后，在220'C下进行热处理30分钟。(2)红(R)像素的形成使用下述表4所述的组成构成的下述感光性组合物Rl—l,利用与所述黑(K)图像的形成相同的工序，在形成了所述K的图像的基板上形成了已进行热处理的R像素。该R1感光层的厚度是1.6pm，颜料(C.I.颜料红254)的涂敷量是0.88g/m2，颜料(C.I.颜料红177)的涂敷量是0.22g/m2。一感光性组合物R1的配制一量取表4所述的量的R颜料分散物1、R颜料分散物2、丙二醇单甲基醚乙酸酯，在温度24。C(±2°C)下混合，以150RPM搅拌10分钟。然后，量取表4所述的量的丁酮、粘合剂l、DPHA液、2—三氯甲基一5—(对苯乙烯苯乙烯)一1，3，4—噁二唑、2，4一双(三氯甲基)一6—[4，一(N，N—双乙氧基羰基甲基)氨基一3，一溴苯基]一s—三嗪、酚噻嗪，在温度24。C(±2°C)下依次添加，以150RPM搅拌30分钟。进而量取表6所述的量的表面活性剂1，在温度24。C(±2°C)下添加，以30RPM搅拌5分钟，用尼龙筛子#200过滤。如上所述，配制感光性组合物R1。[表4]<table>tableseeoriginaldocumentpage99</column></row><table>2—三氯甲基一5—(对苯乙烯苯乙烯)一l,3，4一噁二唑0.140.142，4_双(三氯甲基)一6一[4，_(N，N—双乙氧基羰基甲基)氨基一3'_溴0.0580細<table>tableseeoriginaldocumentpage100</column></row><table>还有，表4中所述的组合物中，'R颜料分散物1的组成包括C丄颜料红254(千叶特殊化学药品公司(于八7X、乂亇!J亍^亇^力少X)制)0.8质量％、聚合物(苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、分子量3.7万)8质量％、及丙二醇单甲基醚乙酸酯83.2质量％。R颜料分散物2的组成包括C.I.颜料红177(千叶特殊化学药品公司(于厶7^、乂亇亇^力/^乂)制)18质量％、聚合物(苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、分子量3.7万)12质量％、及丙二醇单甲基醚乙酸酯70质量％。，粘合剂1的组成包括聚合物(苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、分子量3.8万)27质量％、及丙二醇单甲基醚乙酸酯73质量％。添加剂1使用磷酸酯系特殊活性剂(楠本化成(株)制、商品名HIPLAADED152)。一曝光工序及显影工序一与Kl相同地，对基板上的所述感光层Rl进行曝光。曝光量是50mJ/cm2。另外，为了评价，在没有K的基板上也与之相同地形成感光层Rl，使用滤色片图案进行相同的处理。然后，与K相同地进行显影。(3)绿(G)像素的形成使用下述表5所述的组成构成的下述感光性组合物Gl，利用与所述黑(K)图像的形成相同的工序，在形成了所述K的图像和R的像素的基板上形成已进行热处理的G像素。该Gl感光层的厚度是1.4pm，颜料(C.1.颜料36)的涂敷量是U2g/W，颜料(C.I.颜料黄150)的涂敷量是0.48g/m2。与k相同地，进行显影。曝光量相当于40mJ/cm2。量取表5所述的量的G颜料分散物1、Y颜料分散物l、丙二醇单甲基醚乙酸酯，在温度24。C(±2°C)混合，以150RPM搅拌IO分钟。然后，量取表5所述的量的丁酮、环己烷、粘合剂l、DPHA液、2—三氯甲基一5—(对苯乙烯苯乙烯)一l，3，4—噁二唑、2，4—双(三氯甲基)一6—[4'—(N，N—双乙氧基羰基甲基)一3'—溴苯基]一s—三嗪、酚噻嗪，在温度24。C(±2°C)下依次添加，以150RPM搅拌30分钟。进而量取表7所述的量的表面活性剂1，在温度24X:(土2'C)下添加，以30RPM搅拌5分钟，用尼龙筛子ft200过滤。如上所述，配制感光性组合物G1。[表5]<table>tableseeoriginaldocumentpage101</column></row><table>2—三氯甲基一5—(对苯乙烯苯乙烯)一l，3，4—噁二唑0.152,4_双(三氯甲基)一6—[4，一(N,N一双乙氧基羰基甲基)一3'—溴苯基]一s一三嗪0.057酚噻嗪0駕表面活性剂10細单位质量份颜料/固态成分(％)45%还有，表5所述的组合物中，'G颜料分散物1的组成包括C丄颜料绿36(商品名LionolGreen6YK、东洋油墨制造(株)制)18质量％、聚合物(节基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、分子量3.7万)12质量％、环己酮35质量％、及丙二醇单甲基醚乙酸酯35质量％。"Y颜料分散物1的组成包括C.I.颜料绿150(商品名黄颜料E4GN一GT、白伊卢制造(株)审U)15质量％、聚合物(苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、分子量3.7万)9质量％、分散剂(上述化学式O1.5质量份、及丙二醇单甲基醚乙酸酯74.5质量％。，粘合剂2的组成包括聚合物(苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、分子量3.7万)27质量％、丙二醇单甲基醚乙酸酯73质量％。(4)蓝(B)像素的形成使用下述表6所述的组成构成的下述感光性组合物Bl—1，利用与所述黑(K)图像的形成相同的工序，在形成了所述K的图像和R及G的像素的基板上形成已进行热处理的B像素，制作目的滤色片。该B1感光层的厚度是1.4jam，颜料(C.I.颜料蓝15:6)的涂敷量是0.67g/m2，颜料(C.I.颜料紫23)的涂敷量是0.03g/m2。与K同样地曝光，显影。曝光量是50mJ/cm2。一感光性组合物B1的配制一量取表6所述的量的B颜料分散物1、丙二醇单甲基醚乙酸酯，在温度24。C(±2°C)混合，以150RPM搅拌IO分钟。然后，量取表6所述的量的丁酮、环己烷、粘合剂2、粘合剂3、粘合剂4、DPHA液、2—三氯甲基—5—(对苯乙烯苯乙烯)一l，3，4一噁二唑、酚噻嗪，在温度24。C(±2°C)下依次添加，在温度40。C(±2°C)下以150RPM搅拌30分钟。进而量取表6所述的量的表面活性剂1，在温度24°C(±2°C)下添加，以30RPM搅拌5分钟，用尼龙筛子#200过滤。如上所述，配制感光性组合物B1。[表6]<table>tableseeoriginaldocumentpage102</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage103</column></row><table>还有，表6所述的组合物中，'B颜料分散物1的组成包括C.I.颜料蓝15:6(东洋油墨制作(株)制)15质量％、分散剂l(EFKA—6745、EFKAADDITIVESB.V公司制)0.5质量％、分散剂2(迪斯迫龙DA—725、楠本化成(株)制)0.63质量%、聚合物(苄基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、分子量3.7万)12.5质量％、及丙二醇单甲基醚乙酸酯71.37质量％。B颜料分散物2的组成包括C丄P.B.15:6(东洋油墨制造(株)制)11.28质量份、0.72质量份的C丄P.V.23、分散剂1(EFKA—6745、EFKAADDITIVESB.V公司制)0.6质量份、分散剂(迪斯迫龙DA—725、楠本化成(株)制)0.75质量份、丙二醇单甲基醚乙酸酯86.65质量％。粘合剂3的组成包括聚合物(苄基丙烯酸酯/甲基丙烯酸/甲基甲基丙烯酸酯=36/22/44摩尔比的无规共聚物、分子量3.8万)27质量份、丙二醇单甲基醚乙酸酯73质量份。<感光层的光学特性—吸光度和厚度的关系>作为所述感光层的光学特性，在将该感光层的记录中使用的激光的吸收波长下的该感光层的吸光度设为A，将该感光层的厚度设为X(pm)的情况下，所述感光层的光学特性可以由A/X表示。该A/X的值表示在表8及表9中。该吸光度A的测定使用(株)岛津制作所制UV—分光光度计UV—240。另外，上述吸光度A是从包括支撑体的吸光度减去支撑体单独的吸光度值的值。所述感光层的厚度X使用触针式高低差膜厚计(TencorInstruments制P—IO)进行测定。(实施例220及比较例13)在实施例1中，将使用的K1、Rl、Gl、Bl的处方改变为表及表9所述的处方，除此之外，以与实施例l相同的方法，制作滤色片。还有，表8及表9中没有特别示出的感光性组合物的处方是与实施例l相同的处方(表3表6中记载)。还有，粒径不同的颜料分散物是通过将分散时间变更为下述表7所示地得到。[表7]<table>tableseeoriginaldocumentpage104</column></row><table>(实施例21)<滤色片图案的形成(薄膜法)>一感光性转印材料的制作一使用狭缝状喷嘴，在厚度75pm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜临时支撑体上涂敷由下述处方H1构成的热塑性树脂层用涂敷液，将其干燥。其次，涂敷由下述处方P1构成的中间层用涂敷液，将其干燥。进而，涂敷所述着色感光性组合物Kl，将其干燥，在该临时支撑体上设置干燥厚度为14.6pm的热塑性树脂层、干燥厚度为1.6lim的中间层、和干燥厚度为1.5jum的感光层，压敷保护薄膜(厚度12fim的聚丙烯薄膜)。制作临时支撑体、热塑性树脂层、和中间层(阻氧膜)、和黑(K)的感光层这样成一体的感光性转印材料，将样品名称为感光性转印材料K1。热塑性树脂层用涂敷液处方H1甲醇11.1质量份丙二醇单甲基醚乙酸酯6.36质量份*丁酮52.4质量份，甲基甲基丙烯酸酯/2—乙基己基丙烯酸酯/节基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚合组成比(摩尔比)=55/11.7/4.5/28.8、分子量=9万、Tg^70°C)5.83质量份.苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚合组成比63/37、分子量-1万、Tg—100°C)13.6质量份'双酚A与五乙二醇单甲基丙烯酸酯2当量脱水縮合的化合物(新中村化学工业(株)制商品名2，2—双[4一(甲基丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基]丙垸)所述表面活性剂19.1质量份0.54质量份中间层用涂敷液处方P1PVA205(聚乙烯醇、(株)克莱乐制、皂化度二88%、聚合度550)32.2质量份聚乙烯吡咯垸酮(ISP日本(株)制、K—30)14.9质量份蒸馏水524质量份甲醇429质量份其次，将在所述感光性转印材料Kl的制作中使用的所述着色感光性组合物Kl变更为上述表3表6所述的组成构成的下述着色感光性组合物R2、Gl及Bl，除此之外，利用与上述相同的方法，制作感光性转印材料R2、G1及B1。还有，着色感光性组合物R2、G1及B1的配制方法分别按照所述着色感光性组合物R2、Gl及Bl的配制方法。一黑(K)图像的形成一利用喷淋向无碱玻璃基板输送调节为25'C的玻璃清洗液20秒钟，同时，用具有尼龙毛的旋转刷清洗，进行纯水喷淋清洗后，利用喷淋输送硅烷偶合剂液(N—P(氨基乙基)Y—氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量％水溶液、商品名KBM603、信越化学工业(株)制)，用纯水喷淋倾斜。用基板预备加热装置以IO(TC加热该基板2分钟，然后送到其次的层叠机。在剥离所述感光性转印材料K1的保护薄膜后，使用层叠机((株)曰立工业制(LamicII型))，以橡胶辊温度130。C、线压100N/cm、输送速度2.2m/分钟将其层叠于加热为所述IO(TC的基板。一曝光工序一在剥离临时支撑体后，使用实施例1的曝光装置进行照射波长405nm的激光，并曝光，以得到长边、短边的长度分别不同的长方形图案，使感光层的一部分的区域固化。与实施例l相同地，制作滤色片图案。另外，曝光量是50mJ/cm2，在大气压气氛下进行。一显影工序一其次，使用三乙醇胺系显影液(将含有三乙醇胺30质量％、商品名T一PD2、富士胶片株式会社制产品用纯水稀释为12倍(在1质量份的T一PD2中以纯水11质量份的比例混合)的溶液)，在3(TC下，以平板嘴压力0.04MPa、喷淋显影50秒，除去热塑性树脂层。接着，使用碳酸Na系显影液(将含有0.38摩尔/升的碳酸氢钠、0.47摩尔/升的碳酸钠、5质量％的二丁基萘磺酸钠、阴离子表面活性剂、消泡剂、稳定剂、商品名T一CD1、富士胶片(株)制产品用纯水稀释为5倍的溶液)，在358'C下，用锥型喷嘴压力0.15MPa喷淋显影35秒，将感光层显影，得到构像。接着，将清洗剂(含有磷酸盐、硅酸盐、阳离子表面活性剂、消泡剂、稳定剂、商品名T一SD1、富士胶片(株)制)用纯水稀释为10倍而使用，在33'C下，以锥型喷嘴压力0.02MPa，利用喷淋和具有尼龙毛的旋转刷进行残渣除去20秒，得到黑(K)的图像。然后，在220'C下，进行15分钟热处理(烘培)。如上所述地用刷子再次清洗该形成了K的图像的基板，用纯水喷淋清洗后，在不使用硅浣偶合剂液的情况下，将其送到基板预备加热装置。(1)红(R)像素的形成使用所述感光性转印材料R2，以与所述感光性转印材料K1相同的工序，得到已进行热处理的红(R)像素。但是，曝光量是40mJ/cm2，利用碳酸Na系显影液的显影在35'C下进行35秒。该R2感光层的厚度是2.0nm，颜料(C.I.颜料红254)的涂敷量是0.88g/m2、颜料(C.I.颜料红177)的涂敷量是0.22g/m2。如上所述地用刷子再次清洗该形成了K的图像和R的像素的基板，用纯水喷淋清洗后，在不使用硅垸偶合剂液的情况下，将其送到基板预备加热装置。(2)绿(G)像素的形成使用所述感光性转印材料G1，以与所述感光性转印材料R1相同的工序，得到已进行热处理的绿(G)像素。曝光量是40mJ/cm2。该Gl的感光层的厚度是2.0pm，颜料(C.I.颜料绿36)的涂敷量是1.12g/m2、颜料(C.I.颜料黄150)的涂敷量是0.48g/m2。如上所述地用刷子再次清洗该形成了K的图像和G的像素的基板，用纯水喷淋清洗后，在不使用硅垸偶合剂液的情况下，将其送到基板预备加热装置。(3)蓝(B)像素的形成使用所述感光性转印材料B1，以与所述感光性转印材料R1相同的工序，得到已进行热处理的蓝(B)像素。曝光量是50mJ/cm2。该B1的感光层的厚度是2.0pm，颜料(C丄颜料蓝15:6)的涂敷量是0.67g/m2、颜料(C.I.颜料紫23)的涂敷量是0.03g/m2。将该形成了K的图像、R、G禾BB的像素的基板在24(TC下烘培50分钟，得到目的滤色片。<感光层的光学特性一吸光度和厚度的关系>作为所述感光层的光学特性，在将该感光层的记录中使用的激光的吸收波长下的该感光层的吸光度设为A，将该感光层的厚度设为Xm)的情况下，所述感光层的光学特性可以由A/X表示。该A/X的值表示在表8及表9中。该吸光度A的测定使用(株)岛津制作所制UV—分光光度计UV—240。另外，上述吸光度A是从包括支撑体的吸光度减去支撑体单独的吸光度值的值。所述感光层的厚度X使用触针式高低差膜厚计(TencorInstruments制P—IO)进行测定。[评价]<图案线宽度的不均〉通过测定如图61所示的相对于被曝光部210的中心线212线宽度214的大小不均，线宽度变粗，变细的部分(边缘粗糙度jum)来评价所述图案线宽度。作为所述边缘粗糙度的评价方法，不特别限制，可以根据目的适当选择，例如，使用激光显微镜(VK—9500、基恩斯(年一工y只)(株)制、物镜50倍)观察线宽度30pm的线的任意五处，求出视野内的边缘位置中最膨出的部位(山顶部)、与最凹陷的部位(谷底部)之差的绝对值，算出观察的五处的平均值。作为在这种情况下的边缘粗糙度，值越小，越显示良好的性能，因此优选。结果显示在表8及表9中。(实施例2240及比较例46)在实施例21中，将使用的K1、R2、Gl、Bl的处方变更为表8及表9所述的处方，除此之外，以与实施例21相同的方法，制作滤色片。还有，在表8及表9中没有特别示出的感光性组合物的处方是与实施例21相同的处方(表3表6中记载)。还有，通过将分散时间变更为表7所示地得到粒径不同的颜料分散物。(实施例41)在实施例1中，使用以下说明的曝光装置，除此以外，与实施例l相同地，制作作为目的的滤色片，利用以下的方法评价黑(K)图像的线宽度不均。结构表示在表8中。<图像的线宽度不均的评价>在形成为条纹状的黑矩阵中，对画面中央附近的一条线上的10cm的长度上进行线宽度测定，求出其不均。利用如图13所示的概略结构图中的曝光头、即具备具有相对于从光纤阵列光源38入射的激光，射出在主光线的角度具有规定的分布的激光，将其向DMD36照射的功能的聚光透镜的曝光装置进行曝光。(实施例42)在实施例1中，除了使用以下说明的曝光装置以外，与实施例l相同地，制作作为目的的滤色片，评价黑(K)图像的线宽度不均。结果显示在表8中。使用组入有如图18A所示的具有在作为投影透镜300的周边区域的区域320像面弯曲大，在区域330歪曲大的特性的投影透镜，且具备图17的示意图所示的曝光头的曝光装置进行曝光。(实施例43)在实施例1中，除了使用以下说明的曝光装置以外，与实施例l相同地，制作作为目的的滤色片，评价黑(K)图像的线宽度不均。结果显示在表8中。使用如下所述的图案形成装置，该图案形成装置具备作为所述光照射机构的合波激光光源；作为所述光调制机构的在图30A及图30B所示的主扫描方向上排列有微镜1024个的微镜列；控制成只驱动副扫描方向上排列有768组的所述光调制机构内的1024个X256列的DMD50;以阵列状排列了图27A图27C所示的一面为复曲面的微透镜的微透镜阵列472;及将通过了该微透镜阵列的光成像于所述感光层的光学系480、482。作为所述微透镜，如图28A、图28B、及图29所示，使用复曲透镜55a，光学上与所述x方向对应的方向的曲率半径Rx-—0.125mm，与所述y方向对应的方向的曲率半径Ry=—0.1mm。另外，配置于微透镜阵列的聚光位置附近的孔阵列使其各孔中只入射经过了与之对应的微透镜55a的光。(实施例44)在实施例1中，除了使用以下说明的曝光装置以外，与实施例1相同地，制作作为目的的滤色片，评价黑(K)图像的线宽度不均。结果显示在表8中。使用具备如下所述的曝光头的曝光装置，该曝光头具有作为所述光照射机构的合波激光源；作为所述光调制机构的DMD，其控制成只驱动主扫描方向上排列1024个微镜58的微镜阵列沿副扫描方向排列768组而成的微镜行列中的1024个X256列；图5A及图5B的示意图所示的聚光透镜系及成像系。作为所述DMD的设定倾斜角度，使用可以使用的1024列X256行的微镜，采用略大于恰好成为2重曝光的角度eideal的角度。该角度0ic^是对于N重曝光的数目N、可以使用的微镜的列方向的个数s、可以使用的微镜的列方向的间隔p及在使曝光头倾斜的状态下利用微镜形成的扫描线的间距S，利用下述式lspsin9ideal^N5(式l)PCOS9ideal=5(式2)stan9ideai=N(式3)s=256、N=2，所以角度6u^约为0.45度。从而，作为设定倾斜角度9，采用0.50度。首先，为了修正2重曝光中的析像度的不均和曝光不均，调查被曝光面的曝光图案的状态。结果示出在图39中。但是，在图39中，为了便于说明，将可以使用的微镜58的每间隔一列的曝光图案分为基于像素列组A的曝光图案、和基于像素列组B的曝光图案来示出，但实际的被曝光面上的曝光图案是将这些两个曝光图案重合的图案。如图39所示，作为从曝光头3012和3021间的相对位置的从理想状态偏离的结果可知，由于基于像素列组A的曝光图案和基于像素列组B的曝光图案两者，在曝光头3012和3021的与所述曝光头的扫描方向正交的坐标轴上重复的曝光区域，产生比理想的2重曝光的状态曝光过多的区域。作为所述光点位置检测机构，使用图1所示的缝隙28及光检测器，对于曝光头3012，检测曝光区域3212内的光点P(1，1)和P(256，1)的位置，对于曝光头3021，使用曝光区域322,内的光点P(1，1024)和P(256，1024)的位置，测定连结这些的直线的倾斜角度、和曝光头的扫描方向所成的角度。使用实际倾斜角度e'，分别对曝光头3012和3021导出与满足下述式4ttan0，=N(式4)的关系的值t最接近的自然数T。对于曝光头3012导出丁=254，对曝光头3021导出T=255。其结果，图40中构成被斜线覆盖的部分78及80的微镜确定为本曝光时不使用的微镜。然后，对于与图40中构成被斜线覆盖的区域78及80的光点以外的光点对应的微镜，同样确定与在图40中构成被斜线覆盖的区域82及布网覆盖的区域84光点对应的微镜，将其作为本曝光时不使用的微镜追加。对于这些作为曝光时不使用的微镜确定的微镜，利用所述描绘像素部像素控制机构，时常发送设定为关状态的角度的信号，这些微镜控制成基本上不参与曝光。(实施例45)在实施例1中，除了利用以下说明的曝光方法进行曝光以外，与实施例1相同地，制作作为目的的滤色片，评价黑(K)图像的线宽度不均。结果示出在表8。作为曝光装置，使用具备图49所示的控制单元的曝光头进行曝光。以使锯齿间距或锯齿振幅的任一个成为曝光光的束直径以上的方式，利用曝光头旋转驱动部76使曝光头24a24j围绕光轴旋转规定角度，由此设定倾斜角，进行曝光。(实施例46)在实施例1中，除了使用数字直接曝光机(DE—S、日立飞马克特罗斯公司制)以外，与实施例1相同地，制作作为目的的滤色片，评价黑(K)图像的线宽度不均。结果示出在表8中。(实施例47)在实施例1中，除了使用数字直接曝光机(DI—2080、酚塔克斯公司制)以外，与实施例l相同地，制作作为目的的滤色片，评价黑(K)图像的线宽度不均。结果示出在表8中。[表8]<table>tableseeoriginaldocumentpage111</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage112</column></row><table>[表9]评价<table>tableseeoriginaldocumentpage112</column></row><table>表8及表9中的综合评价栏是由OD/厚度和边缘粗糙度判定。具体来说，在黑图像用感光性组合物的情况下，OD/厚度为2.0以上且边缘粗糙度为1.0以下的为Q，OD/厚度为1.02.0且边缘粗糙度为1.0以下的为A，边缘粗糙度大于1.0的为x。另外，在黑图像以外的红绿蓝像素用感光性组合物的情况下，OD/厚度为1.0以上且边缘粗糙度为1.0以下的为O，OD/厚度小于1.0且边缘粗糙度为1.0以下的为厶，边缘粗糙度大于1.0的为X。表8及表9中，与比较例16相比，实施例148的滤色片图案的边缘粗糙度小，曝光感度及析像度高。能够制造良好的滤色片。[液晶显示装置的制作及评价]使用实施例147、比较例16的滤色片制作具有LED背光灯的反射、透过兼用优选。确认到实施例148的滤色片与比较例16相比，液晶显示装置显示良好的显示特性。工业上的可利用性利用本发明的滤色片的制造方法制造的滤色片在透过模式及反射模式的任一种下均显示良好的显示特性，适合便携式终端、便携式游戏机等液晶显示装置(LCD)用，也适合用于笔记本电脑、电视显示屏等液晶显示装置(LCD)用、PALC(等离子编址液晶)、等离子显示器用。另夕卜，除了在此作为实例举出的滤色片之外，还可至少重叠特开平11一248921号公报、特许第3255108号公报等中记载的RGB的任一种颜色来形成间隔物。权利要求1.一种滤色片的制造方法，其特征在于，包括曝光工序，其对于由感光性组合物构成且位于基材的表面的感光层，使至少具备光照射机构及光调制机构的曝光头、和所述感光层的至少任一个移动，同时利用所述光调制机构根据图案信息调制从所述光照射机构射出的光，并从所述曝光头照射，从而对所述感光层进行曝光，所述感光性组合物包含粘合剂、聚合性化合物、着色剂、及光聚合引发剂，所述着色剂中含有的颜料的数均粒径最大为100nm，且该颜料的所述感光性组合物的固态成分中的含量至少为30质量％。2.根据权利要求1所述的滤色片的制造方法，其中，光调制机构具有n(其中，n为2以上的自然数)个排列为二维状的描绘像素部，该描绘像素部接受并射出来自光照射机构的光，并且基于图案信息可以控制所述描绘像素部。3.根据权利要求1或2所述的滤色片的制造方法，其中，光照射机构是射出由半导体激光器元件生成的激光的激光源。4.根据权利要求13中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，曝光头具备聚光透镜系，其将来自光照射机构的光聚光，并向光调制机构照射；成像透镜系，其使利用所述光调制机构调制的光形成的像在感光层的被曝光面上成像。5.根据权利要求4所述的滤色片的制造方法，其中，成像透镜系包括微透镜排列为阵列状而成的微透镜阵列。6.根据权利要求4或5所述的滤色片的制造方法，其中，成像透镜系包括孔阵列，其是配置孔而成的，该孔以仅使经过了该微透镜的光入射的方式排列在微透镜的聚光位置附近。7.根据权利要求16中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，利用聚光透镜系使从光照射机构向光调制机构照射的光的照射区域内中的光量具有分布，并修正利用所述光调制机构调制的光的感光层的被曝光面上的光量分布，使该光量分布均匀。8.根据权利要求17中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，曝光是使用焦点调节机构进行的，该焦点调节机构改变利用光调制机构调制的光的光程长，从而调节成像于感光层的被曝光面的曝光光的焦点。9.根据权利要求8所述的滤色片的制造方法，其中，使利用光调制机构调制的光仅成像于包括成像透镜系的中央部的大致矩形状区域。10.根据权利要求8或9所述的滤色片的制造方法，其中，焦点调节机构具有以使利用光调制机构调制的光的光轴方向的厚度变化的方式形成的楔型棱镜组，通过使构成该楔型棱镜组的各楔型棱镜移动，调节在将所述调制的光成像于感光层的被曝光面上时的焦点。11.根据权利要求510中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，微透镜阵列的各微透镜具有对由描绘像素部的面的变形引起的像差进行修正的非球面。12.根据权利要求ll所述的滤色片的制造方法，其中，非球面为复曲面。13.根据权利要求510中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，微透镜阵列的各微透镜具有对所述像素部的面的变形引起的像差进行修正的折射率分布。14.根据权利要求510中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，微透镜阵列的各微透镜具有不使来自所述像素部的周边部的光入射的透镜开口形状。15.根据权利要求114中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，使用描绘像素部的列方向相对于扫描方向呈规定的设定倾斜角度e地配置而成的曝光头，对于所述曝光头，利用使用描绘像素部指定机构指定能够使用的所述描绘像素部中用于N重曝光(其中，N为2以上的自然数)的所述描绘像素部，对于所述曝光头，利用使用描绘像素部控制机构控制所述描绘像素部，使只有由所述使用描绘像素部指定机构指定的所述描绘像素部参与曝光，对于所述感光层，使所述曝光头相对于扫描方向相对移动，从而进行曝光。16.根据权利要求115中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，光调制机构还具备基于形成的图案信息生成控制信号的图案信号生成机构，并且根据该图案信号生成机构生成的控制信号来调制从光照射机构照射的光。17.根据权利要求116中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，设定如下所述的(a)、(b)、(c)、(d)中的至少任一个，以使由感光层的被曝光面上的描绘像素的配置、和与图案信息有关的描绘图案的关系而产生的锯齿的锯齿间距或锯齿振幅成为规定值以下，并按照所述图案信息，在规定的时刻调制控制所述各描绘像素部，艮P:由邻接的所述描绘像素部描绘的所述描绘像素间的排列间距(A);由多个所述描绘像素构成的二维状描绘像素组的相对扫描方向的倾斜角度(B);所述扫描方向上的所述描绘像素的扫描间距(C);及在与所述扫描方向大致正交的方向上邻接而描绘的所述描绘像素的所述扫描方向上的描绘位置的相位差(D)。18.根据权利要求116中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，所述制造方法是在感光层的被曝光面上设定至少能够控制开启关闭的二维排列的控制点，使所述控制点、和所述感光层的被曝光面上相对扫描，并且控制所述控制点，进行描绘的描绘方法，求出如下所述的(E)、(F)、(G)、(H)的至少任一个、和由描绘的描绘图案生成的锯齿的形状的相关关系，艮P:所述控制点的沿大致扫描方向的点列的间距(E);所述控制点列的排列方向(F);所述控制点的所述扫描方向上的间距(G);及在与所述扫描方向大致正交的方向上邻接的所述控制点的所述扫描方向上的相位差(H)，基于所述相关关系，设定或改变所述点列的间距(E)、所述点列的排列方向(F)、所述控制点的所述扫描方向上的间距(G)、及所述相位差(H)的至少任一个。19.根据权利要求116中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，所述制造方法是在感光层的被曝光面上设定至少能够控制开启关闭的二维排列的控制点，使所述控制点、和所述感光层的被曝光面上相对扫描，并且控制所述控制点，进行描绘的描绘方法，求出所述控制点的排列状态、和由描绘的描绘图案生成的锯齿的形状的相关关系，基于所述相关关系，设定或改变所述排列状态。20.根据权利要求116中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，所述制造方法是在感光层的被曝光面上设定至少能够控制开启关闭的二维排列的控制点，.使所述控制点、和所述感光层的被曝光面上相对扫描，并且控制所述控制点，进行描绘的描绘方法，设定或改变所述控制点的排列状态，以减少由描绘的描绘图案生成的锯齿。21.根据权利要求120中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，感光层是通过在基材的表面涂敷感光性组合物，并干燥该感光性组合物来形成。22.根据权利要求120中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，以使感光层的表面和基材抵接的方式层叠于该基材上，然后剥离支撑体，由此形成支撑体上设置有至少一层感光性组合物层的感光性薄膜。23.根据权利要求122中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，感光性组合物至少着色为黑色(K〉。24.根据权利要求123中任一项所述的滤色片的制造方法，其中，使用至少着色为红色(R)、绿色(G)、及蓝色(B)三基色的感光性组合物，在基材的表面以规定的配置，按R、G及B各色依次重复感光层形成工序、曝光工序、及显影工序，从而形成滤色片。25.—种滤色片，其特征在于，利用权利要求124中任一项所述的滤色片的制造方法制造。26.—种液晶显示装置，其特征在于，使用了权利要求25所述的滤色片。全文摘要本发明提供不需要使用光掩模，使用适合的感光性组合物，图像的线宽度不均极其少，能够高精细地形成，低成本，且显示特性优越的滤色片的制造方法、及利用该制造方法制造的显示特性优越的滤色片、及使用了该滤色片的液晶显示装置。因此，提供至少包括对由感光性组合物构成，且位于基材的表面的感光层进行所述感光层的曝光的曝光工序，所述包含粘合剂、聚合性化合物、着色剂、及光聚合引发剂，所述着色剂中含有的颜料的数均粒径最大为100nm，且该颜料的所述感光性组合物的固态成分中的含量至少为30质量％的滤色片的制造方法。文档编号G02B5/20GK101238398SQ200680028618公开日2008年8月6日申请日期2006年7月25日优先权日2005年8月2日发明者儿玉知启申请人:富士胶片株式会社