专利名称：内层基板用曝光装置以及基板和掩膜的剥离方法
技术领域：
本发明涉及使掩膜紧贴内层基板并进行曝光的工序中使用的内层基板用曝光装 置以及该曝光装置中的基板和掩膜的剥离方法。
背景技术：
内层基板用曝光装置以下述的方式构成，S卩，在组装到曝光平台上的曝光掩膜保 持板上设定一个曝光掩膜，并且在组装到配置在其上方的上框上的曝光掩膜保持板上设定 另一个曝光掩膜，将基板配置在两个曝光掩膜之间，由配置在曝光掩膜保持板的下方以及 上框的上方的UV照射装置同时对基板的表里进行曝光。简单说明该内层基板用曝光装置的以往的曝光工序，在投入输送器上事先进行了 相对对位的基板由投入承载器的吸附垫吸附，向曝光平台上(下曝光掩膜保持板上)运送。 于是，载置了基板的曝光平台上升，紧贴上框，进行抽真空，谋求基板和上下曝光掩膜的紧 贴。此后，进行曝光，在曝光结束后，曝光平台下降，排出承载器动作，进行基板的排出。在这样的内层基板用曝光装置中，在进行曝光后的基板排出时，需要进行真空紧 贴的基板和曝光掩膜的揭离操作，将设置在上框上的曝光掩膜和基板揭离的操作，例如如 专利文献1公开的那样，由跃出销进行，设置在下侧的曝光掩膜和基板的揭离如专利文献2 公开的那样，通过鼓风进行。在先技术文献专利文献1 日本特开2006-32662号公报专利文献2 日本特开2001-215716号公报如上所述，由于基板和曝光掩膜因抽真空而紧贴，所以，需要在曝光结束后将两者 迅速揭离的工序。但是，在像内层基板这样，尤其是基板薄、柔软的情况下，由于基板挠曲， 仅在进行基于跃出销或鼓风的揭离时，力被释放，难以迅速剥离基板整体，揭离需要时间。因此，本发明鉴于这样的问题，是特别解决内层基板用曝光装置中的上述问题发 明，其目的在于，提供具备能够尽快且切实地使基板从曝光掩膜剥离的功能的内层基板用 曝光装置以及能够尽快且切实地使基板从曝光掩膜剥离的基板和曝光掩膜的剥离方法。
发明内容
为解决上述课题，第一发明是一种内层基板用曝光装置，是在曝光平台上和配设 在该曝光平台的上方的上框上分别配置曝光掩膜，能够将规定的图案曝光在配置在两者之 间的基板的两面的内层基板用曝光装置，其特征在于，在上述曝光平台和上述上框这两者上具备进行突出动作，将上述基板向从上述曝 光掩膜剥下的方向推压的推进器，并在上述推进器前端部具备相对于上述基板和上述曝光 掩膜之间喷出气体的喷嘴，上述喷嘴连接于与上述推进器的突出动作相吻合地使气体喷出的气体供给构件。根据该结构，因为在推进器将基板向从曝光掩膜剥下的方向推压的基础上，使气体喷出，强制地使之剥离，所以，即使在基板薄、容易挠曲的情况下，也能够迅速地将基板从 曝光掩膜剥下。因此，能够在短时间解除基板和曝光掩膜之间的负压，能够缩短曝光装置的 曝光周期。第二发明是在第一发明的结构中，其特征在于，上述推进器设置在推压上述基板 的端部的部位，上述喷嘴以向作为剥离对象的基板的中央喷出气体的方式形成在推进器前 端部。根据该结构，因为从喷嘴喷出的气体从基板的端部向中央部喷射，所以，更容易剥 下。第三发明是在第一或第二发明的结构中，其特征在于，设置在上述曝光平台上的 推进器的喷嘴在推进器为没入状态，也处于与曝光平台上连通的状态，并且，连接有在上述 推进器为没入状态时，从上述喷嘴吸引空气的空气吸引构件。根据该结构，因为推进器的喷嘴在气体喷出进行的基板的剥离操作的基础上，还 吸引空气，进行基板的紧贴，所以，能够迅速地实施基板的揭离和紧贴这两者。因此，能够进 一步缩短曝光装置的曝光周期，能够通过使推进器具备多种功能来抑制曝光平台的成本。第四发明是在第一至第三发明的任一项发明的结构中，其特征在于，在上述气体 供给构件和上述喷嘴之间，设置生成具有除静电作用的离子化气体的离子发生器，从上述 喷嘴喷出的气体具有除静电作用。根据该结构，因为从喷嘴喷出的气体具有除静电作用，所以，能够除去在曝光掩膜 和基板之间带电的静电，两者更容易剥下，此外，还能够防止静电造成的尘土等的附着。第五发明是一种基板和曝光掩膜的剥离方法，所述基板和曝光掩膜的剥离方法是 在曝光平台和配设在曝光平台的上方的上框的至少任意一个上配置曝光掩膜，由上述曝光 平台和上述上框夹入基板并进行曝光的曝光装置中，为了将上述基板从上述曝光掩膜剥 下，在上述曝光平台和上述上框的至少任意一个上，通过上述曝光掩膜，设置向基板方向进 行突出动作的推进器，使上述推进器突出，上推上述基板的一端，其特征在于，在上述推进 器上设置向上述基板和上述曝光掩膜之间喷出气体的喷嘴，一面由上述推进器上推上述基 板，一面使气体从上述喷嘴喷出，促进剥离。根据该方法，即使在基板薄、容易挠曲的情况下，也能够迅速地将基板从曝光掩膜 剥下。第六发明是在第五发明记载的方法中，其特征在于，从上述喷嘴喷出的气体是发 挥除去在上述基板和上述曝光掩膜之间产生的静电的作用的离子化的气体。根据该方法，由于从喷嘴1喷出的气体具有除静电作用，所以，在使基板剥离时， 能够除去在曝光掩膜和基板之间产生的静电，两者更容易剥下。发明效果根据本发明，因为在推进器将基板向从曝光掩膜剥下的方向推压的基础上，使气 体喷出，强制地使之剥离，所以，即使在基板薄、容易挠曲的情况下，也能够迅速地将基板从 曝光掩膜剥下。
图1是表示有关本发明的内层基板曝光装置的一例的主视图。
图2是图1的Al部放大说明图，(a)表示推进器没入状态，(b)表示推进器突出状 态。图3是图1的A2部放大说明图，(a)表示推进器没入状态，(b)表示推进器突出状 态。图4是推进器前端部的说明图，(a)是图2的A3部放大图，(b)是A4部放大图。图5是喷嘴喷出或吸引的气体的控制系统的说明图，表示使曝光掩膜紧贴基板的 状态。图6是基板投入动作的说明图，表示基板被运送到了曝光平台上的状态。图7是基板投入动作的说明图，表示将基板交接到了曝光平台的状态。图8是将曝光时的推进器附近放大了的剖视说明图。图9是基板排出动作的说明图，是使上框上升了的图。图10是基板排出动作的说明图，是将曝光工作台上的基板向排出承载器交接的 图。图11是基板排出的动作说明图，是从曝光工作台剥下了基板的图。
具体实施例方式下面，根据附图，详细说明将本发明具体化的实施方式。图1是表示有关本发明的 内层基板用曝光装置的一例的主视图，1是载置被投入的基板(如图2所示)10，设定了用 于将规定的图案曝光在该基板10的一个面上的曝光掩膜的曝光平台，2是设定了用于将规 定的图案曝光在基板10的另一个面上的曝光掩膜的上框，3是用于将基板10向曝光平台1 上投入的投入承载器，4是投入输送器，5是用于排出曝光的基板10的排出承载器，6是排出 输送器，7 (7a、7b)是UV照射装置，12a是对紧贴曝光平台1的基板10进行剥离操作的下侧 推进器，12b是对紧贴上框2的基板10进行剥离操作的上侧推进器。下侧推进器12a以及 上侧推进器12b与对应的基板10相吻合地分别设置在两个部位。图2是将图1的Al部放大了的说明图，是下侧推进器12a的剖视说明图。表示设 定了基板10以及曝光掩膜11 (下侧曝光掩膜Ila)的状态。然后，图2(a)表示将下侧推进 器12a前端收容在曝光平台1内的没入状态，图2(b)表示使之突出，提升了基板10的一端 的状态。下侧推进器12a以与设置在曝光平台1上的曝光掩膜保持板Ia正交的方式被直 立设置在曝光平台1的背面，通过空气缸15的驱动，从形成在曝光平台1上的推进器插通 孔Ib向曝光掩膜保持板Ia上进行出没动作。在对应的下侧曝光掩膜Ila上也形成插通孔 18，若设置在曝光平台1的背面的下侧推进器12a进行突出动作，则如图2(b)所示，直接推 压基板10。图3是图1的A2部放大了的说明图，是上侧推进器12b的剖视说明图。表示设定 了基板10以及曝光掩膜11 (上侧曝光掩膜lib)的状态。然后，图3(a)表示将上侧推进器 12b前端收容在上框2内的没入状态，图3 (b)表示使之突出，剥下了基板10的一端的状态。上侧推进器12b以与设置在上框2上的曝光掩膜保持板2a正交的方式被起立设 置在上框2的背面，通过空气缸16的驱动，从形成在上框2上的推进器插通孔2b向曝光掩 膜保持板2a上进行出没动作。在对应的上侧曝光掩膜lib上也形成插通孔18，若设置在上框2的背面的上侧推进器12b进行突出动作，则如图3(b)所示，直接推压基板10。图4是推进器前端部的说明图，图4 (a)是将图2的A3部放大了的剖视图，图4 (b) 表示图2的A4部放大了的剖视图。虽然该图4表示了下侧推进器12a的前端部，但由于上 侧推进器12b的前端部也是同样的形状，所以，以下侧推进器12a为代表进行说明。如该图4所示，下侧推进器12a具有推压基板10的平坦的前端面20，在该前端面 20附近的侧部，形成用于喷出气体的喷嘴21。喷嘴21形成为略向前端方向倾斜，与沿推进 器中心轴向后方延伸设置的通孔22连通，从与下侧推进器12a的后端部连接的配管23 (如 图2、图3所示)供给空气。另外，形成在曝光平台1上的推进器插通孔Ib的曝光掩膜保持板Ia侧端部形成 锥面24，宽度扩大地形成，处于没入状态的下侧推进器12a的喷嘴21以与曝光平台1上连 通的方式形成。上框2的推进器插通孔2b虽未被图示出，但也同样形成锥面，处于没入状 态的上侧推进器12b的喷嘴21以与上框2的曝光掩膜保持板2a上连通的方式形成。另外，Bl是按表示从喷嘴21吸引的空气的流动的箭头，在后述的投入基板10时 实施。然后，箭头B2表示从喷嘴21喷出的空气的流动。图5是从喷嘴21喷出或吸引的气体的控制系统的说明图，表示使下侧曝光掩膜 11a、上侧曝光掩膜lib紧贴基板10的状态。下侧推进器12a的通孔22经对喷出的空气进 行控制的第一方向控制阀30、将空气离子化的离子发生器31与空压源32连接。另外，通过 分支的配管，经对吸引的空气进行控制的第二方向控制阀33与吸引源34连接。另一方面，上侧推进器12b的通孔22经第三方向控制阀35与离子发生器31连接， 供给从相同的空压源32喷出的空气。离子发生器31将从空压源32供给的空气离子化成 除去在对基板10进行揭离操作时产生的静电的极性。另外，在曝光平台1上以包围曝光掩膜保持板Ia的方式配设橡胶护提37，在由橡 胶护提37包围的内侧设置吸引孔38。该吸引孔38经第四方向控制阀39与吸引源34连 接，对由橡胶护提37包围的区域进行吸引，使之成为真空，用于使基板10和曝光掩膜11紧 贴。这样构成的内层基板用曝光装置在上下的曝光掩膜保持板la、2a上设定曝光掩 膜11a、11b，在基板10被运入后，通过上下设置的UV照射装置7a、7b，基板10的表里被同 时曝光。其工序如下，参照图6至图11的动作说明图进行说明。图6、图7是基板10投入 动作的说明图，图8是将曝光时的推进器12a、12b附近放大了的说明图，图9 图11是基 板10排出动作的说明图。首先，图1所示的在投入输送器4上被预先定位(事先相对对位)的基板10如图 6所示，被投入承载器3的吸附垫3a吸附，向组装在曝光平台1上的下侧的曝光掩膜保持 板Ia上运送。此时，曝光平台1处于下降到了最下位位置的状态，在曝光平台1上确保运 入空间，投入承载器3进入曝光平台1上，将基板10向规定位置运送。另外，曝光平台1构 成为可由未表示出的升降构件升降。在基板10被运送到曝光平台1上后，曝光平台1上升到交接位置，如图7所示，下 侧曝光掩膜Ila抵接基板10的下面。抵接后，通过第二方向控制阀33以及吸引源34的作 用，如上述图4(a)的箭头Bi、图7的箭头B3所示，从下侧推进器12a的喷嘴21吸引空气， 基板10被吸附在曝光掩膜保持板Ia上。
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此后，投入承载器3的吸附垫3a进行的吸附被解除，曝光平台1下降到与交接位 置相比为略微下方的中间位置。这样，完成基板10的交接，交接了基板10的投入承载器3 返回投入输送器4上。接着，曝光平台1从中间位置上升到与上框2接触的真空前位置，使曝光平台1上 设置的橡胶护提37紧贴上框2，使吸引源34、第四方向控制阀39发挥作用，如上述图5的 箭头B4所示，从吸引孔38放掉由橡胶护提37分隔的空间的空气而成为大致真空状态。这 样，曝光平台1上升，直至基板10上面紧贴在上框2所具备的曝光掩膜保持板2a上设定的 上侧曝光掩膜1 Ib上，最终，如图8所示，成为上下的曝光掩膜1 la、1 Ib紧贴基板10的状态。这样，在曝光掩膜11紧贴基板10后，使上下的UV照射装置7a、7b起动，对基板 10的表里同时曝光。在曝光完成后，停止来自吸引孔38的吸引，解除上下的曝光掩膜保持 板la、2a的紧贴。此时，如图9所示，由上框2所具备的上侧推进器12b向从上侧曝光掩膜 lib揭离的方向(图示下方向)推基板10的一端，同时，如上述图3(b)的箭头B4所示，使 空气从喷嘴21喷出。通过空气缸16的驱动，上侧推进器12b进行突出动作，通过第三方向 控制阀35、离子发生器31、空压源32的作用，从喷嘴21喷出空气。此时，设置在基板10的两角的两个推进器12b突出，从喷嘴21 —起向基板10的 中心喷出被离子化的空气，基板10和上侧曝光掩膜lib的紧贴被强制解除。然后，曝光平台1下降到最下降位置。通过该曝光平台1的下降来确保排出承载 器5的进入区域。若排出承载器5进入曝光后的基板10上，则如图10所示，曝光平台1再次上升到 交接位置，使排出承载器5的吸附垫5a抵接基板10上面，吸附垫5a吸附基板10。此时，曝 光平台1所具备的下侧推进器12a突出，向从下侧曝光掩膜Ila揭离的方向(图示上方) 推基板10的端部，同时，如上述图4(b)的箭头B2所示，使空气从喷嘴21喷出。通过空气 缸15的驱动，下侧推进器12a进行突出动作，通过第一方向控制阀30、离子发生器31、空压 源32的作用，从喷嘴21喷出空气。这样，如图11所示，设置在基板10的两角的两个推进器12a突出，从喷嘴21 —起 向基板10的中心喷出被离子化的空气，基板10和下侧曝光掩膜Ila的紧贴被强制解除。然后，曝光平台1下降到最下降位置，张贴在吸附垫5a上的基板10离开曝光平台 1，完成交接。张贴在吸附垫5a上的基板10向排出输送器6上运送，曝光工序结束。这样，因为在推进器12a、12b向从曝光掩膜11剥下的方向推压基板10的基础上， 使空气喷出，强制地使之剥离，所以，不存在基板10产生翘曲，基板就这样被张贴在曝光掩 膜11上的情况，即使是在基板10薄，容易挠曲的情况下，也能够迅速地将基板10从曝光掩 膜11剥下。因此，能够在短时间解除基板和曝光掩膜之间的负压，能够缩短曝光装置的曝 光周期。另外，因为从喷嘴21喷出的气体从基板10的一端向中央部喷射，所以，更容易剥 下。再有，因为下侧推进器12a的喷嘴21在气体喷出进行的基板10的揭离操作的基 础上，还吸引空气，进行基板10的紧贴操作，所以，能够迅速地实施基板10的揭离和紧贴这 两者。因此，能够进一步缩短曝光装置的曝光周期，能够通过使推进器12a具备多种功能来 抑制曝光平台1的成本。
另外，由于从喷嘴21喷出的空气具有除静电作用，所以，能够除去在使基板10剥 离时在曝光掩膜11和基板10之间产生的静电，两者更容易剥下。另外，虽然在上述实施方式中，与基板10相吻合在两个部位配置了推进器12，但 是，推进器12的数量也可以根据基板10的大小、厚度来变更，在基板大的情况下，也可以在 曝光平台1以及上框2上分别在四个部位设置。另外，虽然在曝光平台1的推进器插通孔Ib的前端部设置锥面24，使喷嘴21不会 阻塞，但是，也可以在下侧推进器12a侧设置凹部，从下侧推进器12a没入状态的喷嘴21到 曝光平台1上面设置气体的通路。再有，虽然从喷嘴21喷出的气体是空气，但是，也可以是不会影响环境的例如氮气。符号说明1 曝光平台；2 上框；10 基板；Il(IlaUlb)曝光掩膜；12a 下侧推进器(推进 器)；12b:上侧推进器(推进器)；21 喷嘴；24:锥面；30:第一方向控制源(气体供给构 件)；31 离子发生器；33 第二方向控制阀(空气吸引构件)；32 空压源(气体供给构件)； 34:吸引源(空气吸引构件)；35:第三方向控制阀(气体供给构件)。
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权利要求
一种内层基板用曝光装置，是在曝光平台上和配设在该曝光平台的上方的上框上分别配置曝光掩膜，能够将规定的图案曝光在配置在两者之间的基板的两面的内层基板用曝光装置，其特征在于，在上述曝光平台和上述上框这两者上具备进行突出动作，将上述基板向从上述曝光掩膜剥下的方向推压的推进器，并在上述推进器前端部具备相对于上述基板和上述曝光掩膜之间喷出气体的喷嘴，上述喷嘴连接于与上述推进器的突出动作相吻合地使气体喷出的气体供给构件。
2.如权利要求1所述的内层基板用曝光装置，其特征在于，上述推进器设置在推压上 述基板的端部的部位，上述喷嘴以向作为剥离对象的基板的中央喷出气体的方式形成在推 进器前端部。
3.如权利要求1或2所述的内层基板用曝光装置，其特征在于，设置在上述曝光平台上 的推进器的喷嘴在推进器为没入状态，也处于与曝光平台上连通的状态，并且，连接有在上 述推进器为没入状态时，从上述喷嘴吸引空气的空气吸引构件。
4.如权利要求1或2所述的内层基板曝光装置，其特征在于，在上述气体供给构件和上 述喷嘴之间，设置生成具有除静电作用的离子化气体的离子发生器，从上述喷嘴喷出的气 体具有除静电作用。
5.如权利要求3所述的内层基板曝光装置，其特征在于，在上述气体供给构件和上述 喷嘴之间，设置生成具有除静电作用的离子化气体的离子发生器，从上述喷嘴喷出的气体 具有除静电作用。
6.一种基板和曝光掩膜的剥离方法，所述基板和曝光掩膜的剥离方法是在曝光平台和 配设在曝光平台的上方的上框的至少任意一个上配置曝光掩膜，由上述曝光平台和上述上 框夹入基板并进行曝光的曝光装置中，为了将上述基板从上述曝光掩膜剥下，在上述曝光 平台和上述上框的至少任意一个上，通过上述曝光掩膜，设置向基板方向进行突出动作的 推进器，使上述推进器突出，上推上述基板的一端，其特征在于，在上述推进器上设置向上述基板和上述曝光掩膜之间喷出气体的喷嘴，一面由上述推 进器上推上述基板，一面使气体从上述喷嘴喷出，促进剥离。
7.如权利要求6所述的基板和曝光掩膜的剥离方法，其特征在于，从上述喷嘴喷出的 气体是发挥除去在上述基板和上述曝光掩膜之间产生的静电的作用的离子化的气体。
全文摘要
本发明公开了一种内层基板用曝光装置以及基板和掩膜的剥离方法，本发明所要解决的技术问题是，使基板能尽早且切实地从曝光掩膜剥离。本发明中，在曝光平台(1)和上框(2)这两者上，设置进行突出动作，将基板(10)的一端向从曝光掩膜(11)剥下的方向推压的推进器(12)，在推进器(12)上形成相对于基板(10)和曝光掩膜(11)之间喷出气体的喷嘴(21)。推进器(12)被设置在推压基板(10)的端部的部位，喷嘴(21)以向作为剥离对象的基板(10)的中央喷出气体的方式形成，从喷嘴(21)喷出的气体是具有除静电作用的被离子化的气体。
文档编号G03F7/20GK101930182SQ201010202930
公开日2010年12月29日 申请日期2010年6月11日 优先权日2009年6月23日
发明者猿渡义德 申请人:丰和工业株式会社