一种阵列基板及其制备方法、显示装置制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示【技术领域】。所述阵列基板包括：呈阵列状排列的多个像素单元，每个所述像素单元包括相对设置的第一透明电极和彩色滤光单元，相邻的所述彩色滤光单元的边缘交叠设置，形成交叠区域；所述第一透明电极和所述彩色滤光单元之间设置有第一绝缘层，相邻的所述第一透明电极之间设有凸起，所述凸起至少包括所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分，且所述凸起的顶点高于所述第一透明电极的上表面。当该阵列基板应用于显示装置时，可减少相邻的第一透明电极之间电场的干扰，降低相邻的像素单元之间的混色和漏光现象，提高显示装置的显示效果。
【专利说明】
一种阵列基板及其制备方法、显示装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示【技术领域】，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示装置。
【背景技术】
[0002]随着薄膜晶体管液晶显示(TFT-1XD Display)技术的发展和进步，液晶显示器装置已经取代了阴极射线管显示装置成为了日常显示领域的主流显示装置。
[0003]目前，为了不断提高液晶显示装置显示图像的质量，其分辨率在不断地提高，力求为消费者提供更为清晰逼真的显示画面。而分辨率的定义为液晶显示装置中每英寸面积内的像素单元的数量，这样一来，分辨率越高，则每英寸面积内的像素单元的数量就越多，致使每个液晶显示装置中像素单元的尺寸也就越来越小，进而使得相邻的两个像素单元中的像素电极之间的间距也越来越小，如图1所示，当给像素电极10通入一定的工作电压时，导致相邻的两个像素电极10之间的电场发生干扰(如图中箭头所示)，从而影响显示画面的质量。
[0004]例如，如图2所示，当仅要求某一像素单元(标记为a)对应的液晶分子12偏转而与该像素单元相邻的另一个像素单元(标记为b)对应液晶分子12不发生偏转时，由于像素单元a与像素单元b之间的间隔很小，使得相邻的两个像素电极10之间的电场发生干扰，导致相邻的像素单元a与像素单元b之间的液晶分子12、以及像素单元b靠近像素单元a的边缘处对应的液晶分子12发生偏转，从而使液晶显示装置中相邻的像素单元产生混色、漏光等现象，影响了液晶显示装置的显示的效果。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，当该阵列基板应用于显示装置时，可减轻相邻的第一透明电极之间电场的干扰，降低相邻的像素单元之间的混色和漏光现象，提高显示装置的显示效果。
[0006]为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案:
[0007]一种阵列基板，包括:呈阵列状排列的多个像素单元，每个所述像素单元包括相对设置的第一透明电极和彩色滤光单元，其中，
[0008]相邻的所述彩色滤光单元的边缘交叠设置，形成交叠区域；
[0009]所述第一透明电极和所述彩色滤光单元之间设置有第一绝缘层，相邻的所述第一透明电极之间设有凸起，所述凸起至少包括所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分，且所述凸起的顶点高于所述第一透明电极的上表面。
[0010]优选地，所述凸起为所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分。
[0011]可选地，所述凸起包括第一凸起部和位于所述第一凸起部上方的第二凸起部；其中，
[0012]所述第一凸起部由相邻的所述彩色滤光单元的交叠区域构成，所述第二凸起部为所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分。
[0013]进一步地，上述阵列基板还包括:衬底基板，设于所述衬底基板上的多条栅线和多条数据线；所述凸起与至少一条所述栅线对应，和/或，所述凸起与至少一条所述数据线对应。
[0014]优选地,所述凸起高出所述第一透明电极的上表面的高度为14!11?241]1,所述凸起的宽度大于所述栅线的宽度，所述凸起的宽度与所述栅线的宽度之差为3 μ m?6 μ m，所述凸起的宽度大于所述数据线的宽度，所述凸起的宽度与所述数据线的宽度之差为3 μ m ?6 μ m0
[0015]进一步地，上述阵列基板还包括黑矩阵，所述黑矩阵位于相邻的所述像素单元之间，并与所述凸起对应。
[0016]进一步地，每个所述像素单元还包括:位于所述第一透明电极上方的第二透明电极，设于所述第二透明电极和所述第一透明电极之间的第二绝缘层；所述凸起还包括所述第二绝缘层中对应所述交叠区的部分，所述凸起的顶点高于所述第二透明电极的上表面。
[0017]可选地，所述第一透明电极为像素电极，所述第二透明电极为公共电极，或，所述第一透明电极为公共电极，所述第二透明电极为像素电极。
[0018]优选地，所述凸起包括:第一凸起部，位于所述第一凸起部上方的第二凸起部，位于所述第二凸起部上方的第三凸起部；其中，
[0019]所述第一凸起部由相邻的所述彩色滤光单元的交叠区域构成；所述第二凸起部为所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分；所述第三凸起部为所述第二绝缘层中对应所述交叠区域的部分。
[0020]本发明同时还提供了一种显示装置，包括上述技术方案所提的任一种阵列基板。
[0021]本发明同时还提供了一种阵列基板的制备方法，包括:
[0022]形成彩色滤光层，所述彩色滤光层包括呈阵列状排列的多个彩色滤光单元，相邻的所述彩色滤光单元的颜色不同，且相邻的所述彩色滤光单元的边缘交叠设置，形成交叠区域；
[0023]在所述彩色滤光层上形成第一绝缘层和凸起，所述凸起至少包括所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分；
[0024]在所述第一绝缘层上形成呈阵列状排列的多个所述第一透明电极，每个所述第一透明电极与一个所述彩色滤光单元对应；所述凸起位于相邻的所述第一透明电极之间，且所述凸起的顶点高于所述第一透明电极的上表面。
[0025]优选地，在所述彩色滤光层上形成第一绝缘层和凸起的步骤，其中所述凸起的制备方法具体包括:
[0026]在所述彩色滤光层上形成绝缘膜层；
[0027]通过构图工艺形成第一绝缘层和所述第一绝缘层对应所述交叠区域的凸起。
[0028]可选地，在所述彩色滤光层上形成第一绝缘层和凸起的步骤，其中所述凸起的制备方法具体包括:
[0029]相邻的所述彩色滤光单元的边缘交叠形成第一凸起部；
[0030]形成所述第一绝缘层时在所述第一凸起部上自然形成第二凸起部。
[0031]进一步地，上述阵列基板的制备方法还包括:
[0032]在所述多个第一透明电极上形成第二绝缘层；
[0033]在所述第二绝缘层上形成多个第二透明电极，其中，所述凸起还包括第二绝缘层中对应所述交叠区的部分，所述凸起的顶点高于所述第二透明电极的上表面。
[0034]在本发明提供的阵列基板中，相邻的第一透明电极之间设有凸起，因此，当给第一透明电极通入一定的工作电压时，利用凸起的隔离作用，会明显减轻相邻的第一透明电极之间的电场干扰现象，从而可以减轻该干扰电场对位于相邻的第一透明电极之间的液晶分子的影响，进而降低相邻的像素单元之间的混色和漏光现象，提高了显示装置的显示效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0035]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0036]图1为现有技术中的阵列基板的结构示意图；
[0037]图2为现有技术中的阵列基板漏光性测试结果示意图；
[0038]图3为本发明实施例中的阵列基板的结构示意图一；
[0039]图4为本发明实施例中的阵列基板漏光性测试结果示意图；
[0040]图5为本发明实施例中的阵列基板的结构示意图二 ；
[0041]图6为本发明实施例中的阵列基板的平面示意图一；
[0042]图7为本发明实施例中的阵列基板的平面示意图二 ；
[0043]图8为本发明实施例中的阵列基板的平面示意图三；
[0044]图9为本发明实施例中的阵列基板的平面示意图四；
[0045]图10为本发明实施例中的阵列基板的平面示意图五；
[0046]图11为本发明实施例中的阵列基板的平面示意图六；
[0047]图12为本发明实施例中的阵列基板的平面示意图七；
[0048]图13为本发明实施例中的阵列基板的平面示意图八；
[0049]图14为本发明实施例中的阵列基板的制备方法的流程示意图一；
[0050]图15为本发明实施例中的阵列基板的制备方法的流程示意图二。
[0051]附图标记说明:
[0052]1-第一透明电极，2-第一绝缘层，
[0053]3-彩色滤光单元，4-凸起，
[0054]5-衬底基板，6-数据线，
[0055]7-黑矩阵，8-第二绝缘层，
[0056]9-第二透明电极，10-像素电极，
[0057]12-液晶分子，41-第一凸起部，
[0058]42-第二凸起部，43-第三凸起部。
【具体实施方式】
[0059]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0060]实施例一
[0061]请参阅图3，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括:呈阵列状排列的多个像素单元，每个像素单元包括相对设置的第一透明电极I和彩色滤光单元3，其中，
[0062]相邻的彩色滤光单元3的边缘交叠设置，形成交叠区域；
[0063]第一透明电极I和彩色滤光单元3之间设置有第一绝缘层2，相邻的第一透明电极I之间设有凸起4，凸起4至少包括第一绝缘层2中对应交叠区域的部分，且凸起4的顶点高于第一透明电极I的上表面。
[0064]当上述阵列基板应用于显示装置中时，因在相邻的第一透明电极I之间设有凸起4，该凸起4可以减轻相邻的第一透明电极I之间的电场干扰现象，从而可以减轻电场干扰现象对位于相邻的第一透明电极I之间的液晶分子12的影响，进而降低了相邻的像素单元之间的混色和漏光现象，提高了显示装置的显示效果。
[0065]具体地，请参阅图4，像素单元a中的液晶分子12可在所对应的第一透明电极I形成的电场作用下发生偏转，由于凸起4的隔离作用，可以减轻该第一透明电极I对与其相邻的像素单元b内的另一个第一透明电极I的电场干扰，从而可以减轻位于相邻的第一透明电极I之间的液晶分子12以及像素单元b靠近像素单元a的边缘所对应的液晶分子12发生偏转，进而可以减轻显示装置中的相邻的两个像素单元之间的混色和漏光现象，提高了显示效果。
[0066]请继续参阅图3，凸起4包括第一凸起部41和位于第一凸起部41上方的第二凸起部42 ;其中，第一凸起部41由相邻的彩色滤光单元3的交叠区域构成，第二凸起部42为第一绝缘层2中对应交叠区域的部分。具体地，当相邻的彩色滤光单元3的边缘交叠设置时，在相邻的彩色滤光单元3的交叠区域形成高出彩色滤光单元3主体、如图3所示的第一凸起部41，且构成第一凸起部41的相邻的彩色滤光单元3的颜色不同；因相邻的彩色滤光单元3的交叠区域形成有第一凸起部41，因此，当在彩色滤光单元3上形成第一绝缘层2时，会在第一绝缘层2上自然形成第二凸起部42，第二凸起部42如图3所示覆盖在第一凸起部41上。
[0067]上述凸起4包括第一凸起部41和第二凸起部42，其中，第一凸起部41是由相邻的彩色滤光单元3交叠形成；但不限于此，例如，当相邻的彩色滤光单元3的交叠区域没有形成高出彩色滤光单元3主体的第一凸起部41时，可以在相邻的彩色滤光单元3的交叠区域设置支撑垫，在形成第一绝缘层2时也会在该支撑垫上自然形成第二凸起部42，此时，凸起4包括支撑垫和覆盖在支撑垫上的第二凸起部42。又如，当相邻的彩色滤光单元3的交叠区域没有形成高出彩色滤光单元3主体的第一凸起部41时，在彩色滤光单元3上形成绝缘膜层，利用一次构图工艺在该绝缘膜层上形成第一绝缘层2和凸起4，此时，凸起4为第一绝缘层2中对应上述交叠区域的部分。
[0068]请参阅图5，在一种优选实施方式中，每个像素单元还包括:位于第一透明电极I上方的第二透明电极9，设于第二透明电极9和第一透明电极I之间的第二绝缘层8 ;凸起4还包括第二绝缘层8中对应交叠区的部分，凸起4的顶点高于第二透明电极9的上表面；其中，第一透明电极I为像素电极，第二透明电极9为公共电极，或，第一透明电极I为公共电极，第二透明电极9为像素电极，需要说明的是，上述阵列基板中，第一绝缘层2和第二绝缘层8可采用氧化硅、氮化硅、氧化铪或树脂等绝缘材料制成；像素电极可选用条状电极或板状电极，公共电极可选用条状电极或板状电极。
[0069]为了达到隔离效果，要求凸起4的顶点高出第二透明电极9的上表面，优选地，为了达到较佳地电场干扰隔离效果，凸起4的顶点与第二透明电极9的上表面之间的高度差为Ιμπι?2μπι。此时，凸起4包括:第一凸起部41，位于第一凸起部41上方的第二凸起部42，位于第二凸起部42上方的第三凸起部43 ;且，第一凸起部41由相邻的彩色滤光单元3的交叠区域构成；第二凸起部42为第一绝缘层2对应交叠区域的部分，覆盖在第一凸起部41上；第三凸起部43为第二绝缘层8对应交叠区域的部分，覆盖在第二凸起部42 ;具体形成过程与上述图3中凸起4的形成过程基本相同，因此不再赘述。
[0070]请继续参阅图3和图5，上述阵列基板还包括:衬底基板5，设于衬底基板5上的多条栅线(图中未示出)和多条数据线6 ;凸起4与至少一条栅线对应，和/或，凸起4与至少一条数据线6对应。由于栅线和数据线6可以界定像素单元，并且第一透明电极I位于像素单元内，基本充满像素单元；同时，凸起4位于相邻的第一透明电极I之间，可知凸起4对应栅线和/或数据线6设置。
[0071]具体地，在上述阵列基板中，通常各像素单元分别为矩形结构，包括长边和短边，并且由于显示装置在工作时，每一像素单元的第一透明电极I的电势不相等，因此，像素单元相互不接触，在像素单元排布于阵列基板上时，像素单元的长边和长边相邻，短边和短边相邻，长边和短边相垂直。由于第一透明电极I通常占满像素单元，即相邻的第一透明电极I的长边和长边相邻、短边和短边相邻，相邻的第一透明电极I之间有间隙，凸起4可位于相邻的第一透明电极I之间的间隙处。下面通过描述凸起4的排布方式来进一步说明本发明实施例提供的阵列基板的结构。
[0072]如图6所示，凸起4设置在相邻的第一透明电极I的长边之间，即相邻的两列第一透明电极I之间设有凸起4，且沿第一透明电极I的长边方向凸起4是间隔排布的。如图7所示，凸起4设置在相邻的第一透明电极I的短边之间，即两行像素单元之间对应设置有凸起4，且沿第一透明电极I的短边方向凸起4是间隔排布的。如图8所示，凸起4设置在相邻的第一透明电极I的长边之间，也设置在相邻的第一透明电极I的短边之间，即相邻两行像素单元之间和相邻的两列像素单元之间设置有凸起4，且凸起4沿第一透明电极I的长边方向和短边方向是间隔排布的。如图9所示，相邻的两行第一透明电极I为一组，凸起4设置在相邻两组中第一透明电极I的短边之间，即两组像素单元之间对应设置有凸起4，且沿第一透明电极I的短边方向凸起4是间隔排布的。
[0073]如图10所示，凸起4设置在相邻的第一透明电极I的长边之间，即相邻的两列第一透明电极I之间设有凸起4，且沿第一透明电极I的长边方向凸起4是连续排布的。如图11所示，凸起4设置在相邻的第一透明电极I的短边之间，即相邻的两行第一透明电极I之间设有凸起4，且沿第一透明电极I的短边方向凸起4是连续排布的。如图12所示，相邻的两列第一透明电极I为一组，凸起4设置在相邻两组中第一透明电极I的长边之间，即两组像素单元之间对应设置有凸起4，且沿第一透明电极I的长边方向凸起4是连续排布的。如图13所示，凸起4设置在相邻的第一透明电极I的长边之间，也设置在相邻的第一透明电极I的短边之间，即相邻两行像素单元之间和相邻的两列像素单元之间设置有凸起4，且凸起4沿第一透明电极I的长边方向和短边方向是连续排布的。
[0074]请继续参阅图3和图5，为了达到较佳地隔离效果，凸起4高出第一透明电极I的上表面的高度为I μ m?2 μ m，凸起4的宽度大于栅线的宽度，凸起4的宽度与所述栅线的宽度之差为3 μ m?6 μ m，凸起4的宽度大于数据线6的宽度，凸起4的宽度与数据线6的宽度之差为3 μ m?6 μ m。
[0075]请继续参阅图3，为了进一步减少相邻像素单元之间的漏光，在本发明一个实施例中，阵列基板还包括黑矩阵7，黑矩阵7位于相邻的像素单元之间，并与凸起4对应。黑矩阵7可以设置在相邻彩色滤光单元的交叠区域部分下面，或者可以设置在相邻彩色滤光单元的交叠区域部分上面，或者还可以设置于第一绝缘层上面。由于黑矩阵的存在，相邻像素单元之间的凸起相对于第一透明电极上表面的高度进一步升高，因此，可进一步减轻相邻的像素单元之间的电场干扰和混光现象，提高了开口率进而提升了显示效果。此外，黑矩阵7与各条栅线和各条数据线6对应。
[0076]在上述阵列基板中，因彩色滤光单元设置在阵列基板上，因此，上述阵列基板也称为COA(Color Filter On Array)阵列基板。所述阵列基板可具体应用在扭曲向列型(Twisted Nematic,简称TN)模式的显示装置中，也可以应用在高级超维场转换(AdvancedSuper Dimens1n Switch,简称ADS)模式的显示装置中,还可以应用在宽视角平面转换(InPlane Switching,简称IPS)模式的显示装置中。
[0077]本发明实施例还提供了一种包括上述的阵列基板的显示装置，所述显示装置可以为:液晶面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。因显示装置所采用的阵列基板中，相邻的第一透明电极之间设有凸起，该凸起可以减轻相邻的第一透明电极之间的电场干扰现象，从而可以减轻电场干扰现象对位于相邻的第一透明电极之间的液晶分子的影响，降低了相邻的像素单元之间的混色和漏光现象，进而提高了显示装置的显示效果。
[0078]实施例二
[0079]请参阅图3和图14，本发明实施例提供一种阵列基板的制备方法，该制备方法包括:
[0080]101、形成彩色滤光层，所述彩色滤光层包括呈阵列状排列的多个彩色滤光单元3，相邻的彩色滤光单元3的颜色不同，且相邻的彩色滤光单元3的边缘交叠设置，形成交叠区域；
[0081]102、在彩色滤光层上形成第一绝缘层2和凸起4，凸起4至少包括第一绝缘层2中对应交叠区域的部分；
[0082]103、在第一绝缘层2上形成呈阵列状排列的多个第一透明电极1，每个第一透明电极I与一个彩色滤光单元3对应；凸起4位于相邻的第一透明电极I之间，且凸起4的顶点高于第一透明电极I的上表面。
[0083]在上述阵列基板的制备过程中，在彩色滤光层上形成第一绝缘层2和凸起4的步骤，其中所述凸起的制备方法具体包括:在彩色滤光层上形成绝缘膜层，通过半色调掩膜构图工艺形成第一绝缘层2和第一绝缘层2对应交叠区域的凸起4。具体地，首先通过涂布或涂覆的方式在彩色滤光层上形成一层绝缘膜层，该绝缘膜层可由透明树脂材料制成；然后，通过成膜、曝光、显影等工艺部分去除交叠区域以外的透明树脂材料，保留对应交叠区域的透明树脂材料，从而形成所需的第一绝缘层2和凸起4。
[0084]在彩色滤光层上形成第一绝缘层2和凸起4的步骤，其中凸起4的制备方法还可以通过如下方法形成:
[0085]相邻的彩色滤光单元3的边缘交叠形成第一凸起部41，形成第一绝缘层2时在第一凸起部41上自然形成第二凸起部42。具体地，当相邻的彩色滤光单元3的边缘交叠设置时，在相邻的彩色滤光单元3的交叠区域形成高出彩色滤光单元3主体、如图3所示的第一凸起部41，因相邻的彩色滤光单元3的交叠区域形成有第一凸起部41，因此，当通过涂布的方式或铺设的方式在彩色滤光层上形成第一绝缘层2时,会在第一绝缘层2上自然形成第二凸起部42，第二凸起部42如图3所示覆盖在第一凸起部41上。
[0086]当然，当相邻的彩色滤光单元3的交叠区域没有形成高出彩色滤光单元3主体的第一凸起部41时，上述凸起4还可以通过如下方法制备:在彩色滤光单元3上形成第一绝缘层2后，利用一次构图工艺形成所需的凸起4，此时，凸起4包括第一绝缘层2中对应上述交叠区域的部分。
[0087]请参阅图5和图15，进一步地，上述阵列基板的制备方法还包括:
[0088]104、在多个第一透明电极I上形成第二绝缘层8 ；
[0089]105、在第二绝缘层8上形成多个第二透明电极9，其中，凸起4还包括第二绝缘层8中对应交叠区的部分，凸起4的顶点高于第二透明电极9的上表面。
[0090]当通过涂布的方式或铺设的方式在第一透明电极I上形成第二绝缘层8时，因第一绝缘层2上形成有第二凸起部42，因此，会在第二绝缘层8上自然形成第三凸起部43。
[0091]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本【技术领域】的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【权利要求】
1.一种阵列基板，包括:呈阵列状排列的多个像素单元，每个所述像素单元包括相对设置的第一透明电极和彩色滤光单元，其特征在于， 相邻的所述彩色滤光单元的边缘交叠设置，形成交叠区域； 所述第一透明电极和所述彩色滤光单元之间设置有第一绝缘层，相邻的所述第一透明电极之间设有凸起，所述凸起至少包括所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分，且所述凸起的顶点高于所述第一透明电极的上表面。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起为所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起包括第一凸起部和位于所述第一凸起部上方的第二凸起部；其中， 所述第一凸起部由相邻的所述彩色滤光单元的交叠区域构成，所述第二凸起部为所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分。
4.根据权利要求1-3任一所述的阵列基板，其特征在于，还包括:衬底基板，设于所述衬底基板上的多条栅线和多条数据线；所述凸起与至少一条所述栅线对应，和/或，所述凸起与至少一条所述数据线对应。
5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起高出所述第一透明电极的上表面的高度为I μ m?2 μ m，所述凸起的宽度大于所述栅线的宽度，所述凸起的宽度与所述栅线的宽度之差为3 μ m?6 μ m，所述凸起的宽度大于所述数据线的宽度，所述凸起的宽度与所述数据线的宽度之差为3 μ m?6 μ m。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括黑矩阵，所述黑矩阵位于相邻的所述像素单元之间，并与所述凸起对应。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，每个所述像素单元还包括:位于所述第一透明电极上方的第二透明电极，设于所述第二透明电极和所述第一透明电极之间的第二绝缘层； 所述凸起还包括第二绝缘层中对应所述交叠区的部分，所述凸起的顶点高于所述第二透明电极的上表面。
8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述第一透明电极为像素电极，所述第二透明电极为公共电极，或，所述第一透明电极为公共电极，所述第二透明电极为像素电极。
9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起包括:第一凸起部，位于所述第一凸起部上方的第二凸起部，位于所述第二凸起部上方的第三凸起部；其中， 所述第一凸起部由相邻的所述彩色滤光单元的交叠区域构成；所述第二凸起部为所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分；所述第三凸起部为所述第二绝缘层中对应所述交叠区域的部分。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的阵列基板。
11.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括: 形成彩色滤光层，所述彩色滤光层包括呈阵列状排列的多个彩色滤光单元，相邻的所述彩色滤光单元的颜色不同，且相邻的所述彩色滤光单元的边缘交叠设置，形成交叠区域； 在所述彩色滤光层上形成第一绝缘层和凸起，所述凸起至少包括所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分； 在所述第一绝缘层上形成呈阵列状排列的多个所述第一透明电极，每个所述第一透明电极与一个所述彩色滤光单元对应；所述凸起位于相邻的所述第一透明电极之间，且所述凸起的顶点高于所述第一透明电极的上表面。
12.根据权利要求11所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，在所述彩色滤光层上形成第一绝缘层和凸起的步骤，其中所述凸起的制备方法具体包括: 在所述彩色滤光层上形成绝缘膜层； 通过构图工艺形成第一绝缘层和所述第一绝缘层对应所述交叠区域的凸起。
13.根据权利要求11所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，在所述彩色滤光层上形成第一绝缘层和凸起的步骤，其中所述凸起的制备方法具体包括: 相邻的所述彩色滤光单元的边缘交叠形成第一凸起部； 形成所述第一绝缘层时在所述第一凸起部上自然形成第二凸起部。
14.根据权利要求11-13任一所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，还包括: 在所述多个第一透明电极上形成第二绝缘层； 在所述第二绝缘层上形成多个第二透明电极，其中，所述凸起还包括所述第二绝缘层中对应所述交叠区的部分，所述凸起的顶点高于所述第二透明电极的上表面。
【文档编号】G02F1/1333GK104166280SQ201410355555
【公开日】2014年11月26日 申请日期:2014年7月24日 优先权日:2014年7月24日
【发明者】姚琪, 张锋, 曹占锋, 舒适 申请人:京东方科技集团股份有限公司