显示基片、显示器、滤色器基片、液晶显示器及制造方法

专利名称：显示基片、显示器、滤色器基片、液晶显示器及制造方法
技术领域：
本发明涉及一种显示用基片、具有该显示用基片的显示装置、 滤色器基片、具有该滤色器基片的液晶显示器及其制造方法。具体 地-说，涉及一种改善了画质的显示器基片、具有该显示器基片的显 示器，改善了视角的滤色器基片、具有该滤色器基片的液晶显示器、 显示器用基片的制造方法、显示器制造方法、滤色器基片的制造方 法、及具有该滤色器基片的液晶显示器制造方法。
背景技术：
平板显示器中代表液晶显示器是利用液晶分子的电容率各向 异性和折射率各向异性，并且利用根据电场强度的光偏光特性变化 的显示器。
这种液晶显示器依赖液晶分子的各向异性，该装置因为根据视 角光经过的液晶分子各向异性特性有差异，所以观看的位置不同出
现画质的变化。通常，视角具有能得到对比比为10:1的图像的角度。 只于比比在画面中显示亮处和暗处的亮度差异。上述7于比比在液晶显 示器体现较黑状态或具有较均匀灰度时变大。
为了体现较黑状态，减少光泄漏现象，并采用普通黑色才莫式， 而且减少黑阵表面的光反射。上述普通黑色(Normally Black)模 式当不施加电场时显示黑色。为了具有较均匀灰度，液晶显示器采 用补偿薄月莫，并包括具有众多区域的液晶层。
为了解决画质变化问题正在开发最适合光经过的液晶分子光 学特性的液晶分子、具有众多区域的液晶显示面4反、补偿薄膜等。
例如，4安照'液晶分子才莫式开发的VA(垂直取向，Vertical Alignment )、 IPS (面内切才奂，In-Plane Switching )等是目前开发的 代表之一。众多区域是一种施加电压时使一个像素液晶根据区域向 不同方向移动(旋转)，并使整个光经过的液晶分子各向异性特性 变化与视角无关变得最小的技术。
另外，移动显示产品为了不4又在室内而且在室外也才是供良好的 画质，4吏用有反射区域和透射区域组成的显示装置(下面称为"半 透射显示器)。通常，反射区域和透射区域^^艮据光途径差异具有不 同厚度液晶层。这种移动显示产品最近也基于视角要求，开发了垂 直取向或众多区域j支术的应用。
半透射显示器在偏光4反和液晶之间分别4吏用相位差板，因此通 过偏光板的光根据相位差圓形偏光。
半透射显示器液晶层的光透射度液晶层的倾斜为重要的因素， 所以i人为可以无摩纟察过程形成，-f旦若省略摩4察工序时，在透射区域由失去方向性的液晶分子导致画质下降等。具体地-说，反射区域浮 雕图案和反射区i或和透射区域层差形成地形学的液晶倾杀牛，然而， 宽的透射区域为了液晶具有整体方向性若不进行摩擦工序，由失去 方向性的液晶分子导致画质下降的问题。
独立摩4察工序增加生产成本，并且可能导致纵向斑点等不良。

发明内容
本发明的第一目的是提供一种将垂直取向或众多区域技术适 用于半透射显示器，提高画质的显示装置用基片。
本发明的第二目的是提供一种具有上述显示器用基片的显示器。
本发明第三目的是提供 一种用于制造显示器用基片的方法。
本发明第四目的是提供一种用于制造显示器的方法。
本发明的第五目的是提供一种提高了视角及画质的滤色器基片。
本发明第六目的提供一种是具有上述滤色器基片的液晶显示器。
本发明第七目的是提供一种用于制造滤色器基片的方法。 本发明第八目的是提供 一 种用于制造液晶显示器的方法。 实现本发明第 一 目的的根据本发明第 一 实施例的显示器用基
片包括板极(Plate )、开关元件、绝缘层、以及隔壁。由反射外部 光的反射区域及与反射区域相邻的透射区域限定板极)。开关元件置于基片上。绝缘层置于具有开关元件的基片上，并露出部分开关 元件的第 一 电才及，对应透射区域的部分滞后于对应反射区域的部 分。隔壁分割透射区域。
透射区域通过隔壁可以分割为均等或非均等。根据不同情况， 通过隔壁可以完全不分割透射区域。隔壁是乂人透射区域一部分沿着 透射区域表面延伸的结构，其具有一定倾斜度。在不施加地形
(topographically )电压的状态下通过隔壁、透射区域和反射区域边 界液晶具有倾杀牛度和方向性，并可以耳又向。
透射区域可以具有圓形、多角形、椭圓形。椭圆形包括四角形、 六角形、〃\角形讶犬。
具有上述结构的显示器才艮据〗象素电极的形成位置大致分为两 种。 一种是像素电极形成在隔壁上部的结构，另外一种是像素电极 形成在隔壁下部。
另夕卜，反射区域形成了浮雕图案的结构。浮雕图案具有均匀或 非均匀状，并具有度数或无度数的凹凸结构。根据浮雕图案在不施 加地形电压下液晶也具有浮雕图案，并耳又向。显示器半透射型液晶 显示器。
实现本发明第 一 目的的根据本发明第 一 实施例的显示器用基 片包括板极、开关元件、第一像素电极部、绝缘层、第二像素电极 部、以及隔壁。开关元件形成于基片上。第一像素电极部形成于形 成开关元件的基片上。绝缘层形成于形成开关元件及第一像素电极 部的基片上，并露出开关元件第一电极一部分。第二像素电极部形 成于绝缘层上，并与开关元件第 一 电极及第 一像素电极部电连接。 隔壁置于第 一像素电极上，并分割被露出的第 一像素电极部限定的 区域。
实现本发明第 一 目的的根据本发明另 一 实施例的显示器用基 片包括板极、开关元件、绝缘层、隔壁、以及像素电极。开关元件
形成于基片上。板极(Plate)由反射外部光的反射区域及与反射区 相邻的透射区域被限定。开关元件形成于基片上。绝缘层形成于形 成开关元件的基片上，并露出开关元件第一电极一部分，对应透射 区域的部分滞后于对应反射区域部分。隔壁形成于形成开关元件的 基片上并分割透射区域。像素电极与开关元件第一电极电连接，其 形成于绝纟彖层上。
实现本发明第二目的的根据本发明 一 实施例的显示器包括下 部基片及上部基片。下部基片包括限定了反射外部光的反射区域及 与反射区域相邻的透射区域的第 一板极、置于第 一板极上的开关元 件、置于具有开关元件的第一4反才及上并露出开关元件第一电才及一部 分，而且对应透射区域的部分滞后于对应反射区域的部分的绝缘 层、分隔透射区域的隔壁。上部基片具有第二^反极和置于第二4反极 上并具有对应分割区域的一个以上图案的共同电才及。
图案可能是缩小透射区域的形状或圆形、椭圓形、多角形。图 案在对应透射区域的基片的^f象素电才及形成一个以上，其才艮据情况可 以在与透射区域或分割的透射区域中央对应的位置。图案是全部或 部分除去基片共同电才及的结构。
或者，替 共同电4及图案在图案位置可以具有形成绝^彖层凸起 的结构。
在通过图案或凸起施加电压的状态下液晶向一定方向移动(旋转)。
实现本发明第二目的的根据本发明另 一 实施例的显示器包括 下部基片及上部基片。下部基片包括第一板极、形成于第一板4及上的开关元件、形成于形成开关元件的第 一板极上的第 一像素电极 部、形成于形成开关元件及第 一<象素电才及部的第 一柘j及上并露出开 关元件第一电极部一部分的绝缘层、形成于绝缘层上并与开关元件 第 一 电极及第 一像素电极部电连接的第二像素电极部、置于第 一像 素电极部上并分割由露出的第 一像素电极部限定的隔壁。上部基片 包括第二板极、置于第二板极上并具有对应由隔壁分割的区域的图 案的共同电极。上部基片与下部基片面对设置。
实现本发明第二目的的根据本发明另 一 实施例的显示器包括 下部基片及上部基片。下部基片包括限定了反射外部光的反射区域 及与反射区域相邻的透射区域的第 一板极、形成于第 一板极上的开
关元件、形成于形成开关元件的第一板;f及上并露出开关元件第一电 才及一部分，而且对应透射区域的部分滞后于对应反射区域的部分的 绝缘层、分隔透射区域的隔壁、与开关元件第一电极电连接并形成 于绝缘层上的像素电4及。上部基片包括第二板极、置于第二板极上 并具有对应由隔壁分割的区域的图案的共同电才及。上部基片与下部 基片面对设置。
为了形成第三目的的根据本发明一实施例的显示器用基片，首 先，在基片上形成开关元件。接着，在形成开关元件的基片上形成 第一像素电极部。接着，在形成开关元件及第一像素电极部的基片 上形成露出开关元件第一电才及一部分的绝纟彖层。然后，形成分割由 露出的第一像素电极部限定的区域的隔壁。最后，在绝缘层上形成 与开关元件第 一 电极及第 一像素电极部电连接的第二像素电极部。
为了形成第三目的的根据本发明另一实施例的显示器用基片，
域的基片上形成开关元件。*接着，在形成开关元件的基片上形成露 出开关元件第一电才及一部分并对应透射区域的部分滞后于对应反 射区域部分的绝缘层。接着，在透射区域内形成分割透射区域的隔 壁。最后，在绝缘层上形成与开关元件第一电极电连接的像素电极。
为了制造实现本发明第四目的的根据本发明 一 实施例的显示 器，首先，在限定了反射外部光的反射区域及与反射区域相邻的透 射区域的第一板极上形成开关元件。接着，在形成开关元件的第一 板极上形成露出开关元件第一电极一部分并对应透射区域的部分 滞后于对应反射区域部分的绝^彖层。*接着，在透射区域内形成分割 透射区域的隔壁。最后，在第二拓j及上形成具有对应分割区域的一 个以上图案的共同电才及。
实现本发明第五目的的才艮据本发明一实施例的滤色器基片包 括透明基片、滤色器、以及共同电极。透明基片包括显示区域及包 围显示区域的周边区域。滤色器置于透明基片上的显示区域内，其 包括众多区域用槽。共同电极置于周边区域、滤色器及众多区域用 槽内面上，通过施加的电压产生的电场通过众多区域用槽^皮失真。
实现本发明第六目的的才艮据本发明一实施例的液晶显示器包 括第二板极、滤色器、共同电极、第一板极、像素电极及液晶层。 第二板极包括显示区域及包围显示区域的周边区域。滤色器置于第 二^反极上的显示区域内，其包括众多区域用槽。共同电才及置于周边 区域、滤色器及众多区域用槽内面上。通过施加的电压产生的电场 通过众多区域用槽被失真。第一板极包括对应显示区域的像素区域 及置于像素区域内的开关元件。像素电极置于第 一板极上的像素区 域内，其与开关元件电连接。液晶层置于像素电极和共同电极之间。
为了制造实现本发明第七目的的根据本发明一实施例的滤色 器基片，首先，在限定了显示区域及包围显示区域的周边区域的透 明基片上涂布具有失见定颜色的有才几物。^接着，除去涂布的有才几物一 部分，形成置于显示区域内并包括众多区域用槽的滤色器。然后，
在整个形成滤色器的透明基片表面沉积透明绝缘物质，形成通过施 加的电压产生的电场通过众多区域用槽被失真的共同电极。
为了制造实现本发明第八目的的才艮据本发明一实施例的液晶 显示器，首先，在限定了显示区域及包围显示区域的周边区域的第 二板极上涂布具有规定颜色的有机物。接着，除去涂布的有机物一 部分，形成置于显示区域内并包括众多区域用槽的滤色器。然后，
在整个形成滤色器的第二拓j及表面沉积透明绝^4勿质，形成通过施 加的电压产生的电场通过众多区域用槽被失真的共同电极。接着， 在限定对应显示区域的像素区域并面对第二板极的第 一板极的像 素区域内形成开关元件及与开关元件电连接的像素电极。最后，在 像素电极和共同电极之间填充液晶层。
因此，'液晶显示器具有形成垂直取向及众多区i或不^f又改善画 质，还根据情况可以省略摩擦工序的优点。垂直取向可以不平行于 基片而一定角度倾斜。而且，在液晶层内形成众多区域，以提高液 晶层的视角。进一步简化了制造工序，减少制造成本。


本发明的优点和特4正通过附图的详细i兌明变得显而易见。
图1A是根据本发明透射区域分别分割成两个部分的显示器下
部基片布置图1B是#4居本发明透射区域分别分割成四部分的显示器下部 基片布置图2A是图1A沿着I-I'线的截面图2B是图1B沿着n-n'线的截面图3A、 3B、 3C示出4姿照工序的图2A形成方法；
图4A、 4B、 4C示出根据本发明在上部基片共同电极形成的共 同电极图案；
图5A是图4A沿着III-in'线的截面图5B是图4B沿着IV-IV'线的截面图5C是图4C沿着V-V'线的截面图6是根据本发明实施例的液晶显示器平面图7是图6沿着VI-VI'线的截面图8是图6沿着VII-Vir线的截面图9A至图9K是制造图6示出的液晶显示器的方法截面图IO是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图11是图10第一像素电极部及第二像素电极部平面图12是图io沿着vni-vnr线的截面图;
图13是图IO沿着IX-IX'线的截面图14A至图14J是制造图IO液晶显示器的方法截面图15是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图16是图15沿着X-X'线的截面图17是才艮据本发明另一实施例的液晶显示器平面图18是图17第一像素电才及部及第二^f象素电极部平面图19是图17沿着XI-XI'线的截面图20是4艮据本发明另一实施例的液晶显示器平面图2i是图20沿着xn-xn'线的截面图22是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图；以及 图23是图22沿着XIII-Xin'线的截面图。
具体实施例方式
为了4吏本领i或:技术人员能够实施本发明，现参照附图详细i兌明 本发明的实施例，^f旦是本发明可表现为不同形式，它不局限于在此 i兌明的实施例。
在图中为了明确表现各层及区域，扩大其厚度来表示，在全篇 说明书中对类似部分附上相同图的符号，当提到层、膜、区域、基 片等部分在别的部分"之上"时，它是指"直接"位于别的部分之 上，也包括其间夹有别的部分之情况，反之说某个部分"直接"位 于别的部分之上时，指其间并无别的部分。i兌明书全文中用相同的 附图标号表示相同的部件。
图1A是4艮据本发明透射区域分别分割成两部分的显示器下部 基片布置图，而图1B是才艮据本发明透射区域分别分割成四部分的 显示器下部基片布置图。
图1A、图IB示出在显示器中形成开关元件215及与开关元件 电连接的栅极线203'、数据线211'、像素区域Px的下部基片的布 置。所述开关元件215由4册才及202、第一及第二电极211、 213组成， 所述4象素区域Px由反射区域Ra和透射区域Ta组成。图1A、图1B 示出将透射区域Ta分别均匀分割成两个部分Ta'、四个部分，但是 可以不均匀分割。在反射区域Ra形成浮雕图案。
驱动电路(未示出)输出选择信号，其通过栅极线203，传输栅 极203，而且输出数据电压，通过数据线211'及开关元件215传输
z像素电才及。
另外，在下部基片上部具有形成滤色器、共同电极等的上部基 片、及在下部基片和上部基片之间的液晶层，以制造显示器。此时， 所述上部基片的共同电才及包括图案。液晶层的液晶分子是VA或 RTN (反向TN )耳又向。
图1B是才艮据本发明透射区域分别分割成四部分的显示器下部 基片布置图，图2A是图1A沿着I-I'线的界面图。
参照图2A, <象素电4及第一<象素电4及部219在隔壁223下部形成。
在第一才及片201上形成开关元件215及第"H象素电4及部219， 其上部形成隔壁223、具有透射区^^的绝纟彖层221及第二〗象素电^L 部225。第一像素电极部219置于透射区域Ta内，第二像素电极部 225置于反射区域Ra内。
具体而言，包括第一纟反一及201、形成于第一4反才及201上的开关 元件215、形成于第一并反才及201并在形成开关元件215的区域之外 区域形成的第一4象素电才及部219、在第一^反才及201及开关元件215、 第一^f象素电才及部219上并露出开关元件215的第一电4及213—部分，且露出第一像素电极部219 —部分但在第一像素电极部219上形成 隔壁223的绝纟彖层221、在绝纟彖层221上与开关元件215第一电^L 213及第一^f象素电才及部219电连4妄的第二^f象素电才及部225。
透射区域是圆形、多角形、椭圆形。多角形包括四角形或六角 形、八角形状。
第一像素电极部219及第二像素电极部225单一层或复合层结 构。4艮据情况，在开关元件上的开关元件215和绝缘层221之间填 充钝化层217。另外，第一像素电极部219可能是透明电极，其由 ITO、 IZO组成。第二像素电极部225是不透明电极，其由铝、铝 合金或铝和金属复合层组成。而且，第一像素电极部219和第二像 素电极部225电连接的区域中在两电极之间填充钼钨等合金层。
隔壁223与绝》彖层221是相同物质。
参照图2B，在隔壁223上形成像素电极的第 一像素电极部219。
具体而言，图2B结构除了在绝全彖层221上形成第一^f象素电相^ 部219，在反射区域的第一像素电极部219上形成第二线像素电极 225之外，与图2A结构相同。只是，因为在绝缘层221上形成第 一l象素电才及部219,所以在透射区i或隔壁223上部形成第一^象素电 极部219。
具有与图2A及图2B相同结构的显示器在不施加地形 (topographically )电压的状态下通过隔壁223及反射区域和透射区 域边界层差，液晶具有倾斜度并取向，以得到良好的画质，根据情 况可以省略摩擦工序，因此可以改善摩擦工序引起的不良，降低生 产成本。
图3A至3D示出4姿照工序的图2A形成方法。
参照图3A，在第一板极202上形成开关元件215之后，在第 一板极201上形成并在形成开关元件215的区域之外的区域形成第 一i象素电才及部219。然后，在第一外反才及201、开关元件215及第一 ^f象素电才及部219上形成绝纟彖层221。
第一板极201是玻璃或水晶等具有透射性的绝缘体板极。开关 元件215是薄膜晶体管，其在第一板极201上由栅极203、栅极绝 缘层205、通道层207、源才及/漏极的第一及第二电才及211、 213组成。 才册才及203或第一及第二电才及211、 213由铝或铝合金、或铝和金属 的复合层组成，通常用溅射等方法形成。栅极绝缘层205是氮化硅 或氧化层等绝缘层，通道层207由硅层等半导体层组成，分别可以 用化学汽相淀积法(CVD)形成。
具体而言，在第 一寺反极201上形成4册4及203及4册4及线203，之后， 在栅极203及第一板极上形成栅极绝缘层205。然后，在栅极绝缘 层205上形成半导体层及电阻连接层之后，制作布线图案，以在形 成栅极203的区域及其周边区域形成半导体图案及电阻连接图案。 在电阻连4妄图案上形成金属层之后，在形成棚-才及203的区域及其周 边区域形成，并制作布线图案4吏其在4册才及203上部形成层差，以形 成第一及第二电极211、 213及数据线211'。
将制作布线图案的第一及第二电极211、 213作为掩模蚀刻电 阻连4妄图案，〗吏形成层差，形成通道层207，以形成开关元件215。 (另外还可以，依次形成半导体层及电阻连4妄层、金属层之后，同 时进4亍制作布线图案形成第一及第二电才及211、 213，形成电阻连4妄 图案的层差，以形成开关元件215。 ) 4艮据情况，在开关元件215上 形成钝化层217。钝化层217是氮化硅等绝缘层。
绝纟彖层221在4屯化层217上形成。例如，是用有冲几绝纟彖层形成 电容率低而厚、平坦的绝纟彖层。
参照图3B，在所述图3A绝缘层221准备形成图案的曝光装置 的光4册300，通过光学蚀刻，露出开关元件215的第二部分213 — 部分，并露出第一像素电极部219—部分，形成绝缘层221,使隔 壁置于第一像素电极部219上。
本实施例中，有才几绝缘层包括光致抗蚀剂。通过包括曝光工序 及显像工序的光学蚀刻工序形成除去特定区域绝缘层221的方法。 此时，有才几层221可以通过光学蚀刻工序形成。
照射光的光致抗蚀剂化学成分带来与未照射光的光致抗蚀剂 化学成分不同变化，所以通过曝光工序可以选择性地除去。光4册300 在透明部4牛301上形成不透明部件302,例如才艮据图案形态形成4各 等，以完成制作。
图中示出了 ，在光冲册300形成具有不透明部件302的区i或和未 具有不透明部4牛的区i或，通过具有不透明部<牛的区i或除去绝纟彖层 221 —部分，但根据光致抗蚀剂特征，可以交换具有不透明部件302 的区i或和不具有不透明区i或的的区i或。
在使用于曝光工序的光栅300进一步形成要形成隔壁223的图 案，以形成滞后的透射区i或的同时形成隔壁223。形成隔壁223的 图案是单一图案或狭缝图案。当利用单一图案或狭缝图案形成隔壁 时，隔壁223高度与反射区域相同或小于反射区域。特别是，当使 用追加狭缝图案的光栅300时，由光回折现象形成比反射区域低的 倾杀牛隔壁223。
而且，在形成反射区域的绝缘层221上形成形成浮雕图案的图 案。图案也通过光学蚀刻工序形成。显^象后通过热处理过程形成浮 雕图案。
参照图3C,在绝纟彖层221上的反射区域形成不透明电才及的第 二^f象素电4及部225,并与第一l象素电才及部219及第二电才及213电连接。
如上所述，除去透射区域绝缘层221—部分或全部，形成反射 区域和透射区域液晶层厚度差，以制造根据反射区域的反射特性和 透射区域的透射特性的显示。例如，若透射区域液晶层厚度大约为 反射区域液晶层厚度的2倍时，可以4吏在反射区域光进行的液晶层 距离和在透射区域光进行的液晶层距离相同，以使反射区域和透射 区域光学特性相似。根据情况，调整反射区域液晶层厚度，根据调 整的反射区域液晶层厚度及绝缘层221厚度调整透射区域液晶层厚 度，使反射区域具有最佳条件。
而且，具有图2B结构的显示器形成方法(未示出)除了形成 绝纟彖层221之后形成第一^f象素电4及部219之外，如同图3A至图3C 形成方法。只是，形成绝缘层221之后形成第一像素电极部219及 第二像素电极部225，然后从透射区域除去不透明电极的第二像素 电极部225，以限定反射区域的第二像素电极部225和透射区域的 第一像素电极部219。而且，在第一像素电极部和第二像素电极部 之间填充钼钨等金属层。
图4A、 4B、 4C示出根据本发明在上部基片共同电极形成的共 同电4及图案。
上部基片的共同电极图案以圓形、椭圆形或多角形中的任意形 态形成一个以上。而且，当通过隔壁等分割透射区域117a、 117b 时，在对应各分割区域的上部基片共同电极形成图案402。共同电 极具有多种图案。图案402位于分别对应透射区域或分割的透射区 域的上部基片共同电极区域中心。图案具有除去共同电极一部分或 全部的结构。
在下部基片及反射区域、开关元件等具有所有图1A、图1B形 态。另外，在下部基片和上部基片之间填充液晶层，液晶层的液晶 才莫式是VA (垂直取向)或RTN ( Reverse TN )。
通常，半透射显示器在下部基片具有光源、向面板全面照射乂人 光源射出的光的导光冲反及各种薄片(薄膜)、偏光4反和相位差^1。 相位差4反以入/4相位改变光波的一轴方向，〗吏线形偏光的光源圓形 偏光。而且，在上部基片上部具有相位差^反(入/4相4立板)、偏光 板。通过相位差板在反射区域形成黑色才莫式，在反射区域和透射区 域中黑色和白色才莫式一致。而且，替代共同电才及图案在图案位置形 成绝纟彖层凸起。
图5A是图4A沿着ni-nr线的截面图。
参照图5A,下部基片501除了无隔壁外与图2A相同的显示结 构。即，形成透射区域但未留隔壁而除去的结构。另外，第一4象素 电才及部219置于绝^彖层221上。乂于应下部基片501的上部基片505， 在与下部基片相同的基片形成滤色器等规定结构。在上部基片505 全面形成共同电才及507。共同电才及507在对应下部基片501透射区 i或的^f立置具有图案402，并具有《从向延伸的椭圆形形态。此时，图 案402具有四角形或圓形。或者替代共同电极507图案402，在图 案位置形成绝纟彖层凸起。
具有图5A结构的显示器在通过图案施加电压的状态下向一定 方向移动U走转)液晶，4是高液晶方向性，因此较良好地形成众多 区i或，以？文善显示画质。
图5B是图4B沿着IV-IV'线的截面图，图5C是图4C沿着V-V'
线的截面图。
图5B和图5C具有与图2A和图2B相同结构的下部基片502、 503。图5B、 5C中，只于应下部基片502、 503的上部基片505及共 同电才及507具有与图5A相同的结构。
参照图5B、 5C，共同电才及507在对应下部基片502、 503透射 区域的位置具有图案。具体地说，共同电极507图案402形成于形 成隔壁的区域之外区域或对应分割的透射区域的上部基片共同电 极507区域。在未形成隔壁的透射区域中心形成共同电极507图案 402,图案402在透射区域形成一个以上，在对应通过隔壁分割的 区域或未形成隔壁的区域的上部基片共同电极507分别形成一个以 上。或替代共同电才及507图案在图案402位置形成绝缘凸起。
具有图5B及图5C结构的显示器在不施加地形电压的状态下根 据隔壁及反射区域边界层差、反射区域浮雕图案，液晶可以具有倾 斜度耳又向，而且，在不施加电压的状态下通过图案将液晶向一定方 向移动(旋转)。而且，从隔壁和图案的位置关系彼此互补性地控 制才艮据未施加电压和施加电压的液晶的取向特性及根据移动(旋 转)的方向性，以不仅可以改善显示画质，还才艮据情况可以省略摩 擦工序，改善由摩擦工序引起的不良，降低生产成本。
图6是根据本发明实施例的液晶显示器平面图，图7是图6沿
着vi-vr线的截面图，图8是图6沿着vn-vir线的截面图。
参照图6至图8,液晶显示器包括上部基片1170、下部基片1180 及液晶层1108。
上部基片1170包4舌第二才反才及1100、黑阵1102、滤色器1102、 滤色器1104a、 1104b、 1104c、共同电才及1106、 4于垫1110 (隔4反， Spacer )及众多区i或用冲曹(Recess for Multi-Domain ) 1130。上部基
片1170包括显示图像的显示区域1150及包围显示区域1150的周边 区i或1155。
下部基片1180包4舌第一^反才及1120、薄膜晶体管1119、源才及线 1118a，、才册才及线1118b，、才册极绝缘层1126、 4屯化层1116、存储电容 器(未示出)、有机层1114、第一像素电极部1112、第二像素电极 部1113及众多区i或用凸起(Protrusion for Multi-Domain ) 1131a。 液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间。
下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光 区域1145。 <象素区域1140对应于显示区域1150，遮光区域1145对 应于周边区域1155。像素区域1140包括透射从背光源组合体产生 的光的透射窗1129a及反射外部光的反射区域1128。优选地，透射 窗1129a呈直四角形习犬。
第二板极1100及第一板极1120使用能透射光的透明玻璃。玻 璃为无碱性。当玻璃为碱性时，若碱性离子从玻璃输出到液晶单元 中，降低液晶电阻率，改变显示特性，降低单元和玻璃的附着力， 影响开关元件运行。
此时，第二板极1100及第一板才及1120包含三乙酰纤维素 (TAC)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二曱酸乙二酯 (PET)、聚对萘二曱酸乙二酯(PEN)、聚乙烯醇(PVA)、聚曱基 丙烯酸曱酯(PMMA)、环烯聚合物(COP)等。
优选地，第二板极1100及第一板极1120具有光学上的相同方向。
黑阵1102形成于对应周边区域1155的第二才反4及1100 —部分， 遮挡光。黑阵1102遮挡通过不能控制液晶的遮光区域1145的光， 以才是高画质。
黑阵1102通过沉积金属、金属4匕合物或不透明有才几物，并蚀 刻形成。金属包括铬等，金属化合物包括氧化铬、氮化铬等，不透 明有机物包括炭黑(Carbon Black),颜色混合物，燃料混合物等。 颜色混合物包括红、绿、蓝色。燃料混合物包括红、绿、蓝燃料。 而且，黑阵1102涂布包括光致抗蚀剂(Photoresist)成分的半透明 物质之后，通过光学蚀刻形成。此时，重叠多个滤色器形成黑阵。
滤色器1104a、 1104b、 1104c形成于第二拓j及1100的显示区i戈 1150内，只选择性地透射具有规定波长的光。滤色器1104a、 1104b、 1104c包括-红色滤色器部1104a、绿色滤色器部1104b及蓝色滤色器 部1104c。滤色器1104a、 1104b、 1104c包4舌光中和开始剂、单体、 粘合剂、颜料、分散剂、溶剂、光致抗蚀剂等。此时，滤色器1104a、 1104b、 1104c置于第一^反才及1120或4屯化层1116上。
滤色器1104a、 1104b、 1104c为了在液晶层1108内形成众多区 域包括除去滤色器1104a、 1104b、 1104c —部分的众多区域用槽 1130a。众多区域槽1130a对应于透射窗1129a设置。优选地，众多 区域槽1130a沿着透射窗1129a的中心线设置，并具有向源极线 1118a，方向延伸的直四角形状。此时，众多区域用槽1130a深度可 以小于滤色器1104a、 1104b、 1104c厚度。
共同电才及1106在形成黑阵1102及滤色器1104a、 1104b、 1104c
的所述第二拓^及1100全面上。共同电4及1106包括4象ITO (氧4匕铟 锡)、IZO (氧化铟锌)、或ZO (氧化锌)的透明导电性物质。此时， 在第 一板极1120上共同电极1106与第 一像素电极1112及第二像素 电极部1113并排设置。
4于垫1110在形成黑阵1102、滤色器1104a、 1104b、 1104c及
共同电4及106的第二斥反4及1100上。通过4于垫1110 —定禾呈度保持上 部基片1170及下部基片1180之间的单元缝隙。优选地，衬垫lllO 包括对应于黑阵1102设置的柱状衬垫(Column Spacer )。此时，衬 垫1110包括球状衬垫(Ball Spacer)或混合柱状衬垫和球状衬垫的
薄膜晶体管1119在第一板极1120的反射区域1128内形成，其 包才舌源才及1118a、才册才及1118b、漏才及1118c及半导体层图案。驱动电 路(未示出)输出数据电压，并通过源极线1118a，向源极传输H18a。 输出选择信号并通过栅极线1118b'向4册极1118b传输。
栅极绝缘层1126置于形成栅极的所述第一板极1120上，电绝 乡彖4册才及1118b和源4及1118a、漏才及1118c。栅4及绝^彖层1126包括氮 4匕A圭、氧〗匕-圭等。
钝化层1116置于薄膜晶体管1119形成的第一板极1120上，露 出漏极1118c —部分的接触孔。钝化层1116包括氮化硅1116、氧化 硅等。
存储电容器(未示出)形成于第一板极1120上，保持共同电 才及1106和第二^象素电才及部1113之间及共同电才及1106和第一1象素电 才及部1112之间的电4立差。
绝缘层1114置于形成薄膜晶体管1119及钝化层1116的第一板 极1120上，使薄膜晶体管1119与第一像素电极部1112或第二像素 电极部1113绝缘。绝缘层1114包括露出漏极1118c —部分的接触 孔。
而且，开口对应于绝缘层1114的透射窗1129a的部分，使对应 下部基片1180的透射窗1129a的部分和对应反射区域1128的部分 高度彼此不同。此时，在透射窗1129a内残留绝缘层1114一部分。
绝纟彖层1114包4舌凸起部(Protruded Portion) 1115及凹凸部 (Embossed Portion )。凸起部1115对应衬垫1110 i殳置，调整相邻 的垂直取向的液晶一部分排列。凹凸部置于反射区域1128内，增 加第二〗象素电4及部1113反射效率。
众多区域用凸起1131a对应于众多区域用槽1130a并置于4屯化 层1116上。众多区域凸起1131a具有向源极线1118a'方向延伸的直 四角形状。此时，对应于一个众多区域用槽1130a i殳置多个众多区 域用凸起1131a，对应于一个众多区域用凸起1131a设置多个众多 区域用槽1130a。优选地，众多区域用凸起1131a与绝缘层1114 一 起形成。
调整众多区域用凸起1131a及/或众多区域用槽1130a大小，调 整形成众多区域的液晶排列。
第 一像素电极部1112形成于像素区域1140内的绝缘层1114表 面、接触孔内面、众多区域用凸起1131a及透射窗1131a及透射窗 1129a内，并与漏才及1118c电连4妾。第一4象素电才及部1112通过施力口 于与共同电才及1106之间的电压控制液晶层1108内液晶，调整光透 射。第一4象素电才及部1112包括透明导电性物质的氧化铟锡ITO、氧 化铟锌IZO、氧化锌ZO等。
第二像素电极部1113置于反射区域1128内的绝缘层1114上， 其反射外部光。优选地，第二像素电极部1113沿着在绝缘层1114 表面上的凹凸部形状设置，并向一定方向反射外部光。第二像素电 才及部1113包4舌导电'性物质，并通过第一4象素电才及部1112与漏招> 1118c电连才妄。
此时，在上部基片1170及下部基片1180表面i殳置耳又向层(未
示出)，可耳又向液晶。液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间，用密封 剂(未示出)密封它。液晶层1108内液晶以垂直取向(Vertical Alignment, VA )、 4丑曲(Twisted Nematic, TN )取向、混合4丑曲(Mixed Twisted Nematic， MTN )耳又向或均匀(Homogeneous )取向才莫式4非列。 优选地，液晶层1108内液晶以垂直取向才莫式排列。
若第一^f象素电极部1112及第二像素电才及部1113和共同电极 1106之间施加电压，则在与凸起部1115及4于垫1110相邻的区域、 透射窗1129a和反射区域1128之间的有层差部分(阶梯部，Stepped Portion)、与众多区域用槽U30a、以及众多区域用凸起1131a的区 域内产生电场失真。因此，在液晶层1108内形成众多区域，以提 高视角。
图9A至图9K是制造图6示出的液晶显示器的方法截面图。
参照图9A,首先，在第一拓j及1120限定像素区域1140及遮光 区域1145。像素区域1140包括透射从背光源组合体(未示出)产 生的光的透射窗1129a及反射外部光的反射区域1128。
接着，在第一板极1120上沉积导电性物质。接着，除去导电 性物质一部分，形成4册4及1118b及一册4及线1118b，。然后，在形成才册 才及1118b及4册4及线1118b'的第一4反才及1120全面上沉积绝纟彖物质，以 形成栅极绝缘层1126。
接着，在对应栅极1118b的栅极绝缘层1126上形成非晶硅及 N+非晶硅，以形成半导体层。接着，在形成半导体层的栅极绝缘层 1126上沉积导电性物质。然后，蚀刻导电性物质一部分，形成源招^ 1118a、源才及线1118a，及漏4及1118c。形成包括源才及1118a、棚4及1118b、 漏极1118c及半导体层的薄膜晶体管1119。 接着，在形成薄膜晶体管1119的第一板极1120上沉积绝缘物质。
参照图9B, *接着在沉积的绝纟彖物质上涂布所述有才几物。优选 地，有才几物包括光致抗蚀剂。
参照图9C，接着，利用掩模曝光涂布的有机物1114，并显像， 形成接触孔、凸起部1115、凹凸部及众多区域用凸起1131a。而且， 通过曝光显^(象工序开口对应于透射窗1129a的部分。曝光及显〗象工 序包括利用 一个掩模的一次工序或具有多个掩模的数次工序。通过 利用一个掩才莫的一次工序形成4姿触3L、凸起部1115、凹凸部及众多 区域用凸起1131a时， 一个掩才莫包括不透明部分、半透明部分及透 明部分。优选地，不透明部分对应于凸起部1115，半透明部分分别 对应于凹凸部及众多区域用凸起1131a， 4妄触孔及透射窗1129a对 应于透明部分。此时，掩才莫^^代半透明部分包4舌狭缝。调整半透明 部分或狭缝宽度，以调整众多区域用凸起1131a大小。
参照，图9B, 4妄着，在绝》彖层1114、 4屯4匕层1116、 4妄触孔内 面、透射窗1129a内面及众多区域用凸起1131a表面上沉积透明导 电性物质。导电性物质包括ITO、 IZO、 ZO等。优选地，透明导电 性物质包括ITO。接着，蚀刻沉积的透明导电性物质一部分，形成 第一4象素电才及部1112。在4象素电才及1140内形成第一4象素电才及部 1112。
然后，在形成第一^f象素电才及部1112的第一^反才及上沉积高反射 率的导电体。优选地，反射率高的导电体包括铝及钕。接着，蚀刻 反射率高的导电体一部分，在反射区域1128内形成第二像素电极 部1113。
此时，第二^f象素电才及部1113具有多层结构。当第二^象素电招_ 部具有多层结构时，优选地，第二像素电极部1113包括钼-鸽合金 层及在钼-鴒合金层上形成的铝-钕合金层。第二像素电极部1113通 过第一像素电极部1112及接触孔与漏极1118c电连接。此时，在绝 缘层114及接触孔内面上形成第二像素电极部1113,在透射窗1129a 及第二^f象素电才及部1113 —部分上形成第一^f象素电才及部1112,通过 第二〗象素电才及部1113电连4妻第一^f象素电才及部1112和漏才及1118c。
从而，形成包括第一板极1120、薄膜晶体管1119、源极线、栅 才及线、绝》彖层1114、第一〗象素电4及部1112、第二〗象素电才及部1113 及众多区域用凸起1131a的下部基片1180。
参照图9E，接着，在第二板极1100上沉积半透明物质。接着， 除去半透明物质一部分，形成黑阵1102。此时，在第二4反才及1100 上涂布半透明物质及光致抗蚀剂之后，利用光学蚀刻(Photo Process )形成黑阵1102。光学蚀刻包4舌曝光工序(Exposure Process ) 及显4象工序(Development Process )。此时，在第一4反才及1120上形 成黑阵1102。
参照图9F，然后在形成黑阵1102的第二^反才及1100上涂布包括 红色颜料及光致抗蚀剂的混合物。
参照图9G,接着利用掩模曝光涂布的混合物1104a'并显像， 形成红色滤色器部1104a及众多区域用槽1130a。掩模包括狭缝， 狭缝对应于众多区域用槽1130a。众多区域用槽1130a大小对应于 狭缝间距。此时，掩模包括半透明部分。调整半透明部分宽度，以 调整众多区域用槽1130a大小。
参照图9H, 4妄着在形成黑阵1102及红色滤色器部1104a的第 二4反4及1100上形成绿色滤色器部1104b及蓝色滤色器部。
参照图91， 4妄着，形成黑阵1102及滤色器H04a、 1104b、 1104c
的第二板极1100上沉积半透明导电性物质，以形成共同电极1106。
参照图9J，接着在所述共同电极1106上涂布有机物。优先地， 所述有^/L物包括光致抗蚀剂(Photoresist)成分。然后，曝光有才几 物，并显l象，在对应黑阵1102的共同电4及1106上形成邱于垫1110。 此时，在第一板才及1120上形成4于垫1110。
参照图9K，接着面对接合上部基片1170及下部基片1180。
4妻着，在上部基片1170及下部基片1180之间注入液晶层1108 之后用密封剂(Sealant,未示出)密封。此时，在形成密封剂(未 示出)的上部基片1170或下部基片1180上点滴(Drop)液晶后， 4吏上部基片1170及下部基片1180面对接合，形成液晶层1108。
因此，调整置于与衬垫1110相邻的凸起部1115、在透射窗1129a 和反射区域1128之间有层差的部分及与众多区域用槽1130a和众多 区域用凸起1131a相邻的区域内的垂直耳又向的液晶一部分排列，在 透射窗1129a内形成众多区域。众多区域中心对应于众多区域用槽 1130a及众多区域用凸起1131a。
而且，与滤色器1104a、 1104b、 1104c—起形成众多区域用槽 131a,而且，与绝乡彖层1114 一起形成众多区域用凸起1131a，所以
简化了液晶显示器制造工序。
图IO是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图，图ll是 图10第一像素电极部及第二像素电极部平面图、图12是图10沿
着vni-vnr线的截面图。
本实施例中，除了外涂层及绝缘层之外其组成结构与图6至图 8实施例相同，因此在此省略其详细i兌明。
参照图10至图13,液晶显示器包括上部基片1170、下部基片 1180及液晶层1108。
上部基片1170包括第二板极1100、黑阵1102、滤色器1104a、 1104b、 1104c、外涂层1105、共同电才及1106、 4于垫1110及众多区
域用槽(Recess for Multi-Domain ) 1132a。上部基片1170包括显示 区域1150及包围显示区域的周边区域1155。
下部基片1180包括第一板极1120、薄膜晶体管1119、源极 1118a'、栅极线1118b，、栅极绝缘层1126、钝化层1116、存储电容 器(未示出)、绝》彖层1114、第一^f象素电4及部1112、第二<象素电招_ 部1113及众多区i或用凸起(Protrusion for Multi-Domain ) U34a。 液晶层1108置于上部基片1170和下部基片1180之间。
下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光 区域1145。 4象素区i或1140对应于显示区域1150,遮光区域1145对 应于周边区域1155。像素区域1140包括透射从背光源组合体(未 示出)产生的光的透射窗1129a、及反射外部光的反射区域1128。
黑阵1102形成于第二板极1100的周边区域1155内，并遮挡光。
滤色器1104a、 1104b、 1104c形成于形成黑阵1102的第二々反才及 1100上，选择性地透射只具有^见定波长的光。滤色器1104a、 1104b、 1104c包括红色滤色器部1104a、绿色滤色器部1104b及蓝色滤色器 部1104c。
滤色器1104a、 1104b、 1104c为了在液晶层1108内形成众多区 i或包4舌除去滤色器1104a、 1104b、 1104c —部分的众多区i或用槽 1132a。众多区域用槽1132a沿着透射窗1129a中心线i殳置，具有向 源极线1118a'方向延伸的直四角形状。此时，众多区域用槽1130a ;罙度可以比滤色器1104a、 1104b、 1104c厚度小。
外涂层1105形成于形成黑阵1102及滤色器1104a 、 1104b 、 1104c 的第二才反才及1100上， <呆护黑阵1102及滤色器1104a 、 1104b 、 1104c 。 而且，平坦化黑阵1102及滤色器1104a、 1104b、 1104c形成的上部 基片1170表面。
而且，对应于外涂层1105的透射窗1129a的部分纟皮开口， 4吏 只于应于上部基片1170的透射窗1129a的部分和只于应于反射区i或 1128的部分高度不同。此时，在对应于反射区域1128的外涂层1105 表面开j成凹凸部(Embossed Portion )。
此时，夕卜涂层1105 —部分残留于对应于透射窗1129a的滤色 器H04a、 1104b、 1104c及众多区域用槽1132a上。优选地，残留
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1132a设置。
共同电才及1106形成于形成黑阵1102、滤色器1104a、 1104b、 1104c及外涂层1105的第二板极1100全面上。
衬垫1110形成于形成黑阵1102、滤色器1104a、 1104b、 1104c、 外涂层1105及共同电极1106的第二板极1100上。衬垫1110包括
对应于黑阵1102设置的柱状衬垫(Column Spacer )。
薄月莫晶体管1119形成于第一^反才及1120的反射区i或1128内，其 包括源极1118a、棚-极1118b、漏极1118c及半导体层图案。
才册才及绝》彖层1126置于形成4册才及1118b的第一^反才及1120上，佳: 才册才及1118b与源才及1118a及漏才及1118c电绝纟彖。
钝化层1116置于形成薄膜晶体管1119的第一板极1120上，其 包4舌露出漏才及1118c —部分的4妄触孔。
绝缘层1114置于形成薄膜晶体管1119及钝化层1116的第一板 极1120上，使薄膜晶体管与第一像素电极部1112及第二像素电极 部1113绝缘。绝缘层1114包括露出漏才及1118c —部分的4妻触孔。
此时，绝纟彖层1114进一步包4舌凸起部1115、凹凸部及众多区 i或用凸起1134a。
凸起部1115对应于衬垫1110布置，调整相邻的垂直取向液晶 一部分。凹凸部置于反射区域1128内，增加第二^f象素电才及部1113 反射效率。
众多区域用凸起1134a对应于众多区域用槽1132a置于绝缘层 1114上。.众多区i或用凸走S 1134a具有向源才及线1118a，方向延伸的直 四角形状。众多区域用凸起1134a与绝缘层1114 一起形成。
第一像素电4及部1112形成于像素区域1140内的绝》彖层1114表 面、4妄触孔内面及众多区域用凸起1134a内，与漏才及1118c电连4妄。
第二像素电极部1113置于反射区域1128内的绝缘层1114上， 反射外部光。
液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间，用密封 剂(Seal,未示出)密封它。液晶层1108内的液晶以垂直耳又向才莫式 排列。
若向第一^f象素电极部1112及第二4象素电4及部1113和共同电^ L 1106之间施加电压，在与凸起部1115及衬垫1110相邻的区域、夕卜 涂层1105和滤色器1104a、 1104b、 1104c之间的有层差部分(阶梯 部，Stepped Portion )、与众多区i或用才曹1132a及众多区i或用凸起 1134a相邻的区i或内产生失真。当液晶以垂直耳又向才莫式排列时，在 液晶层1108内通过失真的电场形成众多区域，以4是高一见角。
图14A至图14J是制造根据本发明第二实施例的液晶显示器的 方法截面图。
参照图14A,首先，在第一板极1120形成薄膜晶体管1119。 接着，在形成薄膜晶体管1119的第一板极1120上沉积透明绝缘物 质。接着，在沉积的透明绝缘物质上涂布有4几物。优选地，有机物 为光致抗蚀剂。
参照图14B,接着，利用掩模曝光涂布的有机物1114，，并显像 形成凸起部1115、凹凸部及众多区域用凸起1134a。曝光及显像工 序包括利用 一个掩模的一次工序或具有多个掩模的多次工序。通过 利用一个掩才莫的一次工序形成"l妄触孔、凸起部1115、凹凸部及众多 区域用凸起1134a时， 一个掩模包括透明部分、不透明部分及半透 明部分。优选地，透明部分对应于接触孔，不透明部分对应于凸起 部1115及众多区域用凸起1134a，半透明部分分别对应于凹凸部及 透射窗1129a。因此，减少绝缘层1114的高低差(Height Difference), 简化了众多区域用凸起制造工序。此时，掩模替代半透明部分包括 狭缝。
参照图14C，接着，在形成有才几层1114的第一一反才及1120上的 所述〗象区i或1140形成第一^f象素电4及部1112。然后，在形成第一l象 素电极部1112的第 一板极1120上的反射区域1128内形成第二像素 电极部1113。
乂人而，形成包4舌第一才反4及1120、薄力莫晶体管1119、源4及线 1118a，、棚-才及线1118b'、绝纟彖层1114、第一^f象素电4及部1112、第二 4象素电才及部1113及众多区域用凸起1134a的下部基片1180。
参照图14D，接着，在第二板极1100上形成黑阵1102。然后， 在形成黑阵1102的第二板极1100上涂布包括红色颜料及光致抗蚀 剂的;昆合物。
参照图14E,接着，利用掩模曝光涂布的混合物1104a'，并显 4象形成红色滤色器部1104a及众多区域用槽1132a。
参照图14F,接着，在形成黑阵1102及红色滤色器部1104a的 第二板极1100上形成绿色滤色器部1104b及蓝色滤色器部。
参照图14G,接着，在形成黑阵1102及滤色器1104a、 1104b、 1104c的第二板极上涂布包括有机物。
参照图14H,然后，利用掩才莫曝光涂布的有一几物1105'，并显 4象，露出对应于下部基片1180透射窗1129a的滤色器1104a、1104b、 1104c —部分及众多区域用槽1132a。
参照图141，接着，在形成黑阵1102、滤色器1104a、 1104b、 1104c及外》余层1105的第二才反才及1100上;咒积透明导电性物质，形 成共同电才及1106。
接着，在对应于黑阵1102的共同电极1106的一部分上形成4于
垫mo。
参照图14J，接着，面对4妄合上部基片1170及下部基片1180。
4妄着，在上部基片1170及下部基片1180之间注入液晶层1108， 然后用密封剂(Sealant,未示出)密封。
因此，若向共同电极1106和第一像素电极部1112及第二像素 电才及部1113之间施加电压，则在与斗于垫1110和凸起部1115相邻的区域、外涂层1105和滤色器1104a之间的有层差的部分、以及与众 多区域用槽1132a和众多区域用凸起1134a相邻的区域内形成众多 区域。
而且，才艮据外涂层1105对应于透射窗1129a的液晶层1108高 度和对应于反射区域的液晶层1108高度不同，因此减少绝缘层1114 层差，容易形成众多区域用凸起1134a。
图15是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图，图16是 图15沿着X-X'线的截面图。
本实施例中，除了众多区域用槽及众多区域用凸起之外的结构 与图IO至图13实施例结构相同，因此省略其重复部分的详细说明。
参照图15及图16,液晶显示器包括上部基片1170、下部基片 1180及液晶层1108。
上部基片1170包4舌第二外反才及(Second Plate) 1100、黑阵1102 (Black Matrix) 1102、滤色器1104a、 U04b、外涂层1105、共同 电极1106、衬垫1110及两个众多区域用槽1132b。此时，上部基片 1170可以包括众多区域用槽。上部基片1170包括显示区域1150及 包围显示区i或的周边区i或1155 。
下部基片1180包括第一4反才及1120、薄膜晶体管1119、源才及线 1118a，、 4册才及线1118b'、 4册才及绝纟彖层1126、 4屯4b层1116、存4诸电容 器(未示出)、绝》彖层1114、第"H象素电才及部1112、第二4象素电^L 部1113及两个众多区&戈用凸起(Protrusions for Multi-Domain ) 1134b。此时，下部基片1180可以包括多个众多区域用凸起。
液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间。下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光 区域1145。像素区域1140对应于显示区域1150，遮光区域1155对 应于周边区域1150。像素区域1140包括透射窗1129a及反射区域 1128。
滤色器1104a、 1104b形成于形成黑阵1102的第二^反才及上，只 选择具有规定波长的光透射。滤色器ll04a、 1104b包括红色滤色 器1104a部、绿色滤色器部1104b及蓝色滤色器部。
滤色器1104a、 1104b为了在液晶层1108内形成众多区域，包 括除去滤色器1104a、 1104b—部分的众多区域用槽1132b。众多区 域用槽1132b沿着透射窗1129a中心线设置，其具有正方形状。此 时各众多区域用槽1132b具有向源极线1118a，延伸的直四角形状。
外涂层1105在形成黑阵1102及滤色器1104a、1104b的第二板 极1100上。
而且，对应于外涂层1105的透射窗1129a的部分4皮开口， 4吏 对应于上部基片1170的透射窗1129a的部分高度和对应与反射区域 1128的部分高度不同。
绝缘层1114在形成薄膜晶体管1119及钝化层1116的第一板极 1120上i殳置， -使薄膜晶体管1119与第一l象素电才及部1112及第二4象 素电才及部1113绝*彖。绝*彖层1114包4舌露出漏才及1118c —部分的才妄 触孔。
J:匕时，绝纟彖层1114进一步包4舌凸起部1115、凹凸部及两个众 多区i或用凸起1134b。
众多区域用凸起1134b对应于众多区域用槽1132b置于绝缘层 1114上。众多区域用凸起1134b具有正方形状。此时，众多区域用凸起1134b也可以具有向源极线方向延伸的直四角形状。众多区域 用凸起1134b与绝缘层一起形成。
液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间，用密封 垫(Seal,未示出)被密封。液晶层1108内液晶以垂直取向(Vertical Alignment)模式排歹'J 。
若向第一^f象素电才及部1112和共同电才及1106之间施加电压，在 各众多区域用槽1132b和对应于众多区域1132b并与众多区域用凸 起1134b相邻的液晶层内1108内形成多个区i或。,人而，增力口包含 在众多区i或内的区i或凄t，以l是高^见角。
图17是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图，图18是 图17第一{象素电极部及第二<象素电极部平面图，图19是图17沿 着XI-XI'线的截面图。
本实施例中，除了第二像素电极部及第一像素电极部之外的结 构如同图15及图16实施例，因此省略其重复部分的详细说明。
参照图17至图19，所述液晶显示器包4舌上部基片1170、下部 基片1180及液晶层1108。
上部基片1170包括第二板极1100、黑阵1102、滤色器1104a、 1104b、外涂层1105、共同电极1106、衬垫1110及众多区域用槽 1132c。上部基片1170包括显示区域1150及包围显示区域的周边区 域1155。
下部基片1180包4舌第一4反4及1120、薄月莫晶体管1119、源才及线 1118a，、对册才及线1118b'、棚-才及绝缘层1126、名屯化层1116、存4诸电容 器(未示出)、绝缘层1114、第一像素电极部1220、第二像素电极
部1230及两个众多区i或用凸起(Protrusions for Multi-Domain) 1134c。液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间。
下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光 区域1145。像素区域1140对应于显示区域1150,遮光区域1145对 应于周边区域1150。像素区域1140包括透射窗1129a及反射区域 1128。
滤色器1104a、 1104b为了在液晶层1108内形成众多区域，包 括除去滤色器1104a、 1104b —部分的众多区域用槽1132C。众多区 域用槽1132c沿着透射窗1129a中心线设置，其具有正方形状。此 时各众多区域用槽1132c具有正方形状。
绝缘层1114在形成薄膜晶体管1119及钝化层1116的第一板极 1120上设置，绝缘层1114包括露出漏极1118c —部分的接触孔、 凸起部1115、凹凸部及两个众多区i或用凸起1134c。
众多区域用凸起1134c对应于众多区域用槽1132c置于绝缘层 1114上。
第一l象素电才及部1112包括第一透明电4及部1212a、第二透明电 才及部1212b、第一连4矣部1136a及第二连4妄部1136b。
第一透明电才及部1212a及第二透明电4及吾P 1212b置于透射窗 1129a内的绝》彖层1114上。第一透明电4及部1212a及第二透明电才及 部1212b;f皮此相邻纟殳置。
第一连4妄部1136a置于第一透明电才及部1212a和第二透明电^ l 部1212b之间，电连4妄第一透明电才及部1212a和第二透明电4及部 1212b。优选地，第一透明电才及部1212a及第二透明电4及部1212b 呈正方形。
第二连4妄部1136b置于第二透明电极部1212b的第一连4妾部 1136a对面，电连4妄第二透明电才及部1136b和第二^f象素电4及部1230。 第二透明电极部1136b的一部分延伸到4妾触孔内，可以电连4妄第二 透明电极部1136b和薄膜晶体管1119的漏极1118c。
第二《象素电才及部1230置于反射区i或1128内的绝^彖层1114上， 呈正方形。
此时，第一透明电才及部1212a、第二透明电才及部1212b及第二 像素电极部1230可以成为多角形、圆形等。多角形包括四角形、 六角形、八角形等。
调整第一透明电才及部1212a和第二透明电才及部1212b之间距离 及/或第二透明电才及部1212b和第二像素电才及部1230之间3巨离，以 调整液晶层1108内、液晶4非列。
液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间，液晶层 1108内'液晶以垂直耳又向才莫式4非列。
若向第一像素电极部1220和共同电极1106之间施加电压，在 各众多区域用槽1132c和对应于众多区域用槽1132c的与各众多区 域用凸起1134c相邻的、液晶层1108内形成多个区i或。
而且，在第一透明电4及部1212a和第二透明电才及部1212b之间、 及第二透明电极部1212b和第二像素电极部1230之间产生电失真，
以调整液晶排列，才是高一见角。
图20是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图，图21是
图20沿着xn-xn'线的截面图。
本实施例中，除了第二众多区域用槽之外的结构如同图17至 图19实施例的结构，因此省略其重复部分的详细i兌明。
液晶显示器包括上部基片1170、下部基片1180及液晶层1108。
上部基片1170包4舌第二々反4及1100、黑阵1102、滤色器1104a、 1104b、夕卜涂层1105、共同电才及1106、 4十垫1110及两个第一众多区 域用槽1132d及第二众多区域用槽1137。上部基片1170包括显示 区域1150及包围显示区域1150的周边区域1155。
下部基片1180包4舌第一柘^及1120薄月莫晶体管1119、源才及线 1118a，、栅极线1118b'、栅极绝缘层1126、钝化层1116、存储电容 器(未示出)、绝缘层1114、第一像素电极部1220、第二像素电极 部1230及两个众多区i或用凸起(Protrusions for Multi-Domain) 1134d。液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间。
下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光 区域1145。 4象素区i或1140对应于显示区域1150，遮光区i或1145对 应于周边区域1155。像素区域1140包括透射窗1129a及反射区域 1128。
对应于外涂层1105的透射窗1129a的部分4皮开口，上部基片 1170的透射窗1129a的部分高度和对应于反射区域1128的部分高 度不同。
而且，在》于应于下部基片1180反射区域1128的外涂层1105 内设置第二众多区域用槽1137。
众多区域用凸起1134d对应于第一众多区域用槽1132d置于绝 乡彖层1114上。
若向第二像素电极部1230和共同电极1106之间施加电压，在 与第二众多区域槽1137相邻的区域内产生电场失真。从而，调整 置于第二像素电极部1230上的液晶层1108内液晶排列，在反射区 域1128内形成多个区i成。
图22是根据本发明另一实施例的液晶显示器平面图，图23是
图22沿着xin-xm'线的截面图。
本实施例中，除了第一众多区域用槽及第二众多区域用槽之外 结构如同图20及图21实施例，因此省略其重复部分的详细说明。
液晶显示器包括上部基片1170、下部基片1180及液晶层1108。
上部基片1170包括第二板极1100、黑阵1102、滤色器1104a、 1104b、夕卜涂层1105、共同电极1106、衬垫lllO及两个第一众多区 域用槽1132e及第二众多区域用槽1138。上部基片1170包括显示 区域1150及包围显示区域1150的周边区域1155。
下部基片1180包括第一板极1120薄膜晶体管1119、源极线 1118a'、 4册才及线1118b'、棚-才及绝纟彖层1126、 l屯化层1116、存4诸电容 器(未示出)、绝*彖层1114、第一4象素电才及部1220、第二4象素电才及 部1230及两个众多区i或用凸起(Protrusions for Multi-Domain ) 1134e。液晶层1108置于上部基片1170及下部基片1180之间。
下部基片1180包括显示图像的像素区域1140及遮挡光的遮光 区域1145。 4象素区域1140对应于显示区域1150，遮光区域1145对 应于周边区域1155。像素区域1140包括透射窗1129a及反射区域 1128。
滤色器1104a、 1104b为了在液晶层1108内形成众多区域包括 除去滤色器1104a、 1104b—部分的两个众多区域用槽1132e。众多 区域槽1132e深度比滤色器1104a、 1104b厚度小。
在对应于下部基片1180的反射区域1128的外涂层1105内设置 第二众多区域用槽1138。优选地，第二众多区域用槽1138大小与 第一众多区域用槽1132e大小相同。
众多区域用凸起1134e对应于第一众多区域用槽1132e,置于 绝缘层1114上。
从而，调整所述第一众多区域用槽1132e及所述第二众多区域 用槽1138大小，以调整所述液晶层1108内液晶排列。
像本发明的显示器，形成垂直取向(也包括不平行于基片而与 基片形成一定角度的取向)及众多区域，不仅可以改善画质，而且 才艮据情况可以省略摩〗察工序。
而且，液晶显示器包括众多区域用槽及众多区域用凸起，在液 晶层内形成众多区域，提高视角。
而且，在第一透明电极部和第二透明电才及部之间、及第二透明 电极部和第二像素电极部之间产生电失真，以调整液晶排列，提高 视角。
而且，筒化了滤色器基片及液晶显示器制造工序，减少制造费用。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发 明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。 凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进 等，均应包含在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种显示器用基片，包括板极，限定了反射外部光的反射区域及与所述反射区域相邻的透射区域；开关元件，置于所述基片上；绝缘层，包含置于具有所述开关元件的所述基片上并露出所述开关元件的第一电极一部分的接触孔，对应于所述透射区域的部分滞后于对应于所述反射区域的部分；以及隔壁，将所述透射区域分割为多个透射部分。
2. 根据权利要求1所述的显示器用基片，其特征在于，所述透射 区i或具有2至4个透射部分。
3. —种显示器用基片，包括板极；开关元件，形成于所述基片上；第一像素电极部，形成于形成所述开关元件的基片上；绝缘层，形成于形成所述开关元件及所述第一^f象素电^L 部的基片上，具有露出所述开关元件的第 一 电才及一部分的4妄触 孔及露出所述第一像素电极部一部分的开口部；第二〗象素电才及部，形成于所述绝纟彖层上，与所述开关元 件第一电极及第一像素电极部电连接；以及隔壁，置于所述第一〗象素电才及部上，爿寻通过所述开口部 露出的第一i象素电才及部分割为多个透射部分。
4. 一种显示器用基片，包括板极，限定了反射外部光的反射区域及与所述反射区域 相邻的透射区域；开关元件，形成于所述基片上；绝缘层，包含置于具有所述开关元件的所述基片上，露 出所述开关元件的第一电才及一部分的4妄触孔，对应于所述透射 区域的部分滞后于对应于所述反射区域的部分；隔壁，置于所述第一〗象素电才及部上，4巴所述透射区域分 割为多个透射部分；以及<象素电极，与所述开关元件第一电极电连接，形成于所 述绝缘层上。
5. —种显示器，包括下部基片，包含限定了反射外部光的反射区域及与所述 反射区域相邻的透射区域的第 一板极、形成于所述基片上的开 关元件、包含置于具有所述开关元件的所述基片上并露出所述 开关元件的第 一 电4及一部分的4妄触孔，而且对应于所述透射区 域的部分滞后于对应于所述反射区域的部分的绝缘层、将所述 透射区域分割为多个透射部分的隔壁；以及上部基片，包含第二基片，置于所述第二板极上且包含 对应于所述透射区域部分的一个以上图案的共同电极，对应于 所述下部基片。
6. 根据权利要求5所述的显示器，其特征在于，所述图案具有缩 小所述各分割区域的形状、圆形、椭圓形或多角形状。
7. 根据权利要求5所述的显示器，其特征在于，进一步包括置于 所述下部基片和上部基片之间的液晶层。
8. —种显示器，包括下部基片，包含第一板才及、形成于所述第一板极上的开 关元件、形成于形成所述开关元件的第 一板极上的第 一像素电 才及部、具有形成于形成所述开关元件及所述第一l象素电才及部的 第一板极上并露出所述开关元件第一电极一部分的接触孔及 露出所述第 一〗象素电才及部一部分的开口部的绝^彖层、形成于所 述绝纟彖层上并与所述开关元件第 一 电4及及第一^f象素电极部电 连接的第二^f象素电才及部、置于所述第一〗象素电才及部，JU巴通过 所述开口部露出的第 一像素电极部分割为多个透射部分的隔 壁；以及上部基片，包含第二板极、置于所述第二板极上且包含 对应于所述透射区域部分的图案的共同电极，对应于所述下部 基片。
9. 根据权利要求8所述的显示器，其特征在于，所述图案具有缩 小所述各分割区域的形状、圓形、椭圆形或多角形状。
10. 根据权利要求8所述的显示器，其特征在于，进一步包括置于 所述下部基片和上部基片之间的液晶层。
11. 一种显示器，包括下部基片，包含限定了反射外部光的反射区域及与所述 反射区域相邻的透射区域的第 一寺反才及、形成于所述基片上的开 关元件、包含置于所述开关元件的所述基片上并具有露出所述 开关元件的第一电4及一部分的4姿触孔，而且对应于所述透射区 域的部分滞后于对应于所述反射区域的部分的绝纟彖层、置于所 述第 一像素电极部上，把所述透射区域分割为多个透射部分的 隔壁、与所述开关元件第 一 电极电连接且形成于所述绝缘层上 的4象素电一及；以及上部基片，包含第二板极，置于所述第二板极上且包含 对应于所述透射区域部分的图案的共同电极，对应于所述下部 基片。
12. 根据权利要求11所述的显示器，其特征在于，所述图案具有 缩小所述各分割区域的形状、圓形、椭圆形或多角形状。
13. —种用于制造显示器用基片的方法，包括如下工序在基片上形成开关元件；在形成所述开关元件的基片上形成第一像素电极部；在形成所述开关元件及第一4象素电极部的基片上形成具 有露出所述开关元件第一电4及一部分的接触孔及露出所述第 一像素电极部一部分的开口部的绝缘层；形成将通过所述开口部露出的第 一像素电极部分割为多 个透射部分的隔壁；以及在所述绝缘层上形成与所述开关元件第 一 电极及第 一像 素电才及部电连4妄的第二^f象素电才及部。
14. 根据权利要求13的方法，其特征在于，与所述绝缘层一起形 成所述隔壁。
15. 根据权利要求14的方法，其特征在于，形成所述绝缘层及所 述隔壁的工序包i舌如下工序在形成所述开关元件及第一像素电极部的基片上涂布绝 缘物质；准备包括露出所述开关元件的第 一 电极一部分及第 一像 素电极一部分的图案及形成所述隔壁的狭缝图案的光栅；以及利用所述光栅进行光学蚀刻，形成所述绝缘层及所述隔
16.—种用于制造显示器用基片的方法，包括如下工序:透射区域的基片上形成所述开关元件；在形成所述开关元件的基片上形成包括露出所述开关元 件第 一 电才及一部分的4妄触孔且对应所述透射区域的部分滞后 于对应所述反射区域的部分的绝缘层；在所述透射区域内形成4巴所述透射区域分割为多个透射 部分的隔壁；以及在所述绝缘层上形成与所述开关元件第一电才及电连接的 <象素电才及。
17. 根据权利要求16所述的方法，其特征在于，与所述隔壁一起 形成所述绝缘层。
18. 根据权利要求17所述的方法，其特征在于，形成所述绝缘层 及所述隔壁的工序包4舌如下工序在形成所述开关元件的基片上涂布绝缘物质；准备包括露出所述开关元件的第 一 电极一部分及透射区 域一部分的图案及形成所述隔壁的狭缝图案的光栅；以及利用所述光栅进行光学蚀刻，形成所述绝缘层及所述隔壁。
19. 一种用于制造显示器的方法，包^r如下工序透射区域的第一^反才及上形成所述开关元件；在形成所述开关元件的第 一板才及上形成包括露出所述开 关元件第 一 电极一部分的接触孔且对应所述透射区域的部分滞后于对应所述反射区域的部分的绝纟彖层；在所述透射区域内形成^J巴所述透射区域分割为多个透射 部分的隔壁；以及在所述第二板才及上形成具有对应于所述分割区域的一个 以上图案的共同电才及。
20. 根据权利要求19所述的方法，其特4正在于，进一步包括在形 成所述开关元件的第一板极上形成像素电极的工序，所述隔壁 置于所述l象素电极上。
21. 根据权利要求19所述的方法，其特征在于，进一步包括在形 成所述绝纟彖层及所述隔壁的第 一一反4及上形成<象素电才及。
全文摘要
本发明提供了一种具有反射区域和透射区域的显示器中，在透射区域形成隔壁的显示器及其制造方法。该隔壁将透射区域分割成两个部分至四个部分，以地形调整倾斜的液晶分子方向。而且，在对应于透射区域的上部基片的像素电极形成一定形状的图案，施加电压时也可以调整液晶分子的移动(旋转)方向。而且，可以简化制造工序，降低生产成本。
文档编号G02F1/1362GK101196666SQ200710302150
公开日2008年6月11日 申请日期2005年1月6日 优先权日2004年1月6日
发明者朴源祥, 李宰瑛, 林载翊, 车圣恩, 金宰贤, 金尚佑 申请人:三星电子株式会社