专利名称：显示基板的制作方法、显示基板及显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及显示器制造技术领域，具体涉及一种显示基板的制作方法、采用该方法制成的显示基板、以及包括所述显示基板的显示装置。
背景技术：
随着显示器制造技术的发展，液晶显示器技术发展迅速，已经取代了传统的显像管显示器而成为未来平板显示器的主流。在液晶显示器技术领域中，TFT-IXD (Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)以其大尺寸、高度集成、功能强大、工艺灵活、低成本等优势而广泛应用于电视机、电脑、手机等领域。其中，TN (扭曲向列，Twisted Nematic)型TFT-LCD由于输出灰阶级数较少，液晶分子偏转速度快，故响应时间短，且成本较低，因而在液晶显示器领域得到广泛应用；ADSDS (高级超维场转换技术，ADvanced Super Dimension Switch,简称ADS)型TFT-LCD由于具有高分辨率、高透过率、低功耗、宽视角、高开口率、低色差、无挤压水波纹(push Mura)等优点，更加广泛应用于液晶显示器领域。显示面板是TFT-IXD的主要部件之一，所述显示面板一般由阵列基板和彩膜(CF，Color Filter)基板进行对盒，并在阵列基板与彩膜基板之间填充液晶而成。其中，所述阵列基板上设置有多根相互平行的栅线以及多根相互平行的数据线，所述多根栅线与所述多根数据线交叉定义多个像素单元，每个像素单元均包括一个TFT元件(包括栅电极、半导体层、源电极和漏电极)及一个像素电极。现有的TN型TFT-IXD中彩膜基板的制作工艺一般包括在衬底基板上依次形成黑矩阵(BM，Black Matrix)、红色滤色区域、绿色滤色区域、蓝色滤色区域、段差消除层(0C，Over Coat)、公共电极以及隔垫物(Spacer)等共七次构图工艺；现有的ADS型TFT-LCD中彩膜基板的制作工艺一般包括在衬底基板上依次形成背面屏蔽电极(B-IT0)、黑矩阵、红色滤色区域、绿色滤色区域、蓝色滤色区域、段差消除层以及隔垫物等共七次构图工艺。在上述彩膜基板的制作工艺中，所述衬底基板上未被黑矩阵覆盖的地方形成多个像素区域(或者称为子像素开口区域)，且彩膜基板上的每个像素区域均与阵列基板上的一个不同的像素单元相对应，以使得阵列基板与彩膜基板对盒后，所述多个像素区域分别与所述多个像素单元的位置相对。由于每次构图工艺均需要把掩模板图形转移到薄膜图形上，且每一层薄膜图形都需要精确地覆盖在另一层薄膜图形上，而在彩膜基板的制作过程中，所用到的掩模板的次数越少，则生产效率越高，生产成本越低，因此，如何进一步减少构图工艺的次数，提高生产效率，降低生产成本是行业内亟待解决的问题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中所存在的上述缺陷，提供一种能够减少构图工艺次数的显示基板的制作方法、采用该方法制成的显示基板、以及包括所述显示基板的显示装置。解决本发明技术问题所采用的技术方案
所述显示基板的制作方法包括在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤，其中，所述隔垫物采用不透光的材料形成，并且所述隔垫物图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。优选地，所述隔垫物采用黑色不透光树脂形成。优选地，所述隔垫物包括主隔垫物、次隔垫物和隔墙，所述次隔垫物的高度介于主隔垫物的高度和隔墙的高度之间，所述隔墙设置在主隔垫物与次隔垫物之间，并且所述主隔垫物与次隔垫物间隔设置。优选地，所述在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤包括在衬底基板上形成隔垫物薄膜；在上述形成有隔垫物薄膜的衬底基板上形成一层光刻胶；·对所述光刻胶进行曝光、显影，以在所述衬底基板上形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域以及光刻胶完全去除区域，所述光刻胶完全保留区域对应于形成所述主隔垫物图形，所述光刻胶部分保留区域对应于形成所述次隔垫物图形，所述光刻胶完全去除区域对应于形成所述隔墙图形；对所述衬底基板上的光刻胶完全去除区域进行刻蚀，以形成隔墙图形；对形成有隔墙图形的衬底基板进行灰化处理，以灰化掉所述光刻胶部分保留区域的光刻胶，然后对所述衬底基板再次进行刻蚀，以形成次隔垫物图形；在次隔垫物图形形成后，将所述光刻胶完全保留区域的光刻胶剥离，以形成主隔垫物图形。优选地，在所述衬底基板上形成隔垫物图形的步骤之前还包括在所述衬底基板上形成滤色膜层图形的步骤。优选地，所述制作方法还包括在衬底基板上未形成有滤色膜层的一侧形成背面屏蔽电极图形的步骤；所述隔垫物图形直接形成在滤色膜层图形上。优选地，在所述衬底基板上形成隔垫物图形的步骤之前还包括在所述滤色膜层图形上形成公共电极图形的步骤；所述隔垫物图形直接形成在公共电极图形上。本发明同时提供一种显示基板，包括衬底基板及设置在其上的隔垫物，其中，所述隔垫物采用不透光的材料制成，并且所述隔垫物组成图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。优选地，所述隔垫物采用黑色不透光树脂制成。优选地，所述隔垫物包括主隔垫物、次隔垫物和隔墙，所述次隔垫物的高度介于主隔垫物的高度和隔墙的高度之间，所述隔墙设置在主隔垫物与次隔垫物之间，并且所述主隔垫物与次隔垫物间隔设置。优选地，所述显示基板还包括滤色膜层，所述滤色膜层设置在衬底基板与隔垫物之间。优选地，所述显示基板还包括背面屏蔽电极，所述背面屏蔽电极设置在衬底基板上未设置有滤色膜层的一侧。优选地，所述显示基板还包括公共电极，所述公共电极设置在滤色膜层上，所述隔垫物设置在公共电极上。本发明同时还提供一种包括所述显示基板的显示装置。
有益效果I)本发明所述显示基板由于采用不透光的隔垫物取代了现有的黑矩阵，且所述隔垫物既起到现有隔垫物支撑盒厚的作用，又起到现有黑矩阵防止漏光和增加对比度的作用，因而省略了黑矩阵的制作工序；2)本发明所述显示基板既可以为彩膜基板，也可以为阵列基板。现有的彩膜基板中，由于衬底基板上未被黑矩阵覆盖的地方形成了多个像素区域，且滤色膜层形成在该黑矩阵上，使得形成有滤色膜层的衬底基板上存在段差，不利于后续工艺中隔垫物的形成，因而在形成隔垫物前需在滤色膜层上形成段差消除层以消除段差，若本发明所述显示基板为彩膜基板，则由于省略了黑矩阵，也就不存在段差的问题，故同时也省略了段差消除层的制作工序。
图I为本发明实施例2中所述彩膜基板的制作方法流程图； 图2为本发明实施例3中所述彩膜基板的制作方法流程图；图3为本发明实施例4中所述隔垫物的局部结构示意图，其中，图3(a)为俯视图，图3 (b)为主视图。图中1_主隔垫物；2_次隔垫物；3_隔墙。
具体实施例方式为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和实施例对本发明显示基板的制作方法、采用该方法制成的显示基板、以及包括所述显示基板的显示装置作进一步详细描述。实施例I :本实施例提供一种显示基板的制作方法，其包括在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤，其中，所述隔垫物采用不透光的材料形成，并且所述隔垫物图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。需要说明的是，所述显示基板既可以为彩膜基板也可以为阵列基板，故所述隔垫物图形既可以形成在彩膜基板上也可以形成在阵列基板上。优选所述隔垫物采用黑色不透光树脂(即负性光刻胶)形成。优选所述隔垫物包括主隔垫物、次隔垫物和隔墙，所述次隔垫物的高度介于主隔垫物的高度和隔墙的高度之间，所述隔墙设置在主隔垫物与次隔垫物之间，并且所述主隔垫物与次隔垫物间隔设置。所述在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤包括主隔垫物图形形成步骤，次隔垫物图形形成步骤，以及隔墙图形形成步骤。具体地，所述形成隔垫物图形的步骤包括在衬底基板上形成隔垫物薄膜；在上述形成有隔垫物薄膜的衬底基板上形成一层光刻胶；对所述光刻胶进行曝光、显影，以在所述衬底基板上形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域以及光刻胶完全去除区域，所述光刻胶完全保留区域对应于形成所述主隔垫物图形，所述光刻胶部分保留区域对应于形成所述次隔垫物图形，所述光刻胶完全去除区域对应于形成所述隔墙图形；对所述衬底基板上的光刻胶完全去除区域进行刻蚀，以形成隔墙图形；对形成有隔墙图形的衬底基板进行灰化处理，以灰化掉所述光刻胶部分保留区域的光刻胶，然后对所述衬底基板再次进行刻蚀，以形成次隔垫物图形；在次隔垫物图形形成后，将所述光刻胶完全保留区域的光刻胶剥离，以形成主隔垫物图形。本实施例所述显示基板中采用不透光材料形成的隔垫物既能起到现有隔垫物支撑盒厚的作用，又能起到现有黑矩阵防止漏光和增加对比度的作用，因而可省略现有黑矩阵的制作工序，进而也不需要设置段差消除层，相应提高了生产效率、降低了生产成本。实施例2
以本发明所述显示基板为彩膜基板为例，如图I所示，本实施例提供一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板中的滤色膜层包括红色滤色区域、绿色滤色区域以及蓝色滤色区域，所述隔垫物采用黑色不透光树脂(即负性光刻胶)形成，所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤slOl.在衬底基板上形成背面屏蔽电极图形。具体的，在衬底基板上形成背面屏蔽电极薄膜(即B-ITO薄膜)，然后在所述背面屏蔽电极薄膜上涂敷一层光刻胶，采用掩模板对所述光刻胶进行曝光、显影，所述光刻胶保留区域对应于形成背面屏蔽电极图形，再对暴露出来的背面屏蔽电极薄膜进行刻蚀，最后将所述光刻胶剥离，从而形成背面屏蔽电极图形。所述背面屏蔽电极一般与设置在彩膜基板或阵列基板中的接地点(GroundDotting)相连，用于将来自外界的静电电荷通过接地点耗散掉，可有效避免来自外界的静电和电磁干扰。sl02.在完成步骤SlOl的衬底基板上未形成有背面屏蔽电极图形的一侧分别形成红色滤色区域图形、绿色滤色区域图形以及蓝色滤色区域图形(即背面屏蔽电极形成在衬底基板的一侧，滤色膜层形成在衬底基板的另一侧)。优选所述红色滤色区域采用红色像素树脂制成，所述绿色滤色区域采用绿色像素树脂制成，所述蓝色滤色区域采用蓝色像素树脂制成。本步骤中，所述红色滤色区域图形、绿色滤色区域图形以及蓝色滤色区域图形的形成顺序不限。下面以在完成步骤SlOl的衬底基板上未形成有背面屏蔽电极图形的一侧依次形成红色滤色区域图形、绿色滤色区域图形与蓝色滤色区域图形为例对步骤S102进行详细说明。所述步骤s 102具体为S102-1.在完成步骤SlOl的衬底基板上未形成有背面屏蔽电极图形的一侧形成红色像素树脂薄膜，然后在其上涂敷一层光刻胶，采用掩模板对所述光刻胶进行曝光、显影，所述光刻胶保留区域对应于形成红色滤色区域图形，再对暴露出来的红色像素树脂薄膜进行刻蚀，最后将所述光刻胶剥离，从而形成红色滤色区域图形。S102-2.在完成步骤S102-1的衬底基板上形成有红色滤色区域图形的一侧形成绿色像素树脂薄膜，然后在其上涂敷一层光刻胶，采用掩模板对所述光刻胶进行曝光、显影，所述光刻胶保留区域对应于形成绿色滤色区域图形，再对暴露出来的绿色像素树脂薄膜进行刻蚀，最后将所述光刻胶剥离，从而形成绿色滤色区域图形。S102-3.在完成步骤S102-2的衬底基板上形成有绿色滤色区域图形的一侧形成蓝色像素树脂薄膜，然后在其上涂敷一层光刻胶，采用掩模板对所述光刻胶进行曝光、显影，所述光刻胶保留区域对应于形成蓝色滤色区域图形，再对暴露出来的蓝色像素树脂薄膜进行刻蚀，最后将所述光刻胶剥离，从而形成蓝色滤色区域图形。sl03.在完成步骤sl02的衬底基板上形成有红色滤色区域图形、绿色滤色区域图形与蓝色滤色区域图形的一侧形成隔垫物图形，所述隔垫物图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。优选所述隔垫物图形为网格状。
所述步骤s 103具体为S103-1.在所述衬底基板上形成有红色滤色区域图形、绿色滤色区域图形与蓝色滤色区域图形的一侧形成隔垫物薄膜；sl03-2.在完成步骤S103-1的衬底基板上形成一层光刻胶，采用半色调掩模板或灰色调掩模板对所述光刻胶进行曝光、显影，以在所述衬底基板上形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域以及光刻胶完全去除区域，所述光刻胶完全保留区域对应于形成所述主隔垫物图形，所述光刻胶部分保留区域对应于形成所述次隔垫物图形，所述光刻胶完全去除区域对应于形成所述隔墙图形；S103-3.对完成步骤S103-2的衬底基板上的光刻胶完全去除区域进行刻蚀，以形成隔墙图形；S103-4.对完成步骤S103-3的衬底基板进行灰化处理，以灰化掉所述光刻胶部分保留区域的光刻胶，然后对所述衬底基板再次进行刻蚀，以形成次隔垫物图形；S103-5.将所述光刻胶完全保留区域的光刻胶剥离，以形成主隔垫物图形。从步骤S103可以看出，所述主隔垫物图形高于次隔垫物图形，所述次隔垫物图形高于隔墙图形，即所述隔垫物图形中存在段差，这是因为阵列基板与彩膜基板之间填充有液晶，隔垫物图形中存在的段差可以使得显示面板(由阵列基板和彩膜基板对盒并填充液晶而成)在受到挤压时，其内填充的液晶量可在一定范围内波动。当然，由于所述背面屏蔽电极图形形成在衬底基板的一侧，滤色膜层图形及隔垫物图形依次形成在衬底基板的另一侧，故所述背面屏蔽电极图形可在滤色膜层图形及隔垫物图形依次形成在衬底基板上之后再形成，或者所述背面屏蔽电极图形也可在滤色膜层图形形成在衬底基板上之后再形成，也即所述步骤SlOl可在步骤sl03之后，也可在步骤sl02与步骤s 103之间。可见，本实施例中制成的彩膜基板为改进后的ADS模式的彩膜基板，其只需要五次构图工艺即可(步骤slOl需一次构图工艺、步骤sl02需三次构图工艺、步骤sl03需一次构图工艺)，与现有技术中需七次构图工艺相比，节约了两次构图工艺(即节约了黑矩阵制作工序和段差消除层制作工序)，从而在一定程度上提高了生产效率，降低了生产成本。需要说明的是，所述滤色膜层不限于包括红色滤色区域、绿色滤色区域以及蓝色滤色区域的情况，对于本领域技术人员能想到的所有颜色及其组合或变型形成的滤色膜层都可以作为本发明实施例中所述的滤色膜层。所述隔垫物也不限于采用黑色不透光树脂(即负性光刻胶)形成的隔垫物，对于本领域技术人员能想到的所有黑色不透光材料所形成的能起到防止漏光作用的隔垫物都可以作为本发明实施例中所述的隔垫物。所述彩膜基板也可以不包括滤色膜层，所述滤色膜层可设置在阵列基板上，例如设置在阵列基板中的衬底基板与偏光片之间。本实施例中的其他方法及作用都与实施例I相同，这里不再赘述。实施例3 以本发明所述显示基板为彩膜基板为例，如图2所示，本实施例提供一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板中的滤色膜层包括红色滤色区域、绿色滤色区域以及蓝色滤色区域，所述隔垫物采用黑色不透光树脂(即负性光刻胶)形成，所述彩膜基板的制作方法包括如下步骤s201.在衬底基板上分别形成红色滤色区域图形、绿色滤色区域图形以及蓝色滤色区域图形。
本步骤中，所述红色滤色区域图形、绿色滤色区域图形以及蓝色滤色区域图形的形成顺序不限，且所述红色滤色区域图形、绿色滤色区域图形以及蓝色滤色区域图形的形成方法与实施例2中的步骤sl02相同，不再赘述。s202.在完成步骤s201的衬底基板上(即在红色滤色区域图形、绿色滤色区域图形以及蓝色滤色区域图形上)形成公共电极图形。具体的，在完成步骤s201的衬底基板上形成公共电极薄膜(即ITO薄膜)，然后在所述公共电极薄膜上涂敷一层光刻胶，采用掩模板对所述光刻胶进行曝光、显影，所述光刻胶保留区域对应于形成公共电极图形，再对暴露出来的公共电极薄膜进行刻蚀，最后将所述光刻胶剥离，从而形成公共电极图形。s203.在完成步骤s202的衬底基板上(即在公共电极图形上)形成隔垫物图形，所述隔垫物图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。优选所述隔垫物图形为网格状。本步骤中，所述隔垫物图形的形成方法与实施例2中的步骤S103相同，不再赘述。可见，本实施例中制成的彩膜基板为改进后的TN模式的彩膜基板，其只需要五次构图工艺即可(步骤s201需三次构图工艺、步骤s202需一次构图工艺、步骤s203需一次构图工艺)，与现有技术中需七次构图工艺相比，节约了两次构图工艺(即节约了黑矩阵制作工序和段差消除层制作工序)，从而在一定程度上提高了生产效率，降低了生产成本。需要说明的是，所述滤色膜层不限于包括红色滤色区域、绿色滤色区域以及蓝色滤色区域的情况，对于本领域技术人员能想到的所有颜色及其组合或变型形成的滤色膜层都可以作为本发明实施例中所述的滤色膜层。所述隔垫物也不限于采用黑色不透光树脂(即负性光刻胶)形成的隔垫物，对于本领域技术人员能想到的所有黑色不透光材料所形成的能起到防止漏光作用的隔垫物都可以作为本发明实施例中所述的隔垫物。所述彩膜基板也可以不包括滤色膜层，所述滤色膜层可设置在阵列基板上，例如设置在阵列基板中的衬底基板与偏光片之间。本实施例中的其他方法及作用都与实施例I相同，这里不再赘述。实施例4 本实施例提供一种显示基板，其包括衬底基板及设置在其上的隔垫物，其中，所述隔垫物采用不透光的材料制成，并且所述隔垫物组成的图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。需要说明的是，所述显示基板既可以为彩膜基板也可以为阵列基板，故所述隔垫物图形既可以设置在彩膜基板上，也可以设置在阵列基板上。本实施例所述显示基板中采用不透光材料制成的隔垫物既能起到现有隔垫物支撑盒厚的作用，又能起到现有黑矩阵防止漏光和增加对比度的作用，因而可取代现有黑矩阵，进而也不需要设置段差消除层，相应提高了生产效率、降低了生产成本。优选所述隔垫物采用黑色不透光树脂(即负性光刻胶)制成。优选地，如图3所示，本实施例中，所述隔垫物可以包括多个主隔垫物I、多个次隔垫物2、以及设置在所述多个主隔垫物与多个次隔垫物之间的隔墙3，所述多个主隔垫物I与所述多个次隔垫物2间隔设置，所述次隔垫物2的高度介于所述主隔垫物I的高度和隔 墙3的高度之间，并且所述主隔垫物I与次隔垫物2间隔设置。可以看出，所述主隔垫物I、次隔垫物2以及隔墙3之间存在段差，使得显示面板(例如由阵列基板和彩膜基板对盒并填充液晶而成的显示面板)在受到挤压时，其内填充的液晶量可在一定范围内波动。实施例5 以本发明所述显示基板为彩膜基板为例，本实施例提供一种彩膜基板，其包括衬底基板、背面屏蔽电极、滤色膜层以及隔垫物；所述背面屏蔽电极设置在衬底基板上，所述滤色膜层设置在衬底基板上未设置有背面屏蔽电极的一侧，所述隔垫物设置在滤色膜层上。所述隔垫物呈网格状且采用不透光的材料制成，并且所述隔垫物组成的图形在所述衬底基板分隔出多个像素区域。优选所述隔垫物采用黑色不透光树脂(即负性光刻胶)形成。优选所述滤色膜层包括红色滤色区域、绿色滤色区域以及蓝色滤色区域。优选所述像素区域沿其短边的方向排列成多行，且每行均包括多个像素区域，位于同一行的多个像素区域均对应同一颜色的滤色区域以形成该颜色的滤色区域行，即形成红色滤色区域行、绿色滤色区域行和蓝色滤色区域行；不同颜色的滤色区域行依次循环排列，即所述红色滤色区域行、绿色滤色区域行和蓝色滤色区域行依次循环排列。优选所述不同颜色的滤色区域行依次循环排列时，相邻两个不同颜色的滤色区域行中的滤色区域间隔一定距离或相接或交叠。本实施例中的其他结构及作用都与实施例4相同，这里不再赘述。实施例6 以本发明所述显示基板为彩膜基板为例，本实施例提供一种彩膜基板，其包括衬底基板、设置在衬底基板上的滤色膜层、设置在滤色膜层上的公共电极以及设置在公共电极上的隔垫物。所述隔垫物呈网格状且采用不透光的材料制成，并且所述隔垫物组成的图形在所述衬底基板分隔出多个像素区域。优选所述隔垫物采用黑色不透光树脂(即负性光刻胶)形成。优选所述滤色膜层包括红色滤色区域、绿色滤色区域以及蓝色滤色区域。优选所述像素区域沿其短边的方向排列成多行，且每行均包括多个像素区域，位于同一行的多个像素区域均对应同一颜色的滤色区域以形成该颜色的滤色区域行，即形成红色滤色区域行、绿色滤色区域行和蓝色滤色区域行；不同颜色的滤色区域行依次循环排列，即所述红色滤色区域行、绿色滤色区域行和蓝色滤色区域行依次循环排列。
优选所述不同颜色的滤色区域行依次循环排列时，相邻两个不同颜色的滤色区域行中的滤色区域间隔一定距离或相接或交叠。本实施例中的其他结构及作用都与实施例4相同，这里不再赘述。实施例7 本实施例提供一种显示装置，包括实施例4飞中任一项所述的显示基板。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
权利要求
1.一种显示基板的制作方法，包括在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤，其中，所述隔垫物采用不透光的材料形成，并且所述隔垫物图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。
2.根据权利要求I所述的制作方法，其特征在于，所述隔垫物采用黑色不透光树脂形成。
3.根据权利要求I所述的制作方法，其特征在于，所述隔垫物包括主隔垫物、次隔垫物和隔墙，所述次隔垫物的高度介于主隔垫物的高度和隔墙的高度之间，所述隔墙设置在主隔垫物与次隔垫物之间，并且所述主隔垫物与次隔垫物间隔设置。
4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤包括 在衬底基板上形成隔垫物薄膜； 在上述形成有隔垫物薄膜的衬底基板上形成一层光刻胶； 对所述光刻胶进行曝光、显影，以在所述衬底基板上形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域以及光刻胶完全去除区域，所述光刻胶完全保留区域对应于形成所述主隔垫物图形，所述光刻胶部分保留区域对应于形成所述次隔垫物图形，所述光刻胶完全去除区域对应于形成所述隔墙图形； 对所述衬底基板上的光刻胶完全去除区域进行刻蚀，以形成隔墙图形； 对形成有隔墙图形的衬底基板进行灰化处理，以灰化掉所述光刻胶部分保留区域的光刻胶，然后对所述衬底基板再次进行刻蚀，以形成次隔垫物图形； 在次隔垫物图形形成后，将所述光刻胶完全保留区域的光刻胶剥离，以形成主隔垫物图形。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的制作方法，其特征在于， 在所述衬底基板上形成隔垫物图形的步骤之前还包括在所述衬底基板上形成滤色膜层图形的步骤。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于， 所述制作方法还包括在衬底基板上未形成有滤色膜层的一侧形成背面屏蔽电极图形的步骤；所述隔垫物图形直接形成在滤色膜层图形上。
7.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于， 在所述衬底基板上形成隔垫物图形的步骤之前还包括在所述滤色膜层图形上形成公共电极图形的步骤；所述隔垫物图形直接形成在公共电极图形上。
8.—种显示基板，包括衬底基板及设置在其上的隔垫物，其中，所述隔垫物采用不透光的材料制成，并且所述隔垫物组成图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。
9.根据权利要8所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物采用黑色不透光树脂制成。
10.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物包括主隔垫物、次隔垫物和隔墙，所述次隔垫物的高度介于主隔垫物的高度和隔墙的高度之间，所述隔墙设置在主隔垫物与次隔垫物之间，并且所述主隔垫物与次隔垫物间隔设置。
11.根据权利要求8-10中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括滤色膜层，所述滤色膜层设置在衬底基板与隔垫物之间。
12.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括背面屏蔽电极，所述背面屏蔽电极设置在衬底基板上未设置有滤色膜层的一侧。
13.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括公共电极，所述公共电极设置在滤色膜层上，所述隔垫物设置在公共电极上。
14.一种显示装置，包括权利要求8-13中任一项所述的显示基板。
全文摘要
本发明提供一种显示基板的制作方法，包括在衬底基板上形成隔垫物图形的步骤，其中，所述隔垫物采用不透光的材料形成，并且所述隔垫物图形在所述衬底基板上分隔出多个像素区域。相应地，提供一种采用该方法制成的显示基板、以及包括所述显示基板的显示装置。本发明所述显示基板的制作方法以及采用该方法制成的显示基板能够减少构图工艺次数。
文档编号G02F1/1339GK102854668SQ201210359030
公开日2013年1月2日 申请日期2012年9月24日 优先权日2012年9月24日
发明者庞立斌, 果银虎, 赵迎旭 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司