专利名称：曝光装置的基板支撑机构的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种曝光装置的基板支撑机构，该曝光装置的基板支撑 机构在对液晶用基板、等离子显示器用基板等涂敷有感光体的玻璃基板 照射光的曝光装置中，支撑玻璃基板。
背景技术：
液晶用基板、等离子显示器用基板是在纵横长度为从
2200mmx2500mm到3100mmx3200mm左右、厚度为0.7mm、 l.lmm的
大型基板上形成预先设定好的数量的电路图案后，通过对每个电路图案 进行切断、分离而制作出来的。在该大型基板上，在电路图案的空白部 分绘制有用于基板管理和制造工序管理的识别记号、用于判断分离位置 的切断位置识别码、或者对位标记等(以下称作识别记号等)。
在制造工序中，在大型基板的单面的整个表面上涂敷光刻胶(photo resist,感光剂)，通过图案绘制装置经掩模照射紫外线，使预定数量的电 路图案曝光于图案区域中。接着，将基板运送到周边曝光装置，利用采 用激光的扫描光学系统使各种识别记号、标记等曝光在图案区域之外的 周边区域后，通过遮板来遮盖住图案区域和已被曝光有识别记号等的周 边区域，照射紫外线使图案区域以外的周边区域曝光。对周边区域进行 曝光是因为存在于图案区域周边的光刻胶在后继工序中进行运送、检查 时剥离会产生干扰，因此需要进行预先曝光，处理成容易除去的状态。 这样的周边曝光装置在例如专利文献1中被公开。
专利文献1中公开的周边曝光装置构成为通过载物台保持大型基板 并使其移动，同时对其周边区域进行曝光。作为基板保持机构的载物台 具有被支撑在移动运送机构上的扁平的长方体状的基台和垂直地安装在 该基台上的多个圆柱状的支撑柱。大型基板被多个支撑柱的上端面所支
3撑，并由上端面的与真空泵连通的孔进行吸附着。
专利文献1:日本特开2007-148361号公报
然而，在上述现有的周边曝光装置的基板保持机构中，支撑柱为圆 柱状，其上端的用于保持基板的表面积比较大，因此透过大型基板并被 支撑柱的上端面反射的再反射光的光量较多，使得原本要形成的图案、 标记变形的可能性较高。亦即，被支撑柱的上端面反射的反射光也称作 回射光、漫射光，从背面对大型基板的光刻胶的预定以外的部分进行曝 光。因此，图案区域的电路图案、形成于图案区域以外的识别记号等部 分中未曝光部分的光刻胶意外发生反应，其结果是，所形成的图案的析 像度下降，或者图案变粗，或者在预定以外的位置形成图案。
发明内容
本发明就是鉴于上述问题点而创造出的，目的在于提供一种曝光装 置的基板支撑机构，以通过两个以上的支撑柱保持玻璃基板的结构为前 提，减少支撑柱上端面所反射的再反射光的光量，降低基板上原本要形 成的电路图案、识别记号等变形的可能性。
为了达成上述目的，本发明所述的曝光装置的基板支撑机构对涂敷 有感光剂的玻璃基板进行曝光，其特征在于，该曝光装置的基板支撑机 构具有基台；以及两个 以上的支撑柱，它们从基台的上表面铅直向上 地设置，并以上端面支撑玻璃基板，各支撑柱的上端形成为朝向上端侧 变细的锥台状。
上述支撑柱由玻璃或者塑料那样的透明物质形成为佳。还有，在该 情况下，支撑柱上安装有覆盖其外周的不透明体的套筒为佳。
支撑柱的上端面包覆有防反射膜或者防眩膜为佳。进而，也可以在 支撑柱的上端面形成槽。
根据本发明的基板支撑机构，由于支撑柱的上端整体形成为朝向上 端侧变细的锥台状，因此上端面的面积比以往小，能够减少透过玻璃基 板并被支撑柱的上端面所反射的再反射光的光量，并且能够降低基板上 原本要形成的电路图案、识别记号等变形的可能性。由此，能够准确地形成电路图案、识别记号等。
此外，在由玻璃或者塑料那样的透明体形成支撑柱的情况下，由于 到达上端面的光的一部分入射到支撑柱内，因此与使用金属制的支撑柱 的情况相比，能够进一步减少反射的光量。进而，通过设置不透明体的 套筒，能够防止入射到支撑柱内的光束泄漏到外部。
在支撑柱的上端面覆盖防反射膜或者防眩膜的话，能够减小反射光 和再反射光的强度。进而，在支撑柱的上端面形成槽的话，能够使上端 面的面积更小，从而提高了减少反射光量的效果。
图1是将应用了本发明的基板支撑机构的曝光装置的周边曝光装置 省略其局部而从侧面方向示意性地示出该周边曝光装置内的剖视图。
图2是示出玻璃基板的一个实例的俯视图。
图3是在图1所示的周边曝光装置内支撑玻璃基板的载物台的立体图。
图4是示出本发明的实施例1的支撑柱的外观的立体图。 图5是本发明的实施例1的支撑柱的剖视图。
图6是示出了采用了本发明的实施例1的支撑柱时对玻璃基板照射 的光线的轨迹的说明图。
图7是本发明的实施例2的支撑柱的剖视图。 标号说明
10:周边曝光装置；20:载物台；21:基台；22:支撑柱；22a:支 柱部；22al:凸缘；22a2:细径部；22b:支撑部；22bl:支撑体；22b2: 套筒；22c、 22d:调整螺钉；22e:贯通孔；30:移动机构；40:摄像单 元；50:激光单元；60:紫外线照射单元；70:控制装置。
具体实施例方式
以下，对用于实施本发明的曝光装置的基板支撑机构的最佳方式进 行说明。并且，对将曝光玻璃基板用的周边曝光装置作为曝光装置的两个实施例进行说明。实施例1图1 图5涉及到实施例1的基板支撑机构。首先，基于图1 图3， 对周边曝光装置的整体结构的概要和玻璃基板的区域进行说明。图1是 将应用了本发明的基板支撑机构的周边曝光装置省略其局部而从侧面方 向示意性地示出该周边曝光装置内的剖视图，图2是示出玻璃基板的一 个实例的俯视图，图3是用于支撑玻璃基板的载物台的立体图。图1所示的周边曝光装置IO具有载物台20，其支撑玻璃基板W; 移动机构30，其使该载物台20沿周边曝光装置10的长边方向(图1的 左右方向)移动；摄像单元40，其对载物台20和保持在该载物台20上 的玻璃基板W的预定位置进行摄像；激光单元50，其在玻璃基板W的 形成有电路图案的图案区域以外的周边区域曝光识别记号；紫外线照射 单元60，同样，其对上述的周边区域的空白部分照射紫外线；以及控制 装置70，其对各机构和单元进行控制。玻璃基板W具有例如图2所示的两行三列的长方形图案区域(形成 电路图案的区域)Wp。作为各图案区域Mp外侧的周边区域Wc为切断 各图案区域Wp并使其分离时的切断带，并且是沿横竖方向分别形成有 作为由文字、图形、记号等构成的识别记号的识别标记M (Ml、 M2) 的区域。如图1和图3所示，载物台20是水平地支撑玻璃基板W用的，该 载物台20具有被支撑在移动机构30上的扁平的长方体状的基台21和从 基台21的上表面铅直向上地设置的两个以上的支撑柱22。支撑柱22以 其上端面支撑玻璃基板W，并设置成不会使玻璃基板W产生弯曲且在运 送玻璃基板W时能够使叉子插入到玻璃基板W和基台21之间那样的疏 密度。具体来说，两个以上的支撑柱22以例如较窄部分约为200mm的 间距进行配置。对支撑柱22的详细内容在后面叙述。移动机构30具有使玻璃基板W相对于激光单元50、紫外线照射单 元60定位的功能和通过这些单元进行曝光时使玻璃基板沿X方向以预定 速度移动的功能，并包括作为驱动源的直线电动机31和对移动进行引导的导轨32等。摄像单元40具有CCD (Charge Coupled Device:电荷耦合器件)照 相机等，并可移动地安装在支撑臂Al上，从玻璃基板W的上方对玻璃 基板W的预定位置和载物台20的定位标记23进行摄像，并将图像数据 输出到控制装置70。控制装置70解析图像数据，并基于解析得到的基板 位置和载物台位置控制移动机构30，进行定位作业。激光单元50用于通过激光束在玻璃基板W的周边区域Wc对识别 标记进行曝光，其被支撑并固定在支撑部A1上。该激光单元50构成为 将从一个激光束光源照射出的激光束分开，并分别经由三个激光照射单 元同时对玻璃基板W的周边区域Wc的三个位置照射激光束。紫外线照射单元60被支撑在设于装置中央的支撑部A2上，对玻璃 基板W的周边区域Wc的未形成有识别标记M的部分进行曝光，将该部 分处理成容易将多余的光刻胶除去的状态。另外，紫外线照射单元60具 有用于调整照射区域的遮光机构，对图案区域和周边区域的形成有标记 M的部分进行遮光以使该部分不曝光。然而，在使用现有的圆柱状的支撑柱的情况下，即使设置遮光机构， 也会有透过了玻璃基板W的紫外光在支撑柱的上端面被反射，从背面对 不想被曝光的部分进行曝光。因此，在实施例1中，构成了如图4和图5 中放大示出的支撑柱22。接着，对支撑柱22的结构进行说明。图4是示 出实施例1的支撑柱22的外观的立体图，图5是其剖视图。如图4和图5所示，支撑柱22具有圆柱状的柱状部22a，其在固 定于基台21上的底部形成有凸缘22al，并且在上端形成有直径较细的细 径部22a2;以及支撑部22b，其可沿上下方向调整地安装在该柱状部22a 上，并支撑玻璃基板。支撑部22b由透明玻璃制的支撑体22bl和覆盖该 支撑体22bl外周而设置的不透明的套筒22b2构成。亦即，套筒22b2从 外周嵌合于柱状部22a的细径部22a2上，并且通过紧固经由形成于套筒 22b2中的螺纹孔螺合的调整螺钉22c而被固定在柱状部22a上。此外， 支撑体22bl保持在套筒22b2内，并且通过紧固经由形成于套筒22b2中 的螺纹孔螺合的调整螺钉22d而被固定在套筒22b2中，并经由该套筒22b2固定在柱状部22a上。支撑柱22的高度能够通过松开调整螺钉22c 并使支撑部22bl和套筒22b2 —体地上下移动来进行调整。支撑体22bl的与玻璃基板W接触的上端形成为朝向上端侧变细的 锥台状。具体来说，支撑体22bl的上端面形成有多个截面为V字状的槽 G。槽G形成为正方格子状，其结果是，在上端面形成了上表面为2 3mm 宽的正方形、高度为1mm左右、斜面倾斜15 20度的多个棱锥台。在 棱锥台的上表面包覆有由Si02、 Mg02、 MgF2等构成的防反射膜。上端的中央的棱锥台上形成有贯通到柱状部22a的下表面的抽吸用 贯通孔22e。贯通孔22e沿铅直方向贯通支撑体22bl和柱状部22a的中 心。在基台21上形成有与各支撑柱22的贯通孔22e连通的通气口，这 些通气口一起连接到未图示的真空泵。通过在将玻璃基板W放置在支撑 柱22上的状态下使真空泵工作，经由基台21的通气口从各支撑柱22的 贯通孔22e抽吸空气，能够吸附玻璃基板W并将其固定在载物台20上。 柱状部22a的中间部和套筒22b2的外径约为30mm，与此相对地，贯通 孔22e的直径约为2mm。上述棱锥台可以通过蚀刻等化学处理形成槽G来构成，也可以通过 磨削加工等机械加工形成槽G来构成。棱锥台的高度(槽的深度)过低 的话有可能残留有尘埃，因此优选至少为lmm左右。在作为图5的局部放大图的图6中，示出了采用实施例1的支撑柱 22时对玻璃基板照射的光线的轨迹。利用实施例1的基板支撑装置进行 曝光时，入射到玻璃基板的光从玻璃基板W的光刻胶较为稀薄的区域、 或者未涂敷光刻胶的区域透过玻璃基板并到达其背面。透过了玻璃基板 W的光线到达支撑着基板的支撑体22bl上端的棱锥台。该支撑体22bl 的与玻璃基板W接触的上端形成为锥台状，且上端面形成有槽G,因此， 上端面的面积比以往小，能够减少透过玻璃基板并被支撑柱的上端面所 反射的再反射光的光量。此外，由于包覆有防反射膜，因此到达上端面 的光入射到支撑体22bl内，并在支撑体22bl的内部、或者套筒22b2的 内表面重复反射的过程中衰减。从棱锥体的斜面入射的光也入射到支撑 体22bl内，在重复反射的过程中衰减。因此，再反射光不会返回到涂敷有光刻胶的玻璃基板w的方向，不会产生漫射光。由此，能够防止对不想被曝光的部分进行曝光，从而能够准确地形成电路图案、识别标记等。实施例2图7是作为本发明的实施例2所述的基板支撑机构的特征部分的支 撑柱的剖视图。对与实施例1相同的部分标以相同符号并省略重复说明。 实施例2的支撑柱22A关于未在支撑体22b3的上端面形成槽这方面与实 施例1不同。其他结构与实施例1是相同的。支撑体22b3为透明的玻璃制的，其上端整体形成为朝向上端侧变细 的锥台状。此外，支撑体22b3的上端面和倾斜面上包覆有由Si02、Mg02、 MgF2等构成的防反射膜。或者，也可以在上端的表面上以薄膜状涂敷Si02 等无机物或者苯乙烯等微粒并包覆防眩膜。另外，在支撑体22b3、柱状 部22a的中心形成有抽吸用的贯通孔22e。在利用实施例2的基板支撑装置进行曝光时，透过了玻璃基板的光 的一部分接触到支撑体22b3。由于支撑体22b3的上端形成为锥台状，因 此上端面的面积比以往小，减少了透过玻璃基板并被支撑柱的上端面所 反射的再反射光的光量。此外，由于支撑体22b3由透明的玻璃形成，并 且形成有防反射膜，因此到达上端面、倾斜面的光大部分透过并入射到 支撑体22b3内，并在支撑体22b3内部、或者套筒22b2的内表面重复反 射的过程中衰减，不会返回到玻璃基板W侧。因而，能够基本消除再反 射光。由此，利用实施例2的基板支撑装置的话，能够通过曝光装置准 确地形成电路图案、识别记号等。另外，支撑体22bl、 22b3只要是透明的，除了玻璃之外也可以是塑 料等。套筒22b2只要是不透明的，可以是塑料也可以是金属。柱状部22a 为铝等的金属制的。此外，柱状部22a、支撑体22bl、 22b3也可以不是 圆柱而是棱柱，高度调整构件也并不限定于上述示例。此外，优选在调 整螺钉22d上端和支撑体22bl之间夹持并固定有软质的橡胶或者树脂等 缓冲件。
权利要求
1.一种曝光装置的基板支撑机构，该曝光装置对涂敷有感光剂的玻璃基板进行曝光，其特征在于，该曝光装置的基板支撑机构具有基台；以及两个以上的支撑柱，它们从该基台的上表面铅直向上地设置，并以上端面支撑所述玻璃基板，所述各支撑柱的上端被形成为朝向上端侧变细的锥台状。
2. 根据权利要求l所述的曝光装置的基板支撑机构，其特征在于， 所述支撑柱由玻璃或者塑料那样的透明物质形成。
3. 根据权利要求2所述的曝光装置的基板支撑机构，其特征在于，所述支撑柱上安装有覆盖其外周的不透明体的套筒。
4. 根据权利要求1所述的曝光装置的基板支撑机构，其特征在于 所述支撑柱的上端面包覆有防反射膜或者防眩膜。
5. 根据权利要求1所述的曝光装置的基板支撑机构，其特征在于， 所述支撑柱的上端面形成有槽。
6. 根据权利要求1 5中任一项所述的曝光装置的基板支撑机构， 其特征在于，所述支撑柱具有固定于所述基台上的柱状部以及可沿上下方向调节 地安装在该柱状部上并支撑所述玻璃基板的支撑部，该支撑部具有上端 形成为锥台状的支撑体和覆盖该支撑体外周的套筒。
全文摘要
本发明提供一种曝光装置的基板支撑机构，能够使透过了玻璃基板的光线不进行再反射而照向远离基板的方向，能够防止对图案进行多次曝光，从而形成高析像度的图案。配置于基台上并支撑玻璃基板的支撑柱(22)在其固定于基台(21)上的底部形成有凸缘(22a1)，并且包括圆柱状的柱状部(22a)，其在上端形成有直径较细的细径部(22a2)；以及支撑部(22b)，其可沿上下方向调整地安装在该柱状部上，并支撑玻璃基板。支撑部由透明玻璃制的支撑体(22b1)和以覆盖该支撑体外周的方式设置的不透明的套筒(22b2)构成。支撑体的上端面形成有多个截面为V字状的槽(G)，由此形成多个棱锥台。此外，在支撑体的上端面和倾斜面上包覆有防反射膜。
文档编号G02F1/1333GK101515115SQ20091000432
公开日2009年8月26日 申请日期2009年2月6日 优先权日2008年2月18日
发明者屋木康彦, 池田泰人 申请人:株式会社Orc制作所