滤色片及其制造方法以及液晶显示装置的制作方法

专利名称：滤色片及其制造方法以及液晶显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种构成液晶显示装置的滤色片及其制造方法、液晶显示装置。
背景技术：
近年来，为了提高显示图像的对比度，黑矩阵已经需要在4.0以上的高光学浓度。另一方面，如果黑矩阵的厚度较厚，会破坏滤色片的表面平滑性，所以需要构成为薄膜。
以往，在具有高遮光性的显示装置用的黑矩阵的制作中，使用金属薄膜。这是利用通过在用蒸镀法或溅射法形成的铬等金属薄膜上涂敷光致抗蚀剂，接着使用具有显示装置用遮光膜用图案的光掩模，对光致抗蚀剂进行曝光·显影，然后蚀刻露出的金属薄膜，最后剥离除去金属薄膜上残存的光致抗蚀剂来形成的方法的情况(例如参照非专利文献1“彩色TFT液晶显示器”p.218～p.220，共立出版(株)发行(1997年4月10日))。
该方法由于使用金属薄膜，所以即使膜厚较小也可以得到高遮光效果，相反，变得需要蒸镀法或溅射法之类的真空成膜工序或蚀刻工序，存在成本变高的问题。另外，由于是金属膜，所以反射率极高，在强外光下，还存在显示对比度变低的问题。与此对应，还公开有使用低反射铬膜(由金属铬和氧化铬的2层构成的膜等)的方法，但不能否认成本会变得更高。那么，为了在蚀刻工序中进一步排出含有金属离子的废液，还具有环境负荷大的缺点。特别是最经常使用的铬是有害的，环境负荷非常大。
另一方面，得到环境负荷小的黑矩阵的技术之一，包括使用炭黑的技术(例如参照特开昭62-9301号公报)。这是在基板上涂敷含有炭黑的感光性树脂组合物并使其干燥后，进行曝光、显影，成为黑矩阵的技术。
但是，炭黑由于每单位涂敷量的光学浓度低，为了确保高遮光性、光学浓度，必然膜厚会变大，例如为了确保上述的金属薄膜同等的光学浓度4.0，膜厚成为1.2～1.5μm。所以，黑矩阵形成之后，如果形成红、蓝、绿的像素，像素边缘部的台阶等会使滤色片的表面变得不平滑，显示质量降低。另外，如果提高颜料的浓度，则会产生表面的粗糙和黑矩阵上产生的针孔状的缺陷。
除了上述以外，作为得到环境负荷小、在薄膜的光学浓度高的黑矩阵的方法，已知有代替炭黑使用金属微粒的方法(例如参照特开2004-240039号公报及特开2005-17322号公报。)。利用该方法，可以得到环境负荷小、在薄膜的光学浓度高的黑矩阵。
另一方面，滤色片的形成方法可以举出颜料分散法、电极沉积法等，其中，颜料分散法可以作为通常的方法举出。
颜料分散法有涂敷法、转印法，用转印方法涂敷形成黑矩阵、用狭缝涂敷机涂敷形成RGB像素，从像素形成的容易度及黑矩阵的制造精密度、成本的点来看，是有利的，作为滤色片的通常制造方法普及。
显示装置中近年来成为主流的液晶显示装置被广泛用作显示高图像质量的显示装置。液晶显示装置通常在一对基板间配置可以利用规定的取向进行图像显示的液晶层。
在液晶显示装置中，TFT基板与滤色片的间隔即液晶层的厚度(单元间距(cell gap))，换言之，表示向显示区域的液晶施加电场的2张电极之间的距离，其均一度对图像质量的好坏有很大影响。通常，为了保持单元间距稳定，间隔材、黑矩阵以及着色层(红色、绿色、蓝色层)等的厚度·高度均一性是必需的。
为了保持上述单元间距稳定，在上述中，间隔材(spacer)的高度(厚度)均一性尤其重要。
在间隔材中，当初使用氧化硅等无机颗粒(例如参照特开平5-181144号公报。)。但是，该方法中，微粒存在于像素内，会损坏滤色片的图像质量，近年来等开始使用感光性树脂，用光刻法形成柱状的形成物(以后也称为“柱状间隔材”。)(例如参照特开2000-056122号公报)。
但是，滤色片中的间隔材、黑矩阵及着色层等的厚度及高度均一性不充分，作为液晶显示装置使用时，存在显示不均的问题，需要为此进行改善。

发明内容
鉴于上述实际情况，本发明人等进行了潜心研究，发现可以解决上述课题，完成了本发明。
即，本发明利用下述方案实现。
利用本发明的第一方式，可以提供一种滤色片的制造方法，其是在基板上具有黑矩阵、和在由该黑矩阵分离的区域形成的具有R、G、B中的至少一色的着色像素的滤色片的制造方法，其特征在于，包括使用在临时支撑体上具有遮蔽用转印层的转印材料，该遮蔽用转印层含有树脂及其前体的至少一种和金属颗粒或含金属的颗粒，将转印材料转印到基板上，形成黑矩阵的工序；涂敷而形成具有R、G、B中的至少一色的着色像素的工序；使用光间隔材用光固化性树脂组合物，在该黑矩阵上形成光间隔材的工序。
具体实施例方式
以下对本发明中的转印材料的遮蔽用转印层、着色像素进行详细说明，同时通过该说明，也对本发明的滤色片及其制造方法以及液晶显示装置的具体情况进行叙述。
<遮蔽用转印层>
本发明中的遮蔽用转印层是含有树脂及其前体的至少一种和金属颗粒或含金属的颗粒(以下也称为“金属系微粒”。)的层，使用含有树脂及其前体的至少一种和金属颗粒或含金属的颗粒的着色组合物形成。
该遮蔽用转印层由于含有金属颗粒或含金属的颗粒，即使为薄膜也可以得到高光学浓度。该遮蔽用转印层例如在黑矩阵的制作中为优选，同时在构成液晶显示装置等的情况下，可以稳定地显示对比度高的图像。
上述遮蔽用转印层可以为单层，也可以为2层以上构成的多层，但从工序的简易度的点出发，优选单层。作为多层的例子，可以举出特开2006-11180号公报的段落编号 ～ 中记载的由光反射层和光吸收层构成的结构。
-金属颗粒或含金属的颗粒-本发明中的上述着色组合物含有金属颗粒及具有金属的颗粒的至少一种(以下也称为“金属系微粒”。)。
作为金属颗粒或含金属的颗粒中的金属，没有特别限定，可以使用任意金属。金属颗粒可以组合使用2种以上，也可以使用合金。另外，也可以为金属与金属化合物的复合微粒。
(金属颗粒)作为金属颗粒，优选由金属或金属与金属化合物形成的颗粒(复合金属颗粒)，特别优选由金属形成的颗粒(金属颗粒)。
特别优选将从长周期律表(IUPAC 1991)的第4周期、第5周期及第6周期构成的组中选择的金属作为主要成分含有。另外，优选含有从第2～14族构成的组中选择的金属，更优选将从第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族及第14族构成的组中选择的金属作为主要成分含有。这些金属中，作为金属颗粒，更优选为第4周期、第5周期或第6周期的金属，第2族、第10族、第11族、第12族或第14族的金属的颗粒。
作为上述金属颗粒优选的金属的例子，可以举出从铜、银、金、铂、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、钙、钌、锇、锰、钼、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅及这些合金中选择的至少1种。
更优选的金属为从铜、银、金、铂、钯、镍、锡、钴、铑、钙、铱及这些合金中选择的至少1种，更优选的金属为从铜、银、金、铂、钯、锡、钙及这些合金中选择的至少1种，特别优选的金属为从铜、银、金、铂、锡及这些合金中选择的至少1种。
尤其优选银、银锡合金(作为银，优选胶体银)，最优选银锡合金。
作为金属颗粒，最优选具有银锡合金的颗粒。对于具有银锡合金的颗粒，后述。
(金属化合物颗粒)“金属化合物”是指上述金属与金属以外的其他元素的化合物。作为金属与其他元素的化合物，可以举出金属的氧化物、硫化物、硫酸盐、碳酸盐等，作为金属化合物颗粒，优选它们的颗粒。其中，从色调或微粒形成的容易度出发，优选硫化物的颗粒。
作为金属化合物的具体例，有氧化铜(II)、硫化铁、硫化银、硫化铜(II)、钛黑等，从色调、微粒形成的容易度或稳定性的观点出发，特别优选硫化银。
(复合金属颗粒)复合金属颗粒是指金属与金属化合物结合成为1个颗粒的颗粒。例如，可以举出颗粒的内部与表面的组成不同的颗粒、2种颗粒聚结的颗粒等。另外，金属化合物与金属可以分别为1种或2种以上。
作为金属化合物与金属的复合金属颗粒的具体例，可以优选举出银与硫化银的复合微粒、银与氧化铜(II)的复合微粒等。
本发明中的金属系微粒也可以为核·壳(core·shell)型的复合颗粒(核壳颗粒)。核·壳型的复合颗粒(核壳颗粒)是指用壳材料覆盖核材料的表面的颗粒，作为其具体例子，可以举出特开2006～18210号公报的段落编号 ～ 中记载的核壳微粒。
<具有银锡合金部的颗粒>
作为上述具有银锡合金部的颗粒，包括银锡合金构成的颗粒、银锡合金部分与其他金属部分构成的颗粒及银锡合金部分与其他合金部分构成的颗粒。
在上述具有银锡合金部的颗粒中，至少一部分由银锡合金构成例如可以通过使用(株)日立制作所制的HD-2300和诺兰(Noran)公司制的EDS(能量分散型X射线分析装置)，利用加速电压200kV由光谱测定各颗粒的中心15nm□面积来确认。
上述具有银锡合金部的颗粒，黑浓度高，可以以少量或者以薄膜表现出出色的遮光(遮蔽)性能，同时具有高热稳定性，所以不损坏黑浓度、以高温(例如200度以上)的热处理是可能的，可以稳定地确保高度的遮光性。例如，优选用于需要高度的遮光性、通常实施烘焙处理的滤色片用的遮光膜(所谓黑矩阵)等。
上述具有银锡合金部的颗粒优选为可以使银锡合金部中的银(Ag)的比例在30～80摩尔％，Ag与锡(Sn)复合化(例如合金化)得到的颗粒。通过使Ag的比例在特别是上述范围内，可以得到在高温域的热稳定性高、抑制光的反射率的高黑浓度。特别是Ag的比例为75摩尔％的颗粒即AgSn合金颗粒容易制作，得到的颗粒也稳定，优选。
上述具有银锡合金部的颗粒可以用在坩埚等中加热、熔融混合形成等普通方法进行合金化等形成，Ag的融点在900℃附近，Sn的融点在200℃附近，二者的融点存在很大的差，而且还额外需要复合化(例如合金化)后的微粒化工序，所以优选利用颗粒还原法。即为混合Ag化合物和Sn化合物，将其还原的方法，是在同时接近金属Ag和金属Sn的位置使其析出，同时实现复合化(例如合金化)和微粒化的方法。Ag容易还原，有比Sn更先析出的趋势，所以优选通过使Ag及/或Sn成为配盐，控制析出时机。
作为上述Ag化合物，优选举出硝酸银(AgNO3)、醋酸银(Ag(CH3COO))、高氯酸银(AgClO4·H2O)等。其中特别优选醋酸银。
作为上述Sn化合物，优选举出氯化亚锡(SnCl2)、氯化锡(SnCl4)、醋酸亚锡(Sn(CH3COO2))等。其中，特别优选醋酸亚锡。
还原可以将使用还原剂的方法、利用电解还原的方法等作为优选的还原方法举出。其中，利用使用还原剂的前者的方法，从可以得到微细的颗粒的点来看，优选。作为上述还原剂，可以举出氢醌、儿茶酚、对氨基苯酚、对苯二胺、羟基丙酮等。其中，从容易挥发、难以给显示装置带来不良影响的点来看，特别优选羟基丙酮。
本发明中的金属系微粒可以使用市售的微粒，此外，还可以利用金属离子的化学还原法、非电解镀敷法、金属的蒸发法等配制。
例如，棒状或金属丝状的银微粒可以通过将球形银微粒作为种微粒之后，进一步添加银盐，在CTAB(溴化鲸蜡醇基三甲基铵)等表面活性剂的存在下，使用抗坏血酸等还原力较弱的还原剂得到。这在“高级物质(Advanced Materials”2002，14，80-82中有记载。另外，在“物质化学和物理(Materials Chemistry and Physics)”2004，84，197-204、“高级功能物质(Advanced Functional Materials)”2004，14，183-189中有同样的记载。
另外，作为使用电解的方法，在“物质书(Materials Letters)”2001，49，91-95中有记载，在“物质研究杂志(Journal of Materials Research)”2004，19，469-473中记载了通过照射微波产生银棒的方法。相反，作为并用反胶束(micelle)和超声波的例子，可以举出物理化学杂志(Journal of Physical Chemistry)”B 2003，10 ，3679-3683。
关于金，也同样记载于“物理化学杂志(Journal of Physical Chemistry)”B 1999，103、3073-3077及“朗缪尔(Langmuir)”1999，15，701-709、“美国化学协会(Journal of American Chemical Society)”2002，124 ，14316-14317。
棒状颗粒的形成方法也可以改良上述记载的方法(调整添加量，控制pH)来配制。
本发明中的金属系微粒为了接近无彩色，可以通过组合各种微粒得到。通过使颗粒从球形或立方体变为平板状(六边形、三角形)、棒状，可以得到更高的透过浓度，这样，就可以在形成遮光层时实现薄膜化。
作为上述金属系微粒的粒度分布，优选使颗粒的分布近似于正态分布，其数均粒径的粒度分布幅度D90/D10为1.2以上不到20。在此，颗粒径是指将长轴长度L作为颗粒直径的指标，D90是从接近平均粒径的颗粒的90％选出的颗粒直径，D10是从接近平均粒径的颗粒的10％选出的颗粒直径。从色调的观点出发，粒度分布幅度优选为2以上15以下，更优选为4以上10以下。如果分布幅度不到1.2，则有时色调变得接近单色，如果在20以上，则有时粗颗粒的散射会引起浑浊的产生。
此外，上述粒度分布幅度D90/D10的测定，具体而言，可以通过用上述测定三轴径的方法随机测定100个膜中的金属系微粒，将上述长轴长度L作为颗粒直径，使粒径分布接近正态分布，将平均粒径的颗粒的数目90％的范围的颗粒直径作为D90，将平均粒径的数目的10％的范围的颗粒直径作为D10，算出D90/D10。
《三轴径》本发明中的金属系微粒可以利用下述方法作为长方体，测定各尺寸。即，设想恰好(正好)容纳1个金属系微粒的三轴径的长方体的箱子，该箱子的最长的长度为长轴长度L，具有厚t、宽b，定义为该金属系微粒的尺寸。上述尺寸中，具有L＞b≥t的关系，除了相同的情况以外，b与t的大的一方定义为宽b。具体而言，首先，在平面上重心最低、最稳定静止地放置金属系微粒。接着，利用相对平面直立为直角的2张平行平板夹持金属系微粒，保持在该平板间隔成为最短的位置的平板间隔。接着，利用相对决定上述平板间隔的2张平板为直角、相对上述平面也为直角的2张平行的平板夹持金属系微粒，保持该2张平板间隔。最后，在上述平面上载置顶板，以接触金属微粒的最高位置。利用该方法，可以形成利用平面、2对平板及顶板分出的长方体。
此外，圈(coil)状或环(loop)状时，定义为在伸展其形状的状态下，进行上述测定的情况下的值。
·长轴长度L为棒状的金属系微粒的情况等下，上述长轴长度L优选为10nm～1000nm，更优选为10nm～800nm，最优选为20nm～400nm(短于可见光的波长。)。通过使L在10nm以上，有在制造上配制简便而且耐热性或色味也变得良好的优点，通过使其在1000nm以下，有面状缺陷少的优点。
·宽b与厚t的比为棒状的金属系微粒的情况等下，宽b与厚t的比定义为对100个棒状金属微粒测定的值的平均值。棒状的金属系微粒的宽b与厚t的比(b/t)优选为2.0以下，更优选为1.5以下，特别优选为1.3以下。如果b/t超过2.0，则变得接近平板状，耐热性降低。
·长轴长度L与宽b及厚t的关系长轴长度L优选为宽b的1.2倍以上100倍以下，更优选为1.3倍以上50倍以下，特别优选为1.4倍以上20倍以下。如果长轴长度L变得不到1.2倍，则有时平板的特征出现，耐热性恶化。另外，长轴长度L如果超过宽b的100倍，则有时黑色浓度变低，不能进行薄层高浓度化。
·长度L与宽b及厚t的测定长度L、宽b及厚t的测定可以利用电子显微镜的表面观察图(×500000)和原子能显微镜(AFM)，为测定100个棒状金属系微粒的值的平均值。原子能显微镜有几个操作模式，根据用途区分使用。
大体分为以下3个。
(1)接触方式使探测器(probe)接触样品表面，从悬臂(cantilever)的变位测定表面形状的方式(2)轻叩(tapping)方式周期地使探测器接触样品表面，从悬臂的振动振幅的变化测定表面形状的方式(3)非接触方式不使探测器接触样品表面，从悬臂的振动频率变化测定表面形状的方式另一方面，上述非接触方式需要以高敏感度检测极微的引力。所以，难以用直接测定悬臂的变位的静态的力检测出，应用了悬臂的机械共振。
可以举出上述3个方法，可以结合样品选择任意一种方法。
此外，在本发明中，作为上述电子显微镜，可以使用日本电子公司制的电子显微镜JEM2010，以加速电压200kV测定。另外，原子能显微镜(AFM)可以举出精工仪器(セイコ一インスツルメンツ)公司制的SPA-400。在原子能显微镜(AFM)的测定中，通过加入聚苯乙烯珠会使测定变得较容易。
在本发明中，作为金属系微粒，优选金属颗粒或具有金属的金属化合物颗粒，更优选银颗粒或含有银的银化合物颗粒，最优选含银锡合金部的颗粒。
(颜料和其他)在本发明中，可以与上述金属系微粒一起使用颜料等其他微粒。使用颜料时，可以构成为更接近黑色的色相的构成。
上述颜料通常大致分为有机颜料和无机颜料，在本发明中，优选用与上述金属系微粒为同一分散剂分散的颜料。作为优选使用的颜料在例子，可以举出偶氮系颜料、酞菁染料系颜料、蒽醌系颜料、二噁嗪系颜料、喹吖啶酮系颜料、异吲哚啉酮系颜料、硝基系颜料。有机颜料的色相例如优选黄色、橙色、红色、紫色、蓝色、绿色、棕色、黑色等。
作为上述黑色颜料，从色味的观点出发，炭黑、钛黑可以作为优选颜料举出。
作为炭黑的例子，优选颜料黑(Pigment Black)7(カ一ボンブラツクC.I.No.77266)作为市售品，可以举出三菱碳黑MA100(三菱化学(株)制)、三菱碳黑#5(三菱化学(株)制)。
作为钛黑的例子，优选TiO2、TiO、TiN或它们的混合物。作为市售品，可以举出三菱物质(三菱マテリアルズ)(株)制的(商品名)12S或13M。钛黑的平均粒径优选为40～100nm。
如果钛黑的平均粒径不到40nm，则有时容易发生凝聚等问题，如果超过100nm，则没有优选的色味。
作为石墨的例子，粒径的斯托克斯直径(Stokes)优选为3μm以下。如果使用超过3μm的石墨，则有时遮光图案的轮廓形状变得不均一，清晰度(sharpness)变差。另外，最好使粒径的大部分在0.1μ以下。
以下列举着色组合物可以使用的颜料等微粒(着色剂)。但本发明不被这些所限定。
作为上述微粒的具体例，可以优选使用特开2005-17716号公报 ～ 中记载的色材、特开2005-361447号公报 ～ 中记载的颜料或特开2005-17521号公报 ～ 中记载的着色剂。
另外，也可以参照并适当使用“颜料便览，日本颜料技术协会编，诚文堂新光社，1989”、“颜色索引，染料&印染工作者协会，第三版，1987(COLOUR INDEX、THE SOCIETY OF DYES&COLOURIST、THIRD EDITION、1987)”中记载的着色剂。
颜料优选使用与金属系微粒的色相有互补关系的颜料。另外，颜料也可以组合1种或2种有时使用。作为优选的颜料组合，可以举出红色系及蓝色系的彼此为互补关系的颜料混合物与黄色系及紫色系的彼此为互补关系的颜料混合物的组合、向上述混合物中进一步加入黑色颜料的组合、蓝色系与紫色系与黑色系的颜料的组合。
另外，在本发明中，在黑矩阵中，金属系微粒的添加量A与颜料的添加量B的质量比B/A为0.2以上10以下，优选为0.3以上6.0以下，更优选为0.8以上5.0以下。上述质量比B/A如果超过10，则黑矩阵中的金属系微粒变少，透过光学浓度降低，微粒维持规定的透过光学浓度而需要提高黑矩阵的厚度，结果产生黑矩阵与R、G、B的各像素之间的重叠(台阶)，滤色片的平坦性变差，液晶显示装置的单元间距产生不均，容易引起色不均等显示不良。
从对比度的观点出发，颜料的球相当直径优选为5nm以上5μm以下，特别优选为10nm以上1μm以下，作为滤色片用，更优选为20nm以上0.5μm以下。
--金属系微粒的分散--本发明中的金属系微粒优选以稳定的状态存在，例如更优选为胶体状态。在为胶体状态的情况下，例如优选金属系微粒基本上以微粒状态分散。
作为进行分散时的分散剂或本发明中的可以配合在分散液中的添加剂，特开2005-17322号公报的段落编号 ～ 中记载的分散剂或添加剂可以作为本发明中优选的例子。
<树脂或其前体>
本发明中的着色组合物可以优选使用树脂及其前体的至少一种构成。在此，树脂是作为粘合剂的聚合物成分，树脂的前体是聚合时构成树脂的成分，含有所谓单体、寡聚物成分等。
作为上述树脂，可以举出侧链具有羧酸基的聚合物，例如特开昭59-4461 5号公报、特公昭54-34327号公报、特公昭58-12577号公报、特公昭54-25957号公报、特开昭59-53836号公报及特开昭59-71048号公报中记载的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化马来酸共聚物等。另外，也可以举出侧链具有羧酸基的纤维素衍生物。此外，也可以优选使用向具有羟基的聚合物附加环状酸酐的物质。特别是美国专利第4139391号说明书中记载的(甲基)丙烯酸苄基酯与(甲基)丙烯酸的共聚物或(甲基)丙烯酸苄基酯与(甲基)丙烯酸与其他单体的多元共聚物也可以优选使用。
上述树脂优选选择具有30～400mgKOH/g的范围的酸值和1,000～300,000的范围的重均平均分子量的树脂。
上述树脂优选具有50～300mgKOH/g的范围的酸值和7000～100000的范围的重均平均分子量的树脂，特别优选具有60～200mgKOH/g的范围的酸值和10000～70000的范围的重均平均分子量的树脂。
另外，除了上述，为了改良各种性能例如固化膜的强度，在不给显影性等带来不良影响的范围内，也可以添加醇可溶性的聚合物。作为醇可溶性的聚合物，例如可以举出醇可溶性尼龙、环氧树脂等。
作为上述“树脂的前体”，可以举出通过固化成为树脂的单体等。
作为上述单体，特开2006-23696号公报的段落编号 ～ 中记载的单体可以作为本发明的优选例子使用。
上述单体可以单独使用一种或混合两种以上使用。
单体的着色组合物相对全部固体成分的含量通常在5～50质量％，优选10～40质量％。如果该含量在上述范围内，则光灵敏度或图像的强度不会降低，着色组合物的粘附性也不会变得过剩。
使用本发明中的着色组合物，形成遮蔽用转印层(形成图案之前的层)的情况下，作为形成的遮蔽用转印层的每1μm层厚的光学浓度，优选为1以上，更优选为1以上20以下，进而优选为2以上15以下，特别优选为3以上10以下。
另外，作为着色组合物中的金属系微粒(及根据需要，颜料和其他)的含量，例如在制作滤色片时等，后烘焙时如果考虑防止金属系微粒(及根据需要，颜料和其他)熔合，金属系微粒的着色组合物相对全部固体成分的含量，优选调整为10～90质量％左右，更优选10～80质量％。
另外，金属系微粒(及根据需要，颜料和其他)的含量优选考虑平均粒径引起的光学浓度的变动来进行。
对于后述的具有感光性的着色组合物中含有的金属系微粒(及根据需要，颜料和其他)的含量，也是同样的。
本发明中所述的“黑矩阵”是指在液晶显示装置的周边部设置的黑色的绿或红、蓝、绿的像素间的格子状或条纹状的黑色的部分，进而是指用于TFT遮光的点状或线状的黑色图案等，该黑矩阵的定义例如记载于“液晶显示器制造装置用语辞典”(第2版，菅野泰平著，p.64，日刊工业新闻社，1996年)。
黑矩阵为了提高显示对比度，另外在使用薄膜晶体管(TFT)的有源矩阵驱动方式的液晶显示装置的情况下，为了防止光的电流泄漏引起的图像质量降低，需要高的遮光性(光学浓度OD为3以上)。
<感光性的着色组合物>
上述黑矩阵制作用的着色组合物更优选具有感光性。
具体而言，可以通过使用感光性树脂组合物构成而赋予感光性。上述感光性树脂组合物可以优选举出含有成为粘合剂的聚合物、光聚合引发剂及具有乙烯性不饱和双键并光照射下进行加聚的单体(以下有时称为“光聚合性单体”。)等而成的方式。
上述感光性树脂组合物有可以用碱水溶液显影的组合物和可以用有机溶剂显影的组合物。从安全性和显影液的成本的点出发，优选可以用碱水溶液显影的组合物，从这一点出发，作为成为粘合剂的聚合物，优选使用碱可溶性聚合物构成。
感光性树脂组合物可以为接受如上所述的光或电子射线等放射线的部分发生固化的阴型，也可以为放射线未接受部分发生固化的阳型。
作为上述感光性树脂组合物的成分，特开2006-23696号公报的段落编号 ～ 中记载的构成着色感光性树脂组合物的成分也可以作为本发明的优选例子举出。
另外，将金属系微粒如同金属胶体用作水分散物的情况下，作为黑矩阵制作用着色组合物需要使用水系的着色组合物。作为这样的感光性树脂组合物，除了特开平8-271727号公报的段落 ～ 中记载的以外，作为市售的例子，例如可以举出东洋合成工业(株)制的“SPP-M20”等。
使用本发明中的黑矩阵制作用着色组合物(包括感光性的组合物)制作黑矩阵的情况下，可以制作为薄膜而且光学浓度高的黑矩阵。
本发明中的着色组合物优选用于形成分离着色像素部的黑矩阵。
<感光性转印材料>
感光性转印材料(以下也简单地称为“转印材料”。)是在临时支撑体上设置使用至少具有感光性的黑矩阵制作用着色组合物形成的遮蔽转印层的材料，根据需要也可以设置热塑性树脂层、中间层及保护层等。
-临时支撑体-作为临时支撑体，例如可以使用聚酯、聚苯乙烯等公知的基材。其中，双向拉伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯，从成本、耐热性、寸法稳定性的观点来看，优选。临时支撑体的厚度优选为15～200μm左右，更优选为30～150μm左右。如果临时支撑体的厚度在上述范围内，层压工序时，可以有效地抑制热引起镀锌铁板状的皱纹产生，在成本上是有利的。
-遮蔽用转印层-遮蔽用转印层是使用上述黑矩阵制作用的着色组合物形成的层。
该遮蔽用转印层的膜厚优选为0.2～2.0μm左右，更优选为0.2～0.9μm。该层由于是使金属颗粒或含金属的颗粒分散的层，所以如上所述可以得到为薄膜而且高光学浓度(2.5倍以上)，例如构成液晶显示装置等的情况下，可以抑制显示对比度的变动，可以稳定地显示对比度高的图像。
作为金属颗粒或含金属的颗粒，使用具有银锡合金部的颗粒的情况下，特别有效。
作为黑矩阵的光学浓度，优选为2.5以上10.0以下，更优选为3.0以上6.0以下，特别优选为3.5以上5.5以下。如果光学浓度在上述范围内，可以赋予遮光性。
黑矩阵的形成，只要是使用含有上述金属系微粒(金属颗粒或含金属的颗粒)与含树脂及其前体的黑矩阵制作用的着色组合物而成的遮蔽用转印层，转印该遮蔽用转印层，根据需要曝光、显影成图案状，形成(形成图案)的方法即可，没有特别限制。
作为本发明中的构成转印材料的上述遮蔽用转印层的层，特开2005-3861号公报的段落编号 ～ 中记载的热塑性树脂层、中间层、保护薄膜可以举出优选的例子举出。
-感光性转印材料的制作-感光性转印材料的制作可以通过在临时支撑体上，使用例如特开2005-3861号公报的段落编号 ～ 中记载的通常的涂敷装置等，对具有感光性的黑矩阵制作用组合物进行，但在本发明中，如下所述，优选利用使用狭缝状喷嘴的涂敷装置(狭缝涂敷机)进行。
上述设置热塑性树脂层、中间层的情况也可以同样地进行。
--利用狭缝状喷嘴的涂敷--涂敷膜的形成优选利用具有缝隙状的孔的狭缝状喷嘴，向上述组合物喷出的部分涂敷。具体而言，优选使用在特开2004-89851号公报、特开2004-17043号公报、特开2003-170098号公报、特开2003-164787号公报、特开2003-10767号公报、特开2002-79163号公报、特开2001-310147号公报等中记载的具有狭缝状喷嘴的狭缝涂敷机。
狭缝涂敷机在顶端具有宽几十微米的缝隙(间隙)，而且使对应矩形基板的涂敷宽的长度的涂敷喷头与基板的间隙(clearance)保持在数10～数100微米，同时使基板与涂敷喷头之间保持一定的相对速度，从基板上涂敷以规定的喷出量从缝隙供给的涂敷液的涂敷方式。
该缝隙涂敷具有如下优点(1)与旋涂相比，液体损失少，(2)由于没有涂敷液的飞散，可以减轻清洗处理，(3)没有飞散的液体成分向涂敷膜的再混入，(4)由于没有旋转的调试停止时间，所以可以缩短化间隔时间，(5)容易向大型基板涂敷等。从这些优点出发，缝隙涂敷在大型画面液晶显示装置用的滤色片的制作中是有效的，可以有望作为对于涂敷液量的削减有利的涂敷方式。
<黑矩阵的形成方法>
本发明中的黑矩阵的形成方法是具有使用具有至少1层遮蔽用转印层的转印材料，该遮蔽用转印材料含有金属颗粒及含金属的颗粒的至少一种和树脂及其前体的至少一种，在基板上转印该遮蔽转印层，形成黑矩阵的工序(黑矩阵形成工序)的方法，进而，优选曝光、显影成图案状，形成黑矩阵。进而，也可以根据需要设置其他工序构成。
进而，具体而言，本发明中的黑矩阵从形成方法优选为具有如下所述的工序的方法，即，使用感光性转印材料，在光透过性基板上，配置、层叠(转印工序)感光性转印材料，并使感光性遮光层与其接触，然后从感光性转印材料与光透过性基板的层叠体剥离临时支撑体，曝光、显影感光性遮光层，形成黑矩阵。
该方法不需要进行烦琐的工序，可以低成本地进行，下面对转印工序进行进一步说明。
-转印工序-可以使用上述转印材料，用加热及/或加压的辊或平板，在基板上压粘或加热压粘形成为薄膜状的遮蔽用转印层，进行转印贴附。
具体而言，可以举出特开平7-110575号公报、特开平11-77942号公报、特开2000-334836号公报、特开2002-148794号公报中记载的层合机及层压方法，以低异物的观点来看，优选使用特开平7-110575号公报中记载的方法。
作为本发明中的黑矩阵的形成工序，除了上述转印以外，可以具有曝光、显影、后曝光、加热处理等工序，对于这些工序，特开2005-3861号公报的段落编号 ～ 中记载的工序可以作为优选的例子举出。
<着色像素及像素形成方法>
本发明中的着色像素是指在由基板上的黑矩阵分离的区域形成的具有R、G、B中的至少一色的着色像素。
本发明中的像素形成方法包括利用涂敷，向由在上述形成黑矩阵的工序中形成的黑矩阵分离的区域的凹部，涂敷R、G、B中的至少一色的涂敷液，形成着色像素的工序(以下也称为“像素形成工序”。)的方法。该像素形成工序也可以根据需要设置其他工序构成。该涂敷的方法与在上述感光性转印材料的项目中叙述的方法相同，其中，特别优选利用狭缝涂敷机涂敷的方法。
作为利用狭缝涂敷机涂敷的方法，在上述黑矩阵形成工序中已述的“利用狭缝状喷嘴的涂敷”可以作为优选的具体例举出。
作为上述着色像素的形成中使用的涂敷液，特开2006-23696号公报的段落编号 ～ 中记载的着色感光性树脂组合物等可以作为优选的例子举出。
<光间隔材及其形成方法>
本发明中的感光性间隔材是用于维持上述基板间的单元厚度的间隔材，其特征在于，利用在上述黑矩阵上，使用光间隔材用光固化性树脂组合物(以下也称为“光间隔材用组合物”。)，形成该组合物层，形成光间隔材的工序得到。
作为形成上述光间隔材用光固化性组合物层的方法，可以为具有涂敷上述光间隔材用组合物，形成光间隔材用光固化性组合物层，然后形成光间隔材(涂敷法)的工序的方法，或者也可以为具有使用上述感光性间隔材用组合物，使用具有由光间隔材用光固化性组合物构成的层的转印材料，在基板上转印，形成光间隔材(转印法)的工序的方法。
从光间隔材形状均一性、高位置精密度的观点出发，形成光间隔材的工序优选为使用转印材料形成的工序。
特别是使用转印材料形成的感光性间隔材，在保持液晶单元的单元厚度为均一的方面是有效的。所以，上述光间隔材可以优选用于液晶单元的单元厚度的变动容易引起显示不均的液晶显示装置用途。
接着，对光间隔材用感光性树脂组合物进行说明。
-光间隔材用光固化性树脂组合物-本发明中的光间隔材用光固化性树脂组合物需要具有感光性，优选使用具有感光性的可以进行碱显影的树脂组合物。
其中，至少含有(A)高分子物质和(B)聚合性单体、(C)光聚合引发剂，根据需要也可以使用(D)作为其他成分的着色剂或表面活性剂等构成。
作为上述光间隔材用光固化性感光性树脂组合物，特开2006-64921号公报的段落编号 ～ 中记载的构成“感光性树脂层”的成分或特开2006-18222号公报的段落编号 ～ 内记载的构成“负型感光层”的成分可以作为优选的例子举出。
在上述中，从高塑性变形耐性的观点出发，优选特开2006-64921号公报的段落编号 ～ 中记载的构成“感光性树脂层”的成分。
作为本发明中的光间隔材的变形恢复率，用50μmΦ的圆重物台压头，对17μmΦ的光间隔材，在负载速度0.145gf/秒、最大负荷78mN、保持时间5秒、测定温度23℃的条件下，以进行负载-除荷试验时的变形恢复率，优选为70％以上，更优选为80％以上，进而优选为85％以上。
如果变形恢复率在上述范围内，则可以对抗来自外部的压缩强度，防止面板形成时的塑性变形，得到需要厚度的液晶层。
结果，可以消除厚度变化时可以产生的显示不均，高图像质量图像的显示成为可能。
本发明中的上述光间隔材需要设置于上述黑矩阵上。
通过在黑矩阵上设置上述光间隔材，可以防止光间隔材引起的光漏出，提高显示质量。另外，也可以设置在黑矩阵与着色层重合的部分上，这种情况下，即使为高度低的光间隔材，也可以保持充分的单元间距，优选。
进而，本发明中的黑矩阵为使用上述遮蔽用转印层的构成，所以可以灵敏度良好地形成黑矩阵，另外，本发明中的光间隔材使用具有上述构成的光间隔材用光固化性树脂组合物，所以为了使膜厚变动变小，可以在该遮光膜与光间隔材中减小规定的单元厚度的厚度变动，结果提高了使用它们的液晶显示装置的显示质量。
特别是单元厚度为2～4μm的薄膜构成的情况下，可以有效地防止液晶显示装置显示的图像中的显示不均。
本发明中的光间隔材可以用与在上述黑矩阵的项目中已说明的制造方法同样的制造方法制作。
形成上述光间隔材用光固化性树脂层的情况下，其层厚优选为0.5～10.0μm，更优选为1～6μm。如果层厚在上述范围内，可以防止在制造时涂敷形成时的针孔的发生，不需要长时间进行未曝光部的显影除去，所以优选。
<滤色片及其制造方法>
本发明的滤色片的制造方法，其是在基板上具有上述黑矩阵，和在由该黑矩阵分离的区域形成的具有R、G、B中的至少一色的着色像素的滤色片的制造方法，其特征在于，具有使用在临时支撑体上具有遮蔽用转印层的转印材料，其中，该遮蔽用转印层含有树脂及其前体的至少一种和金属颗粒或含金属的颗粒，将转印材料转印到基板上，形成黑矩阵的工序，涂敷并形成具有R、G、B中的至少一色的着色像素的工序，使用光间隔材用光固化性树脂组合物，在该黑矩阵上形成光间隔材(photospacer)的工序。
如上所述，上述涂敷优选利用狭缝涂敷机进行，在各工序中的形成方法如上所述。
本发明中的滤色片的特征在于，利用本发明的上述滤色片的制造方法制作。
这样制作的滤色片，可以即使为高浓度的黑矩阵也没有表面粗糙等缺陷或在后工序中形成的着色像素的厚度不均。
进而，将滤色片用于液晶显示装置时，利用在上述黑矩阵上形成的光间隔材保持一定的单元间距成为可能，该液晶显示装置可以以高对比度而且低成本得到。
-基板-作为形成上述滤色片的基板，可以使用在表面具有氧化硅被膜的钠玻璃板、低膨胀玻璃板、无机玻璃板、石英玻璃板等公知的玻璃板或塑料薄膜等。
如上所述，本发明的滤色片使用本发明中的着色组合物，具备制作的为薄膜而且高浓度的黑矩阵，所以例如在构成液晶显示装置等的情况下，可以经时地抑制显示不均或抑制显示对比度的变动，可以稳定地显示对比度高的图像。
<液晶显示装置>
本发明的液晶显示装置是具备已述的本发明的滤色片的装置。如上所述，该滤色片具有将含有金属颗粒或含金属的颗粒和树脂或其衍生物的上述遮蔽用转印层曝光、显影成图案状，形成的精密度良好的黑矩阵，所以可以经时地抑制显示不均或抑制显示对比度的变动，可以稳定地显示对比度高的图像。
对于液晶显示装置的说明，例如记载于“电子显示器设备”(佐佐木昭夫著，隅工业调查会，1990年发行)、“显示器设备”(伊吹顺幸著，产业图书侧 平成元年发行)等。
本发明的液晶显示装置除了上述滤色片以外，通常使用电极基板、偏振光薄膜、相位差薄膜、背光灯、间隔材、视角补偿薄膜、防反射薄膜、光扩散薄膜、防眩薄膜等公知构件构成。在由这些公知的构件构成的液晶显示装置中，可以适用已述的本发明的滤色片，可以制作本发明的液晶显示装置。对于这些构件，例如记载于“’94液晶显示器外围材料·化学药品(chemicals)的市场(岛健太郎(株)CMC 1994年发行)”、“2003液晶相关市场的现状与未来展望(下卷)(表良吉(株)富士克美拉(キメラ)总研2003等发行)”，作为LCD的种类，可以举出STN、TN、VA、IPS、OCS及R-OCB等。
作为液晶显示装置之一，可以举出在至少一方为光透过性基板的一对基板间至少具备滤色片、液晶层及液晶驱动机构(包括单纯矩阵驱动方式及有源矩阵驱动方式。)的液晶显示装置。
作为上述滤色片，可以优选使用具有多个像素组，构成像素组的各像素彼此被本发明中的黑矩阵分离的滤色片。
另外，作为液晶显示装置的其他方式，可以举出在至少一方为光透过性基板的一对基板间至少具备滤色片、液晶层及液晶驱动机构，上述液晶驱动机构具有有源元件(例如TFT)，而且在各有源元件之间形成使用本发明中的着色组合物或转印材料制作的黑矩阵。
对于液晶显示装置，例如记载于“下一代液晶显示器技术(内田龙男编集，侧工业调查会 1994年发行)”。在本发明中，对可以适用的液晶显示装置(液晶显示元件)没有特别限制，例如可以适用于上述“下一代液晶显示器技术”中记载的各种方式的液晶显示元件。在这些中，特别对于彩色TFT方式的液晶显示元件是有效的。
关于彩色TFT方式的液晶显示装置，例如记载于“彩色TFT液晶显示器(共立出版(株)，1996年发行)”。进而在本发明中，当然也可以适用于IPS等横电场驱动方式、MVA等像素分割方式等视角被扩大的液晶显示装置。对于这些方式，例如被记载于“EL、PDP、LCD显示器技术与市场的最新动向”(东联研究中心调查研究部门，2001年发行)的43页。
作为可以用于液晶显示装置的液晶，可以举出向列型液晶、胆甾醇型液晶、碟状液晶、强电介质性液晶等。
以下列举本发明中的例示的方式。
<1>一种滤色片的制造方法，其是在基板上具有黑矩阵和在由该黑矩阵分离的区域形成的具有R、G、B中的至少一色的着色像素的滤色片的制造方法，其特征在于，具有使用在临时支撑体上具有遮蔽用转印层的转印材料，其中，该遮蔽用转印层含有树脂及其前体的至少一种和金属颗粒或含金属的颗粒，将转印材料转印到基板上，形成黑矩阵的工序，涂敷并形成具有R、G、B中的至少一色的着色像素的工序，使用光间隔材用光固化性树脂组合物，在该黑矩阵上形成光间隔材(photospacer)的工序。
<2>根据上述<1>所述的滤色片的制造方法，其特征在于，所述涂敷利用狭缝涂敷机进行。
<3>根据上述<1>或<2>所述的滤色片的制造方法，其特征在于，形成所述光间隔材的工序是使用在临时支撑体上具有光间隔材用光固化性树脂组合物的转印材料来形成的工序。
<4>根据上述<1>～<3>中任意一项所述的滤色片的制造方法，其特征在于，所述遮蔽用转印层中含有的金属颗粒或含金属的颗粒中的至少一种为具有银锡合金部的颗粒。
<5>根据上述<1>～<4>中任意一项所述的滤色片的制造方法，其特征在于，所述遮蔽用转印层还含有颜料。
<6>根据上述<1>～<5>中任意一项所述的滤色片的制造方法，其特征在于，所述遮蔽用转印层为单层。
<7>根据上述<1>～<5>所述的滤色片的制造方法，其特征在于，所述遮蔽用转印层至少由2层树脂层构成，该树脂层中的至少一层为光反射层，该树脂层中的至少一层为光吸收层。
<8>一种滤色片，其特征在于，利用上述<1>～<7>中任意一项所述的滤色片的制造方法制作。
<9>一种液晶显示装置，其特征在于，具有上述<8>所述的滤色片。
以下利用实施例对本发明进行进一步详细说明，但本发明只要不逾越其主旨，不被这些实施例所限定。此外，只要不是特别事先说明，“份”是质量标准。在本实施例中，作为浓色分离壁的例子，表示形成黑矩阵(以下有时简称为“BM”。)的情况。
(实施例1)<具有银锡合金部的颗粒的分散液(分散液A1)的配制>
在纯水1000ml中溶解醋酸银23.1g、醋酸锡(II)65.1g、葡糖酸54g、焦磷酸钠45g、聚乙二醇(分子量3,000)2g及E735(ISP日本(アイエスピ一·ジヤパン)(株)制；乙烯基吡咯烷酮/醋酸乙烯共聚物)5g，得到溶液1。
另外，在向纯水500ml中溶解羟基丙酮36.1g，得到溶液2。
将上述得到的溶液保持在25℃下，同时剧烈搅拌，利用2分钟向其中添加上述溶液2，缓慢地继续搅拌6小时。这样，混合液变化成黑色，得到具有银锡合金部的颗粒(以下有时称为“含银锡合金部颗粒”。)。接着，重复进行3次下述操作(A)，除去水相的可溶性物质，同时使含银锡合金部的颗粒分散。
-操作(A)-离心分离含有上述含银锡合金部的颗粒的液体，使含银锡合金部的颗粒沉淀。离心分离是分成150ml的小份液体量，利用台式离心分离机H-103n[(株)国产(コクサン)制]，以转速2,000r.p.m.，进行30分钟。接着，去上清，使全部液体量成为150ml，向其中加入1350ml纯水，搅拌15分钟，再次使含银锡合金部的颗粒分散。
然后，对该液体进行进一步离心分离，再次使含银锡合金部的颗粒沉淀。离心分离在与上述同样的条件下进行。离心分离之后，与上述同样地去上清，使全部液体量成为150ml，向其中加入850ml纯水及500ml丙酮，进一步搅拌15分钟，再次使含银锡合金部的颗粒分散。
再次与上述同样地进行离心分离，使含银锡合金部沉淀之后，与上述同样地去上清，使液体量成为150ml，向其中加入150ml纯水及1200ml丙酮，进一步搅拌15分钟，再次使含银锡合金部的颗粒分散。接着，再次进行离心分离。此时的离心分离的条件，除了时间延长至90分钟以外，与上述相同。然后，去上清，使全部液体量成为70ml，向其中加入30ml丙酮。使用爱格(アイガ一)磨机(mill)(爱格磨机M-50型(介质(media)直径0.65mm氧化锆珠130g，爱格日本(アイガ一·ジヤパン)(株)制)，分散6小时，得到含银锡合金部的颗粒的分散液(分散液A1)。
利用X射线散射确认，该含银锡合金部的颗粒为AgSn合金(2θ＝39.5°)和Sn金属(2θ＝30.5°)构成的复合体。在此，括号内的数字为各自的(III)面的散射角。用透射型电子显微镜观察该微粒分散液的结果，以数均颗粒尺寸，分散平均粒径约为40nm。
上述数均颗粒尺寸的测定使用利用透射型电子显微镜JEM-2010(日本电子(株)制)得到的照片，如下所述进行。
选出颗粒100个，将与各颗粒像相同的面积的圆的直径作为粒径，将100个颗粒的粒径的平均值作为数均颗粒尺寸。此时，使用倍率为10万倍、加速电压200kV下拍摄的照片。
<黑矩阵(BM)用感光性涂敷液A1的配制>
混合下述表1的组成，配制BM用感光性涂敷液A1。


单位质量份*表面活性剂1使用氟系表面活性剂F-780-F，大日本油墨化学工业(株)制。
*粘合剂-A使用苯乙烯/丙烯酸共聚物(摩尔比＝56/44，重均分子量30,000)。
*DPHA液的组成如下所述。
·二季戊四醇六丙烯酸酯(含有抗禁止剂MEHQ 500ppm，商品名KAYARAD DPHA，日本化药(株)制)76份·丙二醇一甲醚乙酸酯 24份<黑矩阵(BM)的形成>
-感光性树脂转印材料的制作-在厚75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯临时支撑体(PET临时支撑体)上，使用狭缝状喷嘴，涂敷并干燥下述配方H1构成的热塑性树脂层用涂敷液，形成热塑性树脂层。接着，在该热塑性树脂层上进一步涂敷下述配方P1构成的中间层用涂敷液，使其干燥，层叠中间层。接着，在中间层上涂敷上述配制的BM用感光性涂敷液A1，使其干燥，进一步层叠黑色的感光性树脂层。
如上所述进行，在PET临时支撑体上设置干燥膜厚14.6μm的热塑性树脂层、干燥膜厚1.6μm的中间层和干燥膜厚1.2μm的感光性树脂层，在感光性树脂层的表面上压粘保护薄膜(厚12μm的聚丙烯薄膜)，制作构成为临时支撑体/热塑性树脂层/中间层/感光性树脂层/保护薄膜的层叠构造的感光性树脂转印材料。以下将其作为BM用感光性转印材料K1。
--热塑性树脂层用涂敷液的配方H1--·甲醇11.1份丙二醇一甲醚乙酸酯6.36份·甲基乙基甲酮52.4份·甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2-乙基己基酯/甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸共聚物5.83份(共聚合比(摩尔比)＝55/11.7/4.5/28.8，分子量＝9万，Tg70℃)·苯乙烯/丙烯酸共聚物 13.6份(共聚合比(摩尔比)＝63/37，重均分子量＝1万，Tg100℃)·2，2-双[4-(甲基丙烯酰基聚乙氧基)苯基]丙烷(新中村化学工业(株)制，在联苯酚A中脱水缩合2当量的五乙二醇一甲基丙烯酸酯的化合物) 9.1份·上述氟系表面活性剂1 0.54份--中间层用涂敷液的配方P1--·PVA205 32.2份((株)科洛雷(クレラ)制，皂化度＝88％，聚合度550；聚乙烯醇)·聚乙烯吡咯烷酮 14.9份(ISP日本(株)制，K-30)·蒸馏水 524份·甲醇429份-黑矩阵(BM)的形成-向无碱玻璃基板(以下称为单位“玻璃基板”)上，利用喷淋喷出已调温为25℃的玻璃清洗剂液20秒，同时用具有尼龙毛的旋转刷清洗，纯水喷淋清洗之后，利用喷淋喷出硅烷偶合剂液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量％水溶液；商品名KBM603，信越化学工业(株)制)20秒，纯水喷淋清洗。然后用基板预备加热装置，在100℃下加热该基板2分钟，送至下一个层合机。
在硅烷偶合处理后的玻璃基板上，剥离除去上述得到的BM用感光性转印材料K1的保护薄膜之后，使用层合机LamicII型[(株)日立工业(インダストリイズ)制]，以胶辊温度130℃、线压100N/cm、输送速度2.2m/份的条件层压，使其重合成除去保护薄膜后露出的感光性树脂层的表面与上述玻璃基板的表面接触。
接着，在与热塑性树脂层的界面剥离PET临时支撑体之后，除去临时支撑体。剥离临时支撑体之后，用具有超高压汞弧灯的近接式曝光机(日立高科技电子工程(株)制)，以基板与掩模(具有画面图形的石英曝光掩模)垂直立起的状态，设定掩模面与浓色感光层之间的距离为200μm，以曝光量70mJ/cm2进行图案曝光。
接着，使用用纯水稀释三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％，商品名T-PD2，富士写真フイルム(株)制)至12倍(以1质量份T-PD2与11质量份纯水的比例混合)的液体(30℃)，以平喷嘴压力为0.04MPa，对其进行50秒喷淋显影，除去热塑性树脂层和中间层。接着，向该基板上面喷出，甩去液体之后，利用喷淋喷出纯水10秒，进行纯水清洗，吹气，减少基板上的液体积存。
接着，使用碳酸Na系显影液(用纯水将含有0.38摩尔/升的碳酸氢钠、0.47摩尔/升的碳酸钠、5质量％的二丁基萘磺酸钠、阴离子表面活性剂、消泡剂及稳定剂；商品名T-CD1富士胶片(株)制稀释至5倍的液体(29℃))，以圆锥型喷嘴压力为0.15MPa，进行喷淋显影30秒，显影除去感光性树脂层，得到图案图像。
接着，使用用纯水将清洗剂(含有磷酸盐、硅酸盐、非离子表面活性剂、消泡剂及稳定剂；商品名T-SD1富士写真フイルム(株)制)稀释至10倍的液体(33℃)，以圆锥型喷嘴压力为0.02MPa，用喷淋喷出20秒，进而利用具有尼龙毛的旋转刷，擦拭图案图像，进行残渣除去，得到黑矩阵。进而，然后，对形成黑矩阵的基板，从两面，用超高压汞弧灯，以500mJ/cm2的曝光量，进行后曝光，然后以220℃热处理(烘焙)15分钟(黑矩阵基板)。
<滤色片的制作>
-着色感光性树脂组合物的配制-配制下述表2所示的组成构成的着色感光性树脂组合物R1、G1、及B1。


质量份-红(R)像素的形成-在形成上述黑矩阵(BM)的玻璃基板的BM形成面侧，用具有狭缝状喷嘴的玻璃基板用涂敷机MH-1600(FAS亚洲(エフ·エ一·エス·アジア)会社制)，涂敷上述得到的着色感光性树脂组合物R1，使其膜厚达到1.2μm。接着，在该感光性层上，使用狭缝状喷嘴，涂敷上述得到的中间层用涂敷液，使干燥膜厚成为1.5μm，作为保护层，在100℃下干燥5分钟，形成保护层，制作R像素用感光材料。
接着，用具有超高压汞弧灯的近接式曝光机(日立高科技电子工程公司制)，以掩模(具有画面图形的石英曝光掩模)与上述R像素用感光材料垂直立起的状态，设定掩模面与R像素用感光材料的感光层的接触保护层一侧的表面之间的距离为200μm，以曝光量70mJ/cm2进行全面曝光(曝光工序)。接着，使用5倍稀释显影处理液T-CD1(富士胶片(株)制；碱显影液)的产物(使用时的pH为10.2)，对曝光后的R像素用感光材料进行显影处理(33℃，20秒；显影工序)，在形成有黑矩阵(BM)的玻璃基板上形成R像素。
接着，利用基板预热装置，在220℃下加热形成有R像素的玻璃基板60分钟，然后在240℃下进一步加热，形成已进行烘焙处理(烘焙工序)、热处理的R像素。
-绿(G)像素的形成-在形成上述黑矩阵(BM)和R像素的玻璃基板的BM等形成面侧，使用上述得到的着色感光性树脂组合物G1，进行与上述R像素的形成相同的工序，形成已进行热处理的G像素。
-蓝(B)像素的形成-在形成上述黑矩阵(BM)、R像素和G像素的玻璃基板的BM等形成面侧，使用上述得到的着色感光性树脂组合物B1，进行与上述R像素的形成相同的工序，形成已进行热处理的B像素。
这样，制作滤色片(以下也称为“滤色片基板”。)。
此外，上述表2中记载的组合物R1中的各组成的具体情况如下所述。
*R颜料分散物1的组成·C.I.颜料红254(商品名伊洛格佛红(Irgaphor Red)B-CF，千叶特殊化学药品(チバ·スペシヤルテイ·ケミカルズ)(株)制)……8.0份·下述化合物1(分散剂)……0.8份·聚合物(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸(＝72/28[摩尔比])的无规共聚物，分子量3万)……8份·丙二醇一甲醚乙酸酯……83份[化1]
化合物1*R颜料分散物2的组成·C.I.颜料红177(商品名科洛没珀特路红(Cromophtal Red)A2B，千叶特殊化学药品(株)制)……18份·聚合物[甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸(＝72/28[摩尔比])的无规共聚物(重均分子量37,000)]……12份·丙二醇一甲醚乙酸酯……70份*粘合剂2的组成如下所述。
·聚合物(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯(＝38/25/37[摩尔比]的无规共聚物，分子量4万)……27份·丙二醇一甲醚乙酸酯……73份*DPHA液、表面活性剂1与BM用涂敷液中使用的相同。
此外，上述表1中记载的组合物G1中的各组成的具体情况如下所述。
*G颜料分散物1
商品名GT-2(富士胶片电子器件物质(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ)(株)制)*Y颜料分散物1商品名CFエロ一EX3393(御国色素(株)制)*粘合剂1的组成·聚合物(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸＝78/22摩尔比的无规共聚物，分子量3.8万)……27份·丙二醇一甲醚乙酸酯……73份此外，上述表1中记载的组合物B1中的各组成的具体情况如下所述。
*B颜料分散物1商品名CF蓝EX3357(御国色素(株)制)*B颜料分散物2商品名CF蓝EX3383(御国色素(株)制)*粘合剂3的组成·聚合物(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯(＝36/22/42[摩尔比])的无规共聚物(重均分子量38,000)……27份·丙二醇一甲醚乙酸酯……73份在上述得到的滤色片基板的R像素、G像素及B像素以及黑矩阵上，进一步利用溅射形成ITO(Indium Tin Oxide)的透明电极。
<光间隔材的形成>
-光间隔材形成用感光性转印材料的制作-在上述BM用感光性转印材料K1的制作中，除了将使用的上述BM用感光性涂敷液A1变更为由下述组成构成的光间隔材形成用树脂组合物以外，利用与上述同样的方法，制作光间隔材形成用感光性转印材料。感光性树脂层的干燥层厚为2.5μm。
--光间隔材形成用树脂组合物的组成--·1-甲氧基-2-丙基乙酸酯 452份·甲基乙基甲酮 327份·甲醇 0.035份·粘合剂-4 101份(甲基丙烯酸/甲基丙烯酸烯丙基酯共聚物(＝20/80[摩尔比])，重均分子量36000；高分子物质)·DPHA液 99份·2，4-双(三氯甲基)-6-[4’-(N，N-双乙氧基羰基甲基氨基)-3’-溴苯基]-s-三嗪 2.5份·氢醌一甲醚 0.039份·上述表面活性剂· 0.86份·消色剂 17份(商品名维多利亚纯蓝(ビクトリア ピユアブル一)BOH-M，保土ケ谷化学(株)制)-光间隔材的形成-剥离得到的光间隔材形成用感光性转印材料的保护(覆盖)薄膜，在上述制作的已溅射形成ITO膜的滤色片基板的ITO膜上，叠加露出的感光性树脂层的表面，使用层合机LamicII型[(株)日立工业制]，以线压100N/cm、130℃的加压·加热条件下，以输送速度2m/分钟，使其贴合。然后，在与热塑性树脂层的界面剥离除去PET 临时支撑体，将感光性树脂层与热塑性树脂层及中间层一起转印(层形成工序)。
接着，用具有超高压汞弧灯的近接式曝光机(日立高科技电子工程(株)制)，以掩模(具有画面图形的石英曝光掩模)与滤色片基板近似平行地垂直立起的状态，其中的滤色片基板配置成该掩模与热塑性树脂层面对面，设定掩模面与感光性树脂层接触中间层的一侧的表面之间的距离为40μm，借助掩模，从热塑性树脂层侧，以曝光量60mJ/cm2进行近接式曝光。接着，从缝隙喷嘴，以23℃、喷嘴压力0.04MPa，喷射KOH显影液(商品名CDK-1，富士胶片电子器件物质(株)制)80秒，进行喷淋显影，显影除去未曝光部，得到图案(间隔材图案)(形成图案工序)。
得到的间隔材图案，在黑矩阵与红(R)像素的层叠部上形成的ITO膜上形成，为直径16μm、平均高度2.0μm的透明柱状。
接着，在230℃下加热处理设有间隔材图案的滤色片基板30分钟(热处理工序)，制作光间隔材。
<液晶显示装置的制作>
另外，再准备玻璃基板作为对置基板，向上述得到的滤色片基板的透明电极上及对置基板上分别实施PVA模式用图案，在其上进一步设置聚酰亚胺构成的取向膜。
然后，在相当于周围被设置成包围滤色片的像素组的黑矩阵的外框的位置，利用分散器(dispenser)方式，涂敷紫外线固化树脂的密封剂，滴下PVA模式用液晶，使其与对置基板贴合后，向已贴合的基板进行UV照射，然后进行热处理，使密封剂固化。在这样得到的液晶单元的两面上，贴上(株)山立磁(サンリツチ)制的偏振片HLC2-2518。接着，使用FR1112H(斯坦利(スタンレ一)电气(株)制的片(chip)型LED)作为红色(R)LED、使用DG1112H(斯坦利电气(株)制的片型LED)作为绿色(G)LED、使用DB1112H(斯坦利电气(株)制的片型LED)作为蓝色(B)LED，构成侧灯(side light)方式的背光灯(back light)，在设有上述偏振片的液晶单元的成为背面的一侧配置，作为液晶显示装置。
(实施例2～4)在实施例1中，将黑矩阵(BM)用感光性涂敷液(分散液A1)变更为上述表1中记载的黑矩阵(BM)用感光性涂敷液A2(实施例2)、A3(实施例3)，除此以外，用与实施例1同样的方法制作黑矩阵基板、滤色片、液晶显示装置。
(实施例3)在实施例1中，将含银锡合金部的颗粒的分散液A1(分散液A1)变更为下述银微粒分散液B1(分散液B1)，进而使用BM用感光性涂敷液A4，除此以外，与实施例1同样地制作黑矩阵基板、滤色片、液晶显示装置。
<银微粒分散液B1的配制>
混合平均纵横(aspect)比2.2的银微粒73.5g、分散剂(商品名ソルスパ一ス20000，ア ビシア(株)制)1.05g和甲基乙基甲酮16.4g。使用超声波分散机(商品名Ultrasonic generator model US-6000 ccvp，nissei公司制)，将其分散，得到圆相当直径100mn的银微粒的分散液。接着，利用下述操作(B)使银微粒分散。
-操作(B)-对得到的银微粒的分散液进行离心分离处理(10,000rpm，20分钟)，去上清液，进行适当浓缩。重复进行该操作3次，除去水相的可溶性物质，得到银微粒分散液B1(分散液B1)。
<BM用感光性涂敷液A4的配制>
混合下述组成，配制BM用感光性涂敷液A4。
·上述银微粒分散液B1……60.00份·丙二醇一甲醚乙酸酯……28.6份·甲基乙基甲酮……37.6份·上述表面活性剂1……0.2份·氢醌一甲醚……0.001份·甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸共聚物……2.1份(摩尔比＝73/27，分子量30,000)·二季戊四醇六丙烯酸酯(KAYARAD DPHA，日本化药公司制)·双[4-[N-[4-(4，6-双三氯甲基-s-三嗪-2-酰基)苯基]氨基甲酰]苯基]癸二酸酯……0.1份在此，二季戊四醇六丙烯酸酯的添加量，在涂敷液中的甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸共聚物的量为1时，质量比率为0.9的量，进而上述银微粒的体积分率为0.13的量。
(实施例5)在实施例1中，将BM用感光性涂敷液A1变更为如下所述配制的BM用感光性涂敷液A5，除此以外，与实施例1同样地制作黑矩阵基板、滤色片、液晶显示装置。
<炭黑分散液的配制>
用马达磨机(モ一タ一ミル)M50(爱格公司制)，使用直径0.65mm的氧化锆珠，制作下述配方的炭黑分散液。
·正丙醇 69份·甲基丙烯酸/甲基丙烯酸烯丙基酯共聚物(共聚合比＝20∶80)10份·ソルスパ一ス20000(ゼネカ(株)) 1份·炭黑(碳黑MA100，三菱化学(株)) 20份<银颗粒分散液的配制>
-银颗粒的制作-向112g明胶中添加3488g蒸馏水，将得到的混合物加热至约47℃，溶解明胶。向其中添加醋酸钙4.0g及硼化氢钾2.0g。然后立即边快速搅拌边添加在1.0L蒸馏水中溶解的硝酸银6.0g。进一步添加蒸馏水，将最终质量调整为5.0kg。接着，将生成物冷却至接近凝胶化温度，使其通过小孔，向冷却的水中挤出，这样制作非常微细的条(noodle)。为了现场产生蓝色银，向这些条供给放大催化剂。为了方便而且防止条形成熔融块，使用水稀释条，成为水1对条3。
向650g硼化氢还原银核，添加溶解于81g蒸馏水的6.5g一磺酸氢醌钾及0.29gKCl。将上述条浆(slurry)冷却至6℃。
另外，在不同的容器中，配制以下2种溶液(A)及(B)。
(A)……亚硫酸钠(无水)19.5g、亚硫酸氢钠(无水)0.98g、蒸馏水122.0g(B)……硝酸银9.75g、蒸馏水溶液122.0g混合上述溶液(A)及(B)，持续搅拌，使其形成白色沉淀。接着，立即在短时间内(5分钟以内)急速地搅拌该混合物，同时添加至上述条浆中。温度维持在10℃，然后进行约80分钟放大，直至全部可溶性银盐在核上被还原。在尼龙网背面中，借助浆，使得到的蓝色浆颗粒通过自来水，然后清洗水通过背面进行清洗约30分钟，所以使所有的盐冲洗掉。在凝胶浆中使其分散，为了在已清洗的蓝色银熔融的情况下，得到具有1.5质量％的浓度的银的蓝色银分散体，进行甩湿气，直至产生物的质量成为412g。利用透射电子显微镜照片进行测定，显示该银由粒径80nm的颗粒组成。
-银颗粒分散液的配制-向如上所述得到的银分散浆4000g中，添加6g分散剂(日本油脂(株)制的“ラピゾ一ルB-90”)和2000g番木瓜蛋白酶5％水溶液，在温度37℃下彼此24小时。以2000rpm离心分离该液体5分钟，使银颗粒沉淀。去上清液，然后用蒸馏水清洗，除去酶分解的明胶分解物。接着，用甲醇清洗该银颗粒沉淀物，使其干燥。可以得到约60g的银微粒的凝聚物。混合53g该凝聚物和5g分散剂(アビシア(株)制的“ソルスパ一ス 20000”)、22g甲基乙基甲酮。向其中混合100g的2mmΦ玻璃珠，用涂料摇动器(paint shaker)分散3小时，得到目的银颗粒分散液。
向上述得到的银颗粒分散液中添加混合下述添加剂，得到含银颗粒的涂敷液A1。
·上述银颗粒分散液 40.0g·丙二醇一甲醚乙酸酯 40.0g·甲基乙基甲酮 37.6g·上述表面活性剂1(F-780-F) 0.1份·氢醌一甲醚 0.001份·二季戊四醇六丙烯酸酯 2.1g·双[4-[N-[4-(4，6-双三氯甲基-s-三嗪-2-酰基)苯基]氨基甲酰]苯基]癸二酸酯 0.1g<BM用感光性涂敷液A5的配制>
添加混合上述得到的炭黑分散液和上述得到的含银颗粒涂敷液A1，配制BM用感光性涂敷液A5。配制BM用感光性涂敷液A5时，炭黑/银颗粒的混合比为2.64。
(实施例6)在实施例5中的BM用感光性涂敷液A5中，使用配制成炭黑/银颗粒的混合比为1.40的BM用感光性涂敷液A6，除此以外，与实施例5同样地制作黑矩阵基板、滤色片、液晶显示装置。
(实施例7)
在实施例1中，将BM用感光性转印材料K1变更为下述BM用感光性转印材料K2，除此以外，与实施例1同样地制作黑矩阵基板、滤色片、液晶显示装置。
-BM用感光性转印材料K2-在厚75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴，涂敷由上述配方H1构成的热塑性树脂层用涂敷液，使干燥厚成为5μm，在100℃下使其干燥3分钟。
接着，在上述制作的热塑性树脂层上，用狭缝涂敷机涂敷上述配方P构成的中间层用涂敷液，使干燥厚成为1.5μm，在100℃下使其干燥3分钟。
进而，使用狭缝涂敷机，在上述制作的中间层上涂敷由下述配方A7得到的内部含有金属微粒的光反射层用涂敷液，使光学浓度成为3.4，进而，在其上，使用狭缝涂敷机，涂敷由下述配方A8得到的光吸收层用涂敷液，使光学浓度成为0.6，在100℃下使其干燥3分钟。
这样，在临时支撑体上制作热塑性树脂层、中间层(阻氧膜)、光反射层和光吸收层成为一体的薄膜，在其上压粘保护薄膜(厚12μm的聚丙烯薄膜)，成为BM用感光性转印材料K2。
(光反射层用涂敷液配方A7)·A液* 10份·二季戊四醇六丙烯酸酯(KAYARAD DPHA(日本化药公司制)，76％丙二醇一甲醚乙酸酯溶液)0.19份·双[4-[N-[4-(4，6-双三氯甲基-s-三嗪-2-酰基)苯基]氨基甲酰]苯基]癸二酸酯(0.2％甲苯稀释溶液)0.1份·上述表面活性剂1 0.14份·甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸(摩尔比＝60/40，数均分子量35000，25％MEK稀释溶液) 0.4份*A液是在热还原硬脂酸银得到的含银颗粒浓度30％的银颗粒的庚烷分散物(平均粒径30nm，分布5nm～50nm，大研化学工业株式会社制NAG-09)中，加入4倍量甲苯，搅拌30分钟得到的液体。相对此时的光反射层涂敷液的配方A7的固体成分，金属银所占的体积(率)为60％。
(光吸收层用涂敷液配方A8)·甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸共聚物(摩尔比＝73/27，粘度＝0.12，重均分子量38000) 37.9份·二季戊四醇六丙烯酸酯29.1份·双[4-[N-[4-(4，6-双三氯甲基-s-三嗪-2-酰基)苯基]氨基甲酰]苯基]癸二酸酯1.7份·炭黑(黑色，NIPX35，デグサ公司制)30.1份·甲基纤维素醋酸酯560份·甲基乙基甲酮280份(比较例1～3)在实施例1中，将BM用感光性涂敷液A1变更为下述表3中记载的黑矩阵(BM)用感光性涂敷液K1～K3，除此以外，与实施例1同样地制作黑矩阵基板、滤色片，制作液晶显示装置。


单位质量份*炭黑分散液·炭黑(NIPX35，デグツサ公司制)……13.1份·上述化合物1(分散剂)……0.80份·聚合物[甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸(＝72/28[摩尔比])的无规共聚物，分子量37,000]……6.72份
·丙二醇一甲醚乙酸酯……79.38份(比较例4)在实施例1中，使用BM用感光性涂敷液A1，利用与实施例1的RGB像素的形成方法同样的涂敷法形成黑矩阵，除此以外，与实施例1相同地制作黑矩阵基板、滤色片、液晶显示装置。
(光学浓度)用下述方法测定烘焙后的黑矩阵的光学浓度。
使用分光光度计UV-2100[(株)岛津制作所制]，以波长555nm测定黑矩阵基板的透过光学浓度(OD)，同时以同样的方法测定各黑矩阵基板中使用的玻璃基板的透过光学浓度(OD°)。接着，将从OD减去OD°的值(透过OD；＝OD-OD°)作为透过光学浓度。
(膜厚)使用接触式表面粗糙度测量仪P-10(TENCOR公司制)，测定烘焙后的黑矩阵的膜厚。
(黑矩阵的高度均一性)使用接触式表面粗糙度测量仪(商品名P-10，TENCOR公司制)，测定烘焙后的黑矩阵的膜厚，算出100个测定点的标准差σ，以以下标准评价。
(评价标准)A标准差σ不到0.15B标准差σ在0.15以上不到0.2C标准差σ在0.2以上(间隔材的高度均一性)将从形成有Ito的滤色片基板面至间隔材的最高处的高度作为层膜厚，使用接触式表面粗糙计(商品名P-10、TENCOR公司制)，测定膜厚，算出100测定点的标准差σ，以以下标准评价。
(评价标准)A标准差σ不到0.15B标准差σ在0.15以上不到0.2
C标准差σ在0.2以上不到0.25D标准差σ在0.25以上(显示不均)分别对在上述得到的液晶显示装置，目视观察输入灰色(gray)的试验信号时的灰显示，按照下述评价标准评价有无发生显示不均。
(评价标准)A完全未见显示不均。
B很少可见显示不均。
C少量可见显示不均。
D显示不均显著可见。


从表4可知，实施例可以得到为薄膜且高精密的高浓度黑矩阵，而且，间隔材的高度均一性也良好，所以受到间隔材、BM和着色像素的影响的显示不均良好。
另一方面，比较例中的BM非常厚，受到间隔材、BM和着色像素的影响的显示不均极差。
本发明提供一种使用没有表面粗糙等缺陷、精密度良好的黑矩阵的可以高对比度而且低成本制作的滤色片及其制造方法。
另外，本发明还提供一种单元间距一定而且可以高对比度得到的液晶显示装置。
利用本发明，可以制作即使为高浓度的黑矩阵也没有针孔等缺陷、精密度良好的黑矩阵，可以以低成本提供没有在后工序中形成的着色像素的厚度不均等引起的显示不均的滤色片，和利用在该黑矩阵上形成的光间隔材保持一定的单元间距成为可能、进而对比度高的液晶显示质量良好的液晶显示装置。
权利要求
1.一种滤色片的制造方法，其是在基板上具有黑矩阵、和在由该黑矩阵分离的区域形成的具有R、G、B中的至少一色的着色像素的滤色片的制造方法，其特征在于，包括使用在临时支撑体上具有遮蔽用转印层的转印材料，该遮蔽用转印层含有树脂及其前体的至少一种和金属颗粒或含金属的颗粒，将转印材料转印到基板上，形成黑矩阵的工序；涂敷而形成具有R、G、B中的至少一色的着色像素的工序；使用光间隔材用光固化性树脂组合物，在该黑矩阵上形成光间隔材的工序。
2.根据权利要求1所述的滤色片的制造方法，其特征在于，所述涂敷利用狭缝涂敷机进行。
3.根据权利要求1所述的滤色片的制造方法，其特征在于，形成所述光间隔材的工序是使用在临时支撑体上具有光间隔材用光固化性树脂组合物层的转印材料来形成的工序。
4.根据权利要求1所述的滤色片的制造方法，其特征在于，所述遮蔽用转印层中含有的金属颗粒或含金属的颗粒中的至少一种为具有银锡合金部的颗粒。
5.根据权利要求1所述的滤色片的制造方法，其特征在于，所述遮蔽用转印层还含有颜料。
6.根据权利要求1所述的滤色片的制造方法，其特征在于，所述遮蔽用转印层为单层。
7.根据权利要求1所述的滤色片的制造方法，其特征在于，所述遮蔽用转印层至少由2层树脂层构成，该树脂层中的至少一层为光反射层，该树脂层中的至少一层为光吸收层。
8.一种滤色片，其特征在于，利用权利要求1所述的滤色片的制造方法制作。
9.一种液晶显示装置，其特征在于，具有权利要求8所述的滤色片。
全文摘要
本发明提供一种滤色片的制造方法，其是在基板上具有黑矩阵和在由该黑矩阵分离的区域形成的具有R、G、B中的至少一色的着色像素的滤色片的制造方法，其中，包括使用在临时支撑体上具有遮蔽用转印层的转印材料，形成黑矩阵的工序；涂敷并形成着色像素的工序；在该黑矩阵上形成光间隔材的工序。
文档编号G03F7/00GK101071184SQ20071010280
公开日2007年11月14日 申请日期2007年4月29日 优先权日2006年5月9日
发明者大谷薰明 申请人:富士胶片株式会社